中国半导体行业协会封装分会会刊
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芯粒测试技术综述
解维坤, 蔡志匡, 刘小婷, 陈龙, 张凯虹, 王厚军
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0170
摘要
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2948
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(2679KB)(
867
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可视化
随着半导体工艺的发展,芯片工艺提升愈发困难,摩尔定律日趋放缓,而芯粒集成技术促进了多芯片封装的发展,有效地延续了摩尔定律。以2.5D、3D集成为主的芯粒异构集成芯片的测试方法与传统2D芯片测试有所不同,带来一些新的测试挑战。从当前芯粒测试的挑战分析入手,介绍了芯粒互连标准、互连测试和基于不同测试访问标准的可测性设计(DFT)方法,着重阐述各方法的优缺点以及相互之间的联系与区别,旨在帮助读者对芯粒测试技术进行系统性了解。
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2023年第23卷第11期 pp. 110101
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一种高增益、高带宽全差分运算放大器的设计
彭春雨;张伟强;蔺智挺;吴秀龙
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0089
摘要
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2098
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(1035KB)(
741
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可视化
采用增益提升(Gain-boosting)技术,使用2个三输入管的折叠式共源共栅运算放大器(运放)作为辅助运放,设计了一种宽输入共模范围的高增益、高带宽的全差分运算放大器。主运放输入部分由一对NMOS管和一对PMOS管共同构成,其输入跨导提高至由单MOS管构成的运放输入跨导的2倍。主运放输入跨导的提高间接提升了主运放的增益和带宽。而辅助运放在不改变主运放带宽的同时,通过降低主运放的主极点增大输出阻抗,再次提升主运放的增益,达到了高增益、高带宽的目的。该运算放大器采用商用55 nm CMOS工艺设计,经仿真可得,当负载电容为5 pF时,运放低频增益为115 dB,增益带宽积为209 MHz,总功耗为2.8 mW。
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2023年第23卷第7期 pp. 070302
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多功能传感器集成综述
吕佩珏, 黄哲, 王晓明, 杨知雨, 林晨希, 王铭强, 杨洋, 胡然, 苟秋, 李嘉怡, 金玉丰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0098
摘要
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1821
)
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(3016KB)(
662
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可视化
随着5G、智能汽车、物联网(IoT)、智慧医疗等市场的快速增长,其对传感器需求广泛,要求传感器具备微型化、集成化、智能化、低功耗等特点。概述了国内外学者在环境、汽车和生物参数检测等领域应用多功能传感器集成的成果,阐释了多功能传感器集成的工艺兼容性及封装的关键技术,分析了多功能传感器集成在模型仿真、产品测试和热管理方面面临的严峻挑战。对多功能传感器集成方案进行了总结,并提出了未来发展趋势。
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2023年第23卷第8期 pp. 080201
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汽车电子电气架构的发展及趋势
周伟;陈旭乾;葛成华
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0006
摘要
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1811
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(2210KB)(
338
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可视化
随着汽车功能的日益增加,传统的电子电气(EE)架构面临很大的挑战,从而迫使整车的电子电气架构不断地演进,从传统的分布式向集中式转变,从面向信号的软件架构向面向服务的软件架构转变,从控制局域网络(CAN)、局域互联网络(LIN)总线向车载以太网通信架构转变。介绍了汽车电子电气架构的现状以及面临的挑战,概述了汽车电子电气架构的演进路线及具体方案技术,结合电子电气架构的演进趋势,对电气架构未来的发展方向提出展望。
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2024年第24卷第1期 pp. 010501
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人工智能芯片先进封装技术
田文超;谢昊伦;陈源明;赵静榕;张国光
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0011
摘要
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1794
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(3240KB)(
1126
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可视化
随着人工智能(AI)和集成电路的飞速发展,人工智能芯片逐渐成为全球科技竞争的焦点。在后摩尔时代,AI芯片的算力提升和功耗降低越来越依靠具有硅通孔、微凸点、异构集成、Chiplet等技术特点的先进封装技术。从AI芯片的分类与特点出发,对国内外典型先进封装技术进行分类与总结,在此基础上,对先进封装结构可靠性以及封装散热等方面面临的挑战进行总结并提出相应解决措施。面向AI应用,对先进封装技术的未来发展进行展望。
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2024年第24卷第1期 pp. 010204
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GaN HEMT热阻测试技术研究
邱金朋, 沈竞宇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0163
摘要
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1371
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(1310KB)(
262
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可视化
GaN作为第三代半导体材料的代表,具有优越的电学性能,被应用在诸多领域。随着功率密度提升、工作频率增加,GaN器件会产生明显的热效应,温度对GaN的性能及可靠性有直接影响,因此热阻测试及结温表征是非常重要的。根据GaN器件的结构、工作原理以及特性参数,结合JEDEC热阻测试的标准,对不同电压等级、不同封装结构的GaN器件进行测试,验证了使用导通电阻作为温度敏感参数的热阻测试方法的正确性。
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2023年第23卷第11期 pp. 110104
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基于内建自测试电路的NAND Flash测试方法
解维坤, 白月芃, 季伟伟, 王厚军
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0168
摘要
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1214
)
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(1268KB)(
145
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可视化
随着NAND Flash在存储器市场中的占比与日俱增,对NAND Flash的测试需求也越来越大。针对NAND Flash存储器中存在的故障类型进行讨论,并对现有测试算法进行分析,为提高故障覆盖率以及降低测试时间,对现有的March-like测试算法做出改进,改进算法比March-like算法的故障覆盖率提高了16.7%,测试时间减少了30%。完成存储器内建自测试(MBIST)电路设计,并设计了FPGA最小系统板并进行板级验证,结果验证了MBIST电路以及改进的测试算法的可行性。
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2023年第23卷第11期 pp. 110103
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集成电路成品测试的常见问题分析
倪宋斌,马美铭
