一种提高掩模条宽（CD）性能方法的研究

中国半导体行业协会封装分会会刊

中国电子学会电子制造与封装技术分会会刊

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一种提高掩模条宽（CD）性能方法的研究

刘维维, 尤　春, 季书凤, 胡　超

Study for Improvement in Mask Critical Dimension Performance

LIU Weiwei, YOU Chun, JI Shufeng, HU Chao

电子与封装 . 2018, (9): 42 -44 . DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2018.0103