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0173
摘要
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1126
)
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(1020KB)(
264
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可视化
随着集成电路产业的快速发展,芯片特征尺寸不断缩小,其集成度与复杂度却来越高,这使得集成电路测试的重要性不断上升。成品测试作为集成电路生产过程中的最后一步,其针对芯片电性能的测试也是最全面的。为了保证芯片在极端环境下仍可使用,一般在成品测试中会对芯片进行常温(25 ℃)、低温(-55 ℃)和高温(125 ℃)测试,其目的是剔除不良品。除了电性能不良造成的电路失效,还有因测试硬件老化或损坏、测试方法不当以及温度差异造成的假性失效。通过分析测试异常发生的原因,发现优化测试插座的选型和测试板的设计以及优化测试程序的设置可以减少测试异常,这些方法对提高测试准确性有一定帮助。
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2023年第23卷第12期 pp. 120104
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有机封装基板的芯片埋置技术研究进展
杨昆,朱家昌,吉勇,李轶楠,李杨
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0027
摘要
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1094
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(2884KB)(
789
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可视化
有机封装基板为IC提供支持、保护和电互联,是IC封装最关键的材料之一。系统级、微型化和低成本是IC封装的趋势,将有源、无源元件埋入封装基板,可以充分利用基板内部空间,释放更多表面空间,是减小系统封装体积的重要途径,因此有机封装基板的芯片埋置技术发展迅速。主要介绍有机封装基板的埋置技术发展过程,归纳了有机基板芯片埋置工艺路线类型,着重介绍了近十年不同的芯片埋置技术方案及其应用领域。在此基础上,对有机封装基板的埋置技术研究前景进行了展望。
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2024年第24卷第2期 pp. 020102
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基于ATE的千兆以太网收发器芯片测试方法
谢凌峰, 武新郑, 王建超
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0164
摘要
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1024
)
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(1747KB)(
164
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可视化
千兆以太网收发器芯片是一种最高能支持1000 Mbit/s传输速率的高速接口芯片。介绍了该类芯片的功能、硬件配置,针对ATE测试机台设计了相应的外围电路,在ATE测试机台上进行了寄存器读写测试和回环测试,利用测试机抓取了千兆以太网芯片输出的数据,测试结果验证了千兆以太网收发器芯片的功能正确性。
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2023年第23卷第11期 pp. 110102
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Flash型FPGA内嵌BRAM测试技术研究
雷星辰,季伟伟,陈龙,韩森
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0172
摘要
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1019
)
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(1086KB)(
100
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可视化
Flash型FPGA由于具有高可靠性、卓越的安全性和即插即用的功能,被广泛应用于军事及航空航天领域。Flash型FPGA的内部结构复杂而庞大,因此研究其测试技术的可靠性和准确性至关重要。块随机存储器(BRAM)作为FPGA内部重要的存储模块,在传统测试中存在故障覆盖率较低的问题。为了扩大故障覆盖范围,对March C+算法进行了改进,优化后算法对写干扰故障(WDF)、写破坏耦合故障(CFwd)、干扰耦合故障(CFds)和字内耦合故障的检测能力得到了显著提高。结果表明,优化后的算法相较于March C+算法,其故障覆盖率提高了25个百分点,且与时间复杂度相同的March SS算法相比,其故障覆盖率提高了5.8个百分点。
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2023年第23卷第12期 pp. 120103
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大尺寸有机基板的材料设计与封装翘曲控制
李志光,胡曾铭,张江陵,范国威,唐军旗,刘潜发,王珂
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0039
摘要
(
1011
)
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(1495KB)(
605
)
可视化
倒装芯片球栅阵列(FCBGA)基板具有尺寸大、层数多等特点,可以满足大尺寸芯片超高速运算的需求。随着芯片尺寸的增大,有机基板的翘曲问题变得更加突出,因此,需要对有机基板材料在热膨胀系数(CTE)、模量、树脂收缩率、应力控制等方面进行升级。对FCBGA基板使用的大尺寸有机基板材料进行研究,重点研究其关键性能参数,如CTE、模量和树脂收缩率等,进一步探讨了对树脂基体、无机填料和玻璃纤维布等材料的选择以及生产制造过程中的应力控制,并对大尺寸有机基板材料技术的发展趋势进行了展望。
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2024年第24卷第2期 pp. 020106
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Chiplet封装用有机基板的信号完整性设计
汤文学,孙莹,周立彦
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0026
摘要
(
1002
)
PDF
(2783KB)(
636
)
可视化
芯粒(Chiplet)技术带来了芯片规模、性能和成本的平衡,受到了业界和用户的高度关注。针对不同的Chiplet封装方案,对先进/标准封装方案中电气互连的参数与性能进行比较并解读。基于国内的有机基板工艺,从设计和仿真角度对Chiplet标准封装方案进行技术可行性研究。在合理的端接配置下,信号通道的性能可以达到UCIe的设计要求。结果表明,有机基板的低损耗、灵活布线等特性在一定程度上弥补了硅基板在互连密度和能效方面的短板。该研究为Chiplet通用协议的国产应用转化以及Chiplet封装设计提供了参考。
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2024年第24卷第2期 pp. 020101
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基于FCBGA封装应用的有机基板翘曲研究
李欣欣,李守委,陈鹏,周才圣
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0050
摘要
(
992
)
PDF
(2488KB)(
650
)
可视化
有机基板作为IC封装的重要载体,其制造材料的特性对封装工艺的稳定性及可靠性有重要影响。针对倒装芯片球栅阵列(FCBGA)有机基板在再流焊过程中的翘曲问题,使用热形变测试仪研究了不同尺寸和芯板厚度的有机基板在再流焊过程中的共面性及形变情况,研究FCBGA有机基板的翘曲行为。针对大尺寸FCBGA有机基板在再流焊过程中的翘曲问题,从脱湿、夹持载具以及再流焊曲线优化等方面提出改善措施,为FCBGA有机基板的封装应用提供参考。
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2024年第24卷第2期 pp. 020108
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测试原语:存储器故障最小检测序列的统一特征
肖寅东,王恩笙,路杉杉,戴志坚
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0169
摘要
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957
)
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(1217KB)(
215
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可视化
March算法作为一类高效的存储器测试算法,已在学术界得到广泛、深入的研究,并取得了卓越成果。然而,当前以故障原语为核心的故障建模方法无法直接应用于March算法的分析。提出了一种新的测试原语,将其作为故障原语与March算法之间的桥梁,以期简化测试算法的分析、生成过程。该测试原语描述了March算法检测对应故障所必须具备的共性特征,形成了高度灵活且可拓展的March算法分析单元。根据故障原语生成了对应的测试原语,通过理论分析证明了该测试原语具有完备性、唯一性和简洁性的特点。
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2023年第23卷第12期 pp. 120101
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集成电路有机基板倒装焊失效分析与改善
朱国灵,韩星,徐小明,季振凯
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0077
摘要
(
936
)
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(1456KB)(
445
)
可视化
为了满足产品便携化和多功能性的需求,芯片设计正朝着多功能和大规模集成的趋势发展,集成电路封装也逐步向大尺寸、高密度的方向演进,特别是倒装芯片技术的应用,可以实现更高的封装密度和更快的信号传输速度。然而,不同材料的热膨胀系数存在差异,热失配容易引发互联凸点开路失效。为研究有机基板倒装焊集成电路在封装制程中失效的原因,采用扫描电子显微镜(SEM)结合有限元分析法,模拟有机基板在温度循环和回流焊过程中的应力分布状态并进行分析,结果表明,在回流焊过程中有机基板四周边缘位置的凸点所受应力较大。采用磁性载具和在焊盘上预制焊料的方法可以显著降低电路失效风险。
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2024年第24卷第2期 pp. 020111
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有机封装基板常见失效模式与制程控制
周帅林,孟凡义,张领,李国有,滕少磊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0064
摘要
(
906
)
PDF
(2926KB)(
437
)
可视化
随着封装技术的迅速发展,集成电路封装需要具备微型化、多功能化、高频、高速、高性能以及低成本等特点。为了满足先进封装的需求,有机封装基板朝着小孔径、高布线密度、小尺寸等方向发展,这一发展趋势对基板的机械稳固性、散热性和电学性能提出了更高的要求,对内部互连可靠性、离子迁移以及焊点牢固性的控制带来很大挑战。研究了孔底开裂、离子迁移、焊点开裂等失效模式,分析其失效机理,总结失效模式的影响因素,有针对性地提出了有效的基板制程控制措施。
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2024年第24卷第2期 pp. 020109
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有机基板用增层膜性能与一致性的探讨
李会录,张国杰,魏韦华,李轶楠,刘卫清,杜博垚
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0032
摘要
(
886
)
PDF
(1790KB)(
347
)
可视化
增层膜是集成电路封装用有机基板的关键材料,起到绝缘、导热和的电气连接的作用。增层膜性能是由树脂体系、固化体系、填料以及膜的半固化处理等因素决定的。从国内外增层膜研究现状以及集成电路封装用有机基板的发展趋势出发,研究影响增层膜性能一致性的因素,并对增层膜低收缩率、高剥离力、低介电性和热稳定性的发展方向进行了探讨。控制电子级环氧树脂环氧当量、分子量和分子量大小分布等性能可实现膜加工性和性能一致性。环氧基的增层膜是高密度封装有机基板的主流产品,随着介电常数和损耗越来越小的要求,环氧树脂非极性和对称官能团的改性变得越来越重要。
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2024年第24卷第2期 pp. 020104
Select
三维异构集成的发展与挑战
马力,项敏,吴婷
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0143
摘要
(
879
)
PDF
(1982KB)(
716
)
可视化
三维异构集成技术带动着半导体技术的变革,用封装技术上的创新来突破制程工艺逼近极限带来的限制,是未来半导体行业内的关键技术。三维异构集成技术中的关键技术包括实现信号传输和互连的硅通孔/玻璃通孔技术、再布线层技术以及微凸点技术,不同关键技术相互融合、共同助力三维异构集成技术的发展。芯片间高效且可靠的通信互联推动着三维异构集成技术的发展,现阶段并行互联接口应用更为广泛。异构集成互联接口本质上并无优劣之分,应以是否满足应用需求作为判断的唯一标准。详述了三维异构集成技术在光电集成芯片及封装天线方面的最新进展。总结了目前三维异构集成发展所面临的协同设计挑战,从芯片封装设计和协同建模仿真等方面进行了概述。建议未来将机器学习、数字孪生等技术与三维异构集成封装相结合,注重系统级优化以及协同设计的发展,实现更加高效的平台预测。
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2024年第24卷第6期 pp. 060112
Select
BGA封装电路焊球外观异常解决方案研究
丁鹏飞,王恒彬,王建超
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0171
摘要
(
865
)
PDF
(1012KB)(
322
)
可视化
在使用常用测试插座进行BGA封装电路测试时,电路焊球外观会产生异常。为解决外观异常问题,以常用测试插座为基础,设计并实现了一种新型测试插座。常用测试插座为弹簧针式接触结构,新型测试插座的接触件采用无针式设计。通过实验验证在不同温度和工作电压下两种插座对BGA封装电路焊球外观的影响,并通过显微镜观察结果。试验结果表明,测试过程中优化设计后的插座能明显减少对BGA封装电路焊球外观的影响,同时,不同温度和工作电压对BGA封装电路焊球外观并无明显影响。
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2023年第23卷第12期 pp. 120102
Select
基于有机基板的化学镍钯浸金工艺应用与测评
刘彬灿,李轶楠
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0084
摘要
(
851
)
PDF
(1147KB)(
307
)
可视化
有机基板被广泛应用于电子封装领域,常见的表面处理工艺包括电镀镍金、化学镍金、浸锡、浸银等工艺。在众多表面处理工艺中,化学镍钯浸金工艺因其具有较好的综合性能展现出显著优势。化学镍钯浸金工艺是在化学镍金工艺的基础上增加了化镀钯环节,采用该工艺先对基板表面进行化镀镍处理,再进行化镀钯处理,最后完成化学浸金处理。钯镀层可以防止金在沉积过程中腐蚀镍镀层以及阻挡镍向金属间化合物(IMC)层扩散。利用X-Ray、电子扫描显微镜(SEM)、聚焦离子束(FIB)等图像分析方法,对比了不同厂商的化学镍钯浸金镀层的厚度、微观形貌及质量,结果表明,平整且致密的钯镀层可以有效避免镍腐蚀现象。
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2024年第24卷第2期 pp. 020110
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有机封装基板界面处理工艺对结合强度与可靠性的影响
梁梦楠,陈志强,张国杰,姚昕,李轶楠,张爱兵
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0037
摘要
(
828
)
PDF
(1989KB)(
507
)
可视化
封装基板分层是塑封电路常见的一种失效模式,塑封基板分层会导致整个电路出现开路问题。基板分层通常与其界面间结合强度不足、基板水汽等有关。研究了铜表面的粗化处理、味之素堆积膜(ABF)表面的等离子清洁对铜和ABF表面的形貌、粗糙度以及界面间结合的影响,粗化后的铜表面与ABF树脂的剥离界面分析结果证明界面间断裂失效属于物理结合力失效。同时还对基板加工过程的吸水率及不同烘烤参数对除水效果的影响进行了研究。通过引入铜面粗化处理、等离子清洁和增层前烘烤,解决了基板封装后出现分层的问题,同时封装后的产品通过了部分热可靠性测试。
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2024年第24卷第2期 pp. 020105
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基于高密度有机基板工艺的Ka波段天线设计与制造
庞影影,周立彦,王剑峰,王波
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0031
摘要
(
754
)
PDF
(1463KB)(
312
)
可视化
与传统集成技术相比,有机基板的多层结构不仅可以集成相控阵天线、叠层微带天线等多款天线,其在布线密度、芯片内埋、封装一体化方面也展现出较大优势。介绍了基于高密度有机基板工艺的Ka波段叠层微带天线设计与制造过程,并通过测试验证了其反射特性。使用有机基板集成天线,有利于实现无线通信系统的小型化,其在通信和雷达探测领域有较大的应用潜力。
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2024年第24卷第2期 pp. 020103
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FinFET/GAAFET/CFET纳电子学的研究进展
赵正平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0094
摘要
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735
)
PDF
(3676KB)(
458
)
可视化
集成电路延续摩尔定律的发展正在从鳍栅场效应晶体管(FinFET)纳电子学时代向原子水平上的埃米时代转变。综述了该转变阶段的三大创新发展热点,FinFET、环栅场效应晶体管(GAAFET)和互补场效应晶体管(CFET)纳电子学的发展历程和最新进展。在FinFET纳电子领域综述并分析了当今Si基CMOS集成电路的发展现状,包含覆盖了22 nm、14 nm、10 nm、7 nm和5 nm 5个发展代次的创新特点和3 nm技术节点的创新和应用。在GAAFET纳电子学领域综述并分析了各类GAAFET的结构创新,2 nm技术节点的关键技术突破,3 nm技术节点的多桥沟道场效应晶体管技术平台创新与应用,以及GAAFET有关工艺、器件结构、电路和材料等方面的创新。在CFET纳电子学领域综述并分析了CFET技术在器件模型、堆叠工艺、单胞电路设计和三维集成等方面的创新,展现出CFET超越2 nm技术节点的发展新态势。
参考文献
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2024年第24卷第8期 pp. 080401
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高算力Chiplet的热管理技术研究进展
*
冯剑雨,陈钏,曹立强,王启东,付融
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0140
摘要
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667
)
PDF
(4221KB)(
628
)
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随着集成电路尺寸微缩逼近物理极限以及受限于光罩面积,芯粒(Chiplet)技术将成为集成电路发展的关键路径之一,支撑人工智能和高性能计算不断发展。大尺寸、高算力Chiplet面临着热功耗高、热分布不均、热输运困难等挑战,Chiplet热管理已成为后摩尔时代集成电路发展的重大挑战之一。综述了可用于Chiplet热管理的关键技术发展趋势和现状,包含微通道冷却、相变冷却、射流冷却、浸没式冷却、热界面材料(TIM)、热分布不均的解决办法、多物理场耦合的研究等,为推进大尺寸、高算力Chiplet热管理的实际应用提供参考。
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2024年第24卷第10期 pp. 100205
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晶上系统:设计、集成及应用
刘冠东;王伟豪;万智泉;段元星;张坤;李洁;戚定定;王传智;李顺斌;邓庆文;张汝云
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0091
摘要
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646
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可视化
晶上系统(SoW)是近年来兴起的一种晶圆级超大规模集成技术。SoW是在整个晶圆上集成多个同构同质或异构异质的芯粒,并且芯粒相互连接组成具有协同工作能力的晶圆级系统,是后摩尔时代进一步提升系统性能的有效技术方案。总结了SoW技术近年来的主要研究进展,对系统架构、网络拓扑、仿真建模、供电和散热等关键技术进行了介绍,并对SoW技术的发展和应用前景进行了展望。
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2024年第24卷第8期 pp. 080201
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封装用玻璃基板的热应力翘曲研究
闫伟伟;朱泽力;李景明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0001
摘要
(
627
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可视化
通过理论分析、仿真模拟、实验验证相结合的方法对封装用玻璃基板的热应力翘曲进行研究。结果表明,相较于传统的有机化合物基板,玻璃基板降低热应力翘曲的效果十分显著。以双材料板模型为研究对象,通过对不同模型进行分析对比,总结了不同因素对热应力翘曲的影响。增加玻璃基板的厚度对降低翘曲的效果最为显著。提高玻璃基板的热膨胀系数(CTE),使其接近堆积膜的CTE,有助于降低翘曲。对堆积膜进行较多的分区可以显著改善翘曲。同时,重力也是不可忽略的影响因素,产品的放置方式决定了翘曲方向并影响翘曲值。
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2024年第24卷第1期 pp. 010201
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多次回流焊后金属间化合物及焊点强度分析
常青松, 徐达, 袁彪, 魏少伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0114
摘要
(
621
)
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(943KB)(
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可视化
以BGA基板焊接为研究对象,分析了无铅焊料(SAC305)与NiPdAu镀层经过多次回流焊后金属间化合物(IMC)厚度与焊点强度的变化趋势。试验结果表明,通过优化SAC305锡球与Ni层焊盘的回流焊接温度曲线,IMC层的厚度可控制在2 μm左右。同时,镀层中Pd的存在降低了(Cu,Ni, Pd)
6
Sn
5
生长的活化能,抑制了不良IMC的形成。经过多次回流焊后,SAC305锡球与NiPdAu镀层的微观界面和剪切强度仍然保持着较好的水平,经过回流焊3次后的焊点仍具有较高的可靠性。
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2023年第23卷第8期 pp. 080207
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有机封装基板标准化工作现状及发展思考
李锟,曹易,田欣,薛超
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0040
摘要
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617
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(1620KB)(
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可视化
随着我国集成电路产业的发展,作为集成电路封装重要零部件的一种特殊印制电路板(PCB)——有机封装基板呈现出高速增长的态势,相应的标准化需求日渐显现。回顾了过去我国PCB领域标准化的方针,分析了工作方针调整的必要性。在梳理和总结有机封装基板产业发展关键点的基础上,提出了有机封装基板标准化工作新的发展思路,指出了基于客户联系、产品良率控制和原材料研制等方面的标准化工作重点任务。针对其发展趋势,聚焦嵌入式基板这个未来可能给整个有机封装基板产业链带来重组的着力点,提出了我国在这一产业变革中未来标准化工作的思路和任务。
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2024年第24卷第2期 pp. 020107
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先进封装RDL-first工艺研究进展
张政楷,戴飞虎,王成迁
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0134
摘要
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569
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(2325KB)(
479
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可视化
随着摩尔定律逐步达到极限,大量行业巨头暂停了7 nm以下工艺的研发,转而将目光投向先进封装领域。其中再布线先行(RDL-first)工艺作为先进封装技术的重要组成部分,因其具备高良率、高密度布线的优势吸引了大量研究者的目光。总结了RDL-first工艺的技术路线及优势,详细介绍其工艺进展,模拟其在程序中的应用,并对RDL-first工艺的发展方向进行展望,为RDL-first技术的进一步优化提供参考。
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2023年第23卷第10期 pp. 100205
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基于TSV的三维集成系统电热耦合仿真设计
王九如,朱智源
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0138
摘要
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546
)
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(2107KB)(
503
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可视化
三维集成系统利用垂直堆叠技术,实现高性能与低功耗,其中硅通孔(TSV)技术是三维互连成功实施的关键。TSV技术缩短互连距离,提升信号传输效率和电磁兼容性,但同时引发电热耦合问题,威胁三维集成电路性能的进一步提升。综述了基于TSV的三维集成电路中电热耦合现象的仿真设计进展,详细介绍了电气和热仿真设计方法,并探究了电热耦合问题的潜在影响及缓解策略。为理解和应对三维集成系统中的电热耦合挑战提供了系统的分析,并对未来研究方向提供了指导。
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2024年第24卷第6期 pp. 060113
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集成电路异构集成封装技术进展
陈祎;岳琨;吕复强;姚大平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0125
摘要
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543
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(3136KB)(
609
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可视化
随着集成电路临界尺寸不断微缩,摩尔定律的持续性受到了越来越大的挑战,这使得不同类型芯片的异构集成技术成为后摩尔时代至关重要的技术趋势。先进封装技术正在经历一场转型,其关注点逐渐从单一器件转向整体系统性能和成本。传统的芯片封装正朝着三维堆叠、多功能集成和混合异构集成的方向发展,以实现集成产品的高度集成、低功耗、微型化和高可靠性等优势。概述了芯片异构集成封装技术的发展轨迹和研究现状,并探讨了面临的技术挑战以及未来的发展趋势。
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2024年第24卷第9期 pp. 090207
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倒装芯片的底部填充工艺研究
李圣贤,丁增千
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0085
摘要
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472
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(1443KB)(
301
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可视化
倒装芯片技术被广泛应用于先进封装技术领域,可以有效解决芯片与基板之间因应力不匹配产生的可靠性问题。底部填充工艺通过在芯片和基板的间隙填充有机胶,使得应力可以被重新分配,进而起到保护焊点的作用,提升封装可靠性。随着芯片不断向轻薄化方向发展,芯片尺寸的缩减和结构的精细化导致对填充材料的性能及封装可靠性的要求不断提高,底部填充工艺面临着更大的挑战。材料设计、工艺优化等措施是应对潜在挑战的有效方式。
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2024年第24卷第7期 pp. 070208
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倒装芯片焊点缺陷无损检测技术
李可;朱逸;顾杰斐;赵新维;宿磊;MichaelPecht
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0110
摘要
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452
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392
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可视化
倒装芯片技术因其高封装密度和高可靠性等优势,已成为微电子封装的主要发展方向。然而,随着倒装芯片焊点尺寸和间距迅速减小,焊点往往容易出现裂纹、空洞、缺球等微缺陷,严重影响芯片性能并导致芯片失效。因此,对倒装芯片进行缺陷检测以提高电子封装的可靠性至关重要。无损检测技术作为工业领域一种重要的缺陷检测手段,已被成功应用于检测焊点缺陷,常用方法包括光学检测、热红外检测、X射线检测、超声检测、振动检测等。分别阐述了以上无损检测方法的原理及其在焊点缺陷检测领域应用的主要成果,并总结了无损检测方法的优缺点。
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2024年第24卷第9期 pp. 090204
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柔性有机发光二极管的薄膜封装研究进展
*
周钰卜;高桦宇;郑华;邹建华;林生晃;李显博;刘佰全
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0086
摘要
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426
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可视化
柔性有机发光二极管(OLED)因使用柔性衬底而对环境中的水氧更加敏感,这对封装技术提出了更高的要求。目前,柔性OLED封装技术中最具希望的发展方向是可柔性化、水氧隔离能力优异的薄膜封装(TFE)技术。TFE是在OLED表面制备一层或者多层超薄的薄膜材料,以阻隔水氧侵蚀的封装技术,其关键在于制备水氧隔离能力优异的薄膜并避免对OLED器件性能产生影响。介绍了柔性OLED的衬底选择和传统的刚性封装技术,阐明了TFE的优势,并通过无机/有机薄膜的制备及TFE采用的在线封装和离线封装2种方法,对柔性TFE的发展现状进行了总结,并对柔性TFE的发展做出了展望。
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2023年第23卷第7期 pp. 070203
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无助焊剂甲酸回流技术在铜柱凸点回流焊中的应用
刘冰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0133
摘要
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414
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(1723KB)(
328
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可视化
摩尔定律放缓,先进制程逼近物理极限,先进封装朝连接密集化、堆叠多样化和功能系统化方向发展,这一趋势使得铜柱凸点互连可靠性更具挑战性。回流焊是形成铜柱凸点的关键工艺,回流后凸点质量对于互连可靠性至关重要。对传统助焊剂回流用于铜柱凸点回流焊的劣势进行了简要阐述,综述了甲酸回流技术用于铜柱凸点回流焊的可行性,重点从还原效果、焊料润湿性、清洁性方面进行评述。概述了甲酸回流技术的原理和工艺流程,总结了其相较于助焊剂回流技术在产品质量、成本等方面的优势,并介绍了当下处于研究阶段的2种新型无助焊剂回流技术,展望了回流技术的未来发展趋势。
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2024年第24卷第10期 pp. 100401
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基于RISC-V和可重构智能加速核的异构SoC系统设计
*
权良华, 王艺霖, 黎思越, 李世平, 陈铠, 邓松峰, 何国强, 冯书谊, 傅玉祥, 李丽
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0121
摘要
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392
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(1941KB)(
247
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可视化
提出了可重构智能加速核架构,并设计了可重构激活函数乘累加单元(ACT-MAC),旨在提高低功耗约束下的运算资源利用率。加速核基于ACT-MAC设计了可重构计算阵列,支持卷积、池化、长短期记忆网络(LSTM)及激活函数等算法的硬件加速。加速核采用乒乓流水线设计,优化了存储分配,显著提升了数据处理效率。该加速核通过协处理器指令拓展(NICE)接口与开源RISC-V处理器集成,形成了完整的片上系统(SoC)。该设计在Nexys Video可编程逻辑门阵列(FPGA)中实现了芯片原型,并在其上部署了LeNet、VGG16和LSTM网络,展示了该SoC芯片原型在图像分类和语义识别等领域的应用潜力。与最近的工作相比,该设计在提升了数字信号处理(DSP)效率并维持了高能效比的同时,支持多种人工智能算法的硬件加速,展现了在嵌入式应用场景中的广阔应用前景。
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2024年第24卷第9期 pp. 090301
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高功率半导体用纳米银焊膏的研究现状
*
张宸赫,李盼桢,董浩楠,陈柏杉,黄哲,唐思危,马运柱,刘文胜
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0059
摘要
(
388
)
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)
可视化
在第3代半导体作为核心部件的前提下,更紧凑、高频率、高功率的电子器件在射频和微波电子、能源转换与储存、军事雷达和通信等领域展现出广泛的应用潜力。然而,高性能电子器件对其封装材料的导电性、导热性以及连接处的机械性能提出了更为严格的要求。纳米银焊膏因其卓越的低温烧结性能和在高温环境下的出色表现引起了广泛关注。然而,国内银粉和银焊膏产品的质量相对较低,且研发过程缺乏理论指导,必须依赖进口材料。基于高功率半导体用纳米银焊膏,综述了通过液相化学还原法合成纳米银粉的研究进展,以及纳米银焊膏的烧结机理、影响其性能的因素和控制方法,有望为国内纳米银焊膏的研发和生产提供有益的指导和支持。
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2024年第24卷第5期 pp. 050203
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浅谈超导量子比特封装与互连技术的研究进展
汪冰,刘俊夫,秦智晗,芮金城,汤文明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0137
摘要
(
386
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可视化
基于超导量子电路的量子计算技术已经在退相干时间、量子态操控和读取、量子比特间可控耦合、中大规模扩展等关键技术上取得大量突破,成为构建通用量子计算机和量子模拟机最有前途的候选技术路线之一。在介绍超导量子比特原理的基础上,结合自主创新成果,对国内外超导量子比特封装与互连技术的发展进行评价,并重点探讨了超导量子比特三维集成封装解决方案以及与外部稀释制冷机测控线路的高密度互连方案,为尽快缩小与国外超导量子计算机的差距提供超导量子比特封装与互连技术支撑。
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2023年第23卷第10期 pp. 100207
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面向高密度互连的混合键合技术研究进展
*
白玉斐,戚晓芸,牛帆帆,康秋实,杨佳,王晨曦
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0074
摘要
(
386
)
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(4056KB)(
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)
可视化
在数字经济时代,人工智能、高性能计算、大数据、物联网和自动驾驶等新兴产业的迅猛发展对计算能力提出了极高的需求。然而,随着先进制程逐渐逼近物理极限,摩尔定律的发展速度显著放缓,传统的引线键合技术已难以满足数字经济对高算力芯片的需求。在此背景下,三维集成技术作为一种革命性的解决方案应运而生。混合键合作为三维集成技术的基石,通过金属层和金属层、介电层和介电层的直接键合,实现了无凸点的高密度互连。与传统键合技术相比,混合键合不仅能够实现亚微米甚至纳米级的互连间距,还显著降低了信号延迟与功耗,提升了芯片的带宽与容量,为高性能芯片的实现提供了关键支持。在后摩尔时代,混合键合被视为先进封装的核心发展方向之一,可实现窄间距、高密度、小尺寸的互连结构,满足新兴应用场景对芯片性能的苛刻要求。系统介绍了面向高密度互连的混合键合技术,重点总结了其所采用的新型金属钝化层等关键材料以及核心工艺,深入论述了混合键合技术在高带宽内存领域的应用现状及发展趋势,旨在为先进封装技术的持续创新与发展提供参考与思路。
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2025年第25卷第5期 pp. 050102
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第三代半导体封装结构设计及可靠性评估技术研究进展
*
郑佳宝, 李照天, 张晨如, 刘俐
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0053
摘要
(
382
)
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(4250KB)(
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)
可视化
第三代半导体材料,如SiC和GaN,因其卓越的性能在电力电子领域展现出巨大潜力。为了充分发挥材料的优势,需要通过先进的封装技术来解决电气互连、机械支撑和散热等问题。围绕第三代半导体封装结构的研究进展,从降低寄生电参数、降低热阻、提高集成度3个发展方向分类总结近年来新型封装结构特点及优化效果。基于新型封装结构,总结了其面临的可靠性问题以及现行的可靠性测试标准和方法,探讨了存在的问题和不足,对第三代半导体封装技术的未来发展进行了展望。
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2025年第25卷第3期 pp. 030104
Select
芯片焊盘加固提升Au-Al键合可靠性研究
王亚飞, 杨鲁东, 吴雷, 李宏
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0158
摘要
(
375
)
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(1888KB)(
257
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可视化
在芯片铝焊盘的表面制备了Cu/Ni/Au凸块对芯片进行焊盘加固,通过焊盘结构的优化解决常规芯片铝焊盘在金丝键合时存在的工艺窗口小和金铝键合长期可靠性的问题。芯片进行焊盘加固后强度大幅度提升,有效避免了键合时击穿焊盘下介质层导致的短路问题。Ni层的存在有效避免了高温贮存时金属间化合物的生长导致的柯肯达尔空洞问题。通过试验证实了焊盘加固能大幅提高引线键合的工艺窗口,在300 ℃、24 h高温贮存试验中焊盘加固后的界面组织保持高度稳定。
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2024年第24卷第11期 pp. 110203
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硅转接板制造与集成技术综述
徐成,樊嘉祺,张宏伟,王华,陈天放,刘丰满
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0119
摘要
(
370
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PDF
(3189KB)(
354
)
可视化
集成电路制程发展放缓,具有高密度、高集成度以及高速互连优势的先进封装技术成为提升芯片性能的关键。硅转接板可实现三维方向的最短互连以及芯片间的高速互连,是高算力和人工智能应用的主流封装技术。从硅转接板设计、制造以及2.5D/3D集成等方面,系统阐述了硅转接板技术的发展现状和技术难点,并对相关关键工艺技术进行详细介绍。
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2024年第24卷第6期 pp. 060106
Select
芯粒集成工艺技术发展与挑战
*
陈浪,杜建宇,汪琪,张盼,张驰,王玮
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0131
摘要
(
365
)
PDF
(3695KB)(
461
)
可视化
万物感知、万物互连和万物智能推动集成电路进入新一轮的高速发展期并促进对高性能芯片需求的指数级增长。后摩尔时代,芯片性能的进一步提升面临大面积芯片良率降低、功耗控制难、片内互连密度大以及制造成本高等难题。因此业界开始将原来多功能、高集成度的复杂SoC芯片分割做成单独的芯粒(Chiplet),再通过先进封装工艺集成为集成芯片或微系统产品。对芯粒集成技术特征及模式、发展历史、优缺点进行了梳理与阐述,同时归纳总结了芯粒集成的关键技术挑战,并对未来发展进行了展望。
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2024年第24卷第10期 pp. 100203
Select
金丝球键合第二焊点的加固工艺与可靠性研究
骞涤
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0130
摘要
(
364
)
PDF
(1523KB)(
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可视化
在厚膜电路中,金丝球键合的第二焊点键合区通常由厚膜金层、铝过渡片、镀镍引线组成。键合区材料的粗糙度、缺陷尺寸及硬度等方面存在差异,对键合设备的输出精度、劈刀形貌和键合参数提出了更高要求。第二焊点采用楔形鱼尾焊工艺,容易存在脱焊、拉力强度不足的问题。因此,采用键合球在焊线上(BBOS)、补短线等工艺加固第二焊点。通过静力学分析、随机振动分析等有限元仿真方法,结合可靠性实验对不同工艺条件下的第二焊点进行分析对比,结果表明,BBOS工艺是最优选择。
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2024年第24卷第10期 pp. 100202
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深紫外光刻工艺的环境控制
范钦文,顾爱军
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0145
摘要
(
364
)
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(1856KB)(
241
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可视化
从室外环境、净化厂房环境和深紫外光刻机设备内部的微环境3个层面,梳理空气颗粒污染物、空气分子污染物和振动等工艺环境问题的来源,构建深紫外光刻工艺环境模型。分析准分子激光器、光路、上版系统、传片系统和主工作台等深紫外光刻机主要部件在工艺环境控制方面的特殊要求。研究深紫外光刻工艺使用的化学放大光刻胶的工作机理,分析空气分子污染物对光刻胶乃至整个光刻工艺的影响。研究空气颗粒污染物、空气分子污染物和振动有关的技术标准和控制等级要求。提炼、总结深紫外光刻工艺环境控制方案,从3个层面逐级开展空气颗粒污染物控制、空气分子污染物控制、温湿度控制和防微振工作。
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2023年第23卷第11期 pp. 110401
Select
引线键合中焊盘裂纹的产生原因及改善方法
马勉之,杨智群,张德涛
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0160
摘要
(
364
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(1422KB)(
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可视化
引线键合是封装的关键工序之一。通过第一焊点同芯片焊盘键合、第二焊点同基板键合及线弧成形的方法实现电路的导通连接,进而实现产品的功能。在第一焊点同芯片焊盘键合的过程中,焊盘会受到一定的键合应力,过大的应力易造成焊盘裂纹,导致产品失效。因此,第一焊点的键合强度及引线键合参数的设置尤为重要。通过优化焊盘结构、引线键合参数及键合作业模式的方法来降低发生焊盘裂纹的风险,为避免不同材质及结构的焊盘出现焊盘裂纹提供参考。
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2023年第23卷第12期 pp. 120202
Select
三维集成堆叠结构的晶圆级翘曲仿真及应用
谭琳,王谦,郑凯,周亦康,蔡坚
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0015
摘要
(
348
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(2179KB)(
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可视化
随着先进电子封装产品对低成本和高性能的需求不断提高,三维集成技术以其传输速度快、功耗低、封装尺寸小、系统集成度高等优势,逐渐成为一个主流研发方向。三维集成封装通常采用晶圆级制造技术,由于半导体制造工艺及三维结构设计的复杂性,加之晶圆尺寸增大、厚度减小等发展趋势,使得有效控制晶圆翘曲以保证产品良率和可靠性面临着更大挑战。针对12英寸晶圆的典型三维集成结构,采用有限元仿真分析方法,研究多层薄膜堆叠产生的晶圆翘曲。对临时键合、晶圆减薄、晶圆键合及解键合等不同晶圆制造工艺中的翘曲变化进行了模拟计算,并选取关键工艺及设计参数进行评估与优化。通过对比实际产品的测量结果验证了仿真模型的合理性,运用仿真方法为产品设计提供了参数选择的指导依据。
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2024年第24卷第4期 pp. 040201
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无凸点混合键合三维集成技术研究进展
*
戚晓芸,马岩,杜玉,王晨曦
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0079
摘要
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346
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(3109KB)(
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可视化
数字经济时代,高密度、低延迟、多功能的芯片是推动人工智能、大模型训练、物联网等高算力需求与应用落地的基石。引线键合以及钎料凸点的倒装焊存在大寄生电容、高功耗、大尺寸等问题,使传统封装难以满足窄节距、低功耗、小尺寸的应用场景。无凸点混合键合技术能够实现极窄节距的互连,在有效避免倒装焊凸点之间桥连短路的同时降低了寄生电容,减小了封装尺寸和功耗,满足了高性能计算对高带宽、多功能的要求。对无凸点混合键合技术所采用的材料、键合工艺与方法以及在三维集成中的应用展开了介绍,并对其发展趋势进行了展望。
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2024年第24卷第6期 pp. 060114
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垂直互联结构的封装天线技术研究
陈晨;尹春燕;夏晨辉;尹宇航;周超杰;王刚;明雪飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0092
摘要
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封装天线(AiP)是一种能够实现低成本制备、高性能以及小体积天线的技术,在移动通信等领域有着广泛的应用。在扇出型晶圆级封装(FOWLP)中,采用通孔工艺能够实现电信号的垂直互连结构,助力AiP技术的发展。重点阐述了FOWLP工艺中硅通孔(TSV)、玻璃通孔(TGV)和塑封通孔(TMV)的制备方法,以及通过3种通孔技术实现的垂直互连结构在封装天线领域的应用。采用这3种垂直互连结构制备的封装天线能够实现三维集成,从而更进一步地缩小天线的整体封装体积。介绍了3种通孔的制备工艺,以及采用通孔技术的FOWLP工艺在封装天线领域的应用。明确了每一种垂直互连结构应用于AiP的优缺点,为FOWLP工艺在AiP领域中的技术开发和探索提供参考。
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2023年第23卷第7期 pp. 070205
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一种用于生产的GaN HEMT器件空气桥的设计
石浩,王雯洁,付登源,梁宗文,王溯源,张良,章军云
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0120
摘要
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为了解决当前GaN HEMT器件空气桥起桥角度、桥胶高度不稳定且易受后续步骤影响导致桥胶坍塌的问题,通过分别改变光刻胶定型桥的烘胶温度、烘胶时间以及曝光过程中的曝光焦距,观察不同条件下光刻胶定型桥桥胶的形貌和参数,选择最优的光刻胶定型桥的制作方法。并将最优烘胶温度、最优烘胶时间以及最优曝光条件整合,设计了一种适用于生产的拱形空气桥制作方法,得到了具有良好拱形且表面光滑的高质量、稳定且适合生产的空气桥。
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2023年第23卷第9期 pp. 090403
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面向高密度数字SiP应用的封装工艺研究
柴昭尔, 卢会湘, 徐亚新, 李攀峰, 王杰, 田玉, 王康, 韩威, 尹学全
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0010
摘要
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面向高密度数字系统级封装(SiP)应用,采用多芯片一体化封装技术,在系统内部集成了数字信号处理器(DSP)以及外围的DDR3、SPI Flash、Nor Flash、Nand Flash、低压差稳压器(LDO)等多颗芯片,并基于高密度陶瓷封装基板及表面多层薄膜工艺实现了各芯片之间的高速互连。此外,利用无硅通孔转接板工艺完成了DDR芯片从引线键合到倒装的封装形式的重构,在保证传输距离的同时也保证了芯片封装尺寸的最小化。在35 mm×40 mm的封装尺寸内实现了一个具备数字信号处理功能的最小系统。所涉及到的技术为通用基础技术,可广泛应用于其他高密度封装产品中。
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2025年第25卷第1期 pp. 010204
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倒装焊结构的大规模集成电路焊点失效机理研究
王欢,林瑞仕,朱旭锋,胡圣,李凌
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0129
摘要
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在倒装焊结构的球栅阵列(BGA)封装大规模集成电路(LSIC)的服役过程中,由于BGA焊球、基板材料和PCB材料的热膨胀系数不同,焊点失效成为倒装焊结构LSIC的主要失效模式。焊点失效与焊料性质、焊接时间和温度、制造中的缺陷等密切相关。结合焊点失效的常见形貌及实例,研究倒装焊结构的LSIC的焊点失效模式及失效机理。针对可能引发失效的因素,提出从工艺到应用的一系列预防措施,对提升该类型电路的可靠性具有指导意义。
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2023年第23卷第10期 pp. 100202
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集成电路互连微纳米尺度硅通孔技术进展
*
黎科,张鑫硕,夏启飞,钟毅,于大全
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0144
摘要
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集成电路互连微纳米尺度硅通孔(TSV)技术已成为推动芯片在“后摩尔时代”持续向高算力发展的关键。通过引入微纳米尺度高深宽比TSV结构,2.5D/3D集成技术得以实现更高密度、更高性能的三维互连。同时,采用纳米TSV技术实现集成电路背面供电,可有效解决当前信号网络与供电网络之间布线资源冲突的瓶颈问题,提高供电效率和整体性能。随着材料工艺和设备技术的不断创新,微纳米尺度TSV技术在一些领域取得了显著进展,为未来高性能、低功耗集成电路的发展提供了重要支持。综述了目前业界主流的微纳米尺度TSV技术,并对其结构特点和关键技术进行了分析和总结,同时探讨了TSV技术的发展趋势及挑战。
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2024年第24卷第6期 pp. 060111
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功率器件封装用纳米铜焊膏及其烧结技术研究进展
*
王秀琦,李一凡,罗子康,陆大世,计红军
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0046
摘要
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可视化
以第三代半导体为核心的功率电子器件向高功率密度、高结温方向的发展对封装互连材料、工艺及服役条件下的可靠性都提出了严苛的挑战。纳米铜(Cu)焊膏具有低成本、抗电迁移、优异的导电导热性能和“低温烧结、高温服役”特性,是1种极具工业化潜力的功率器件封装候选材料,受到广大研究者的密切关注。然而,相比于纳米银(Ag)焊膏,纳米铜焊膏的稳定性(易氧化)和低温烧结性能仍有较大的差距。根据试验结果,从烧结机理、烧结工艺、性能表现以及纳米铜烧结接头的服役可靠性等方面,系统阐述了纳米铜焊膏烧结技术的最新进展。此外,针对目前纳米铜烧结技术的不足,对后续的发展方向和研究前景进行了展望。
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2025年第25卷第3期 pp. 030101
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ASM E2000硅外延片异常背圈现象研究与分析
徐卫东;肖健;何晶;袁夫通
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0005
摘要
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ASM E2000外延炉在生产硅外延片的过程中,晶圆背面有时会出现异常背圈的现象,包括背圈大小异常、背圈形状异常、背圈偏心等。经研究发现,背圈现象只会在非二氧化硅背封的晶圆上出现。针对异常背圈的产生,进行了滑片、气流、温度、时间等相关参数的实验验证,得到背圈形成的原因及异常背圈产生的原因。晶圆经900 ℃烘烤60 s就会形成背圈,这是外延过程中的正常现象,但是不规则的背圈通常伴随着其他外延工艺参数的同步变差,异常背圈可以通过调整工艺参数、设备滑片、跳片以及更换石墨件来解决。
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2024年第24卷第1期 pp. 010402
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一种应用于高精度ADC的可编程增益放大器的设计
王思远,梁思思,李琨,叶明远
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0141
摘要
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设计了一种应用于高精度ADC的可编程增益放大器(PGA)。整体环路采用可调节的反馈电阻来调节增益,同时适配可调节的反馈电容来稳定环路工作带宽。内部核心运放采用折叠共源共栅级加轨对轨共源级的两级全差分结构,其输入管采用PMOS管来降低噪声,同时使用输入尾电流监控和增益提高技术来提高环路的精度。仿真结果表明,该PGA对3种不同输入幅度的信号处理后,3 dB带宽稳定在13 kHz附近,信噪比均在100 dB以上,符合高精度ADC对前端信号处理的需求。
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2024年第24卷第10期 pp. 100305
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基于FOPLP工艺多I/O芯片封装的可靠性研究及优化
*
江京,刘建辉,陶都,宋关强,李俞虹,钟仕杰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0022
摘要
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可视化
随着封装工艺的进步,扇出型板级封装(FOPLP)工艺因其具有高集成度、低成本、更好的性能和更广泛的应用领域等优势而备受关注。针对基于FOPLP工艺封装的多I/O芯片产品可靠性开展了系统研究。探索和分析了产品在偏压高加速温湿度应力测试(BHAST)中的漏电问题,根据失效分析结果,将重点聚焦于爬胶高度和产品应力。同时,通过试验设计(DOE)验证了改善产品的银胶量和固定加工参数。针对多I/O芯片应力问题,采用仿真模拟优化应力分布,产品成功通过BHAST可靠性测试,满足130 ℃、85 %RH条件下连续工作264 h的BHAST可靠性要求,对提升多I/O类产品整体性能和市场竞争力具有重要意义。
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2025年第25卷第2期 pp. 020202
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硅通孔3D互连热-力可靠性的研究与展望
*
吴鲁超,陆宇青,王珺
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0104
摘要
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硅通孔(TSV)技术是3D集成封装中用于实现高密度、高性能互连的关键技术,TSV的热-力可靠性对3D集成封装的性能和寿命有直接影响。从TSV的制造工艺、结构布局、材料可靠性以及评估方法等多个方面对TSV 3D互连的热-力可靠性进行研究,对其研究方法和研究现状进行总结和阐述。此外,针对TSV尺寸减小至纳米级的发展趋势,探讨了纳米级TSV在应用于先进芯片背部供电及更高密度的芯片集成时所面临的可靠性挑战。
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2024年第24卷第6期 pp. 060103
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面向大算力应用的芯粒集成技术
王成迁,汤文学,戴飞虎,丁荣峥,于大全
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0107
摘要
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可视化
随着先进制程接近物理极限,摩尔定律已无法满足人工智能大算力需求。芯粒技术被公认为延续摩尔定律,提升芯片算力的最有效途径。针对芯粒技术研究热点,从集成芯片的应用与发展、典型芯粒封装技术、芯粒技术的挑战和机遇方面进行了系统性的梳理。详细列举了当前芯粒技术的应用成果,对比分析了2.5D、3D堆栈以及3D FO封装技术特点。
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2024年第24卷第6期 pp. 060105
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忆阻器基神经形态计算器件与系统研究进展
郭文斌,汪泽清,吴祖恒,蔺智挺
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0017
摘要
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306
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可视化
忆阻器作为新原理器件,与现有互补金属氧化物半导体(CMOS)器件相比,具有结构简单、集成密度高、微缩性好、操作能耗低、易于三维集成等优点,是实现神经形态计算技术的理想存储器件之一。对近年来忆阻器基神经形态计算技术的研究进展进行综述,包括忆阻器基神经突触和神经元功能实现以及忆阻器基神经形态计算系统研究进展,并对当前忆阻器基神经形态计算技术仍然面临的挑战进行总结,对其前景做了展望。
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2024年第24卷第4期 pp. 040401
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功率器件封装纳米浆料材料与低温烧结工艺及机理研究进展
*
王一平,于铭涵,王润泽,佟子睿,冯佳运,田艳红
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0058
摘要
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可视化
随着电力电子器件材料的发展,第三代宽禁带半导体(如SiC和GaN)因其优越的性能而成为功率器件的理想材料。然而,面对大功率和高温应用的挑战,传统的锡基封装材料已经难以满足需求,为此,研究者们开始关注可以低温烧结、高温服役的纳米烧结浆料。这些微米、纳米级的铜、银等浆料可以在远低于金属熔点的温度下烧结成具备高熔点、高导热、高性能的焊点结构。从烧结材料、烧结工艺、烧结机理3个方面讨论了近年来用于功率器件封装的烧结浆料的研究进展,具体包括纳米银、纳米铜、铜银复合和其他纳米级烧结材料,以及它们适配的热压烧结、无压烧结、薄膜烧结等工艺,为烧结浆料的进一步发展提供参考。
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2025年第25卷第3期 pp. 030106
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基于Chiplet的三维集成计算与存储架构
*
单光宝;凡翔;郑彦文;曹会华
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0112
摘要
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301
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可视化
5G通信、人工智能、物联网技术的蓬勃发展对计算与存储系统架构提出了更高需求。传统二维计算与存储架构无法满足当下计算密集型应用对延时、带宽和能效的需求。基于Chiplet的三维集成架构可以有效解决传统二维计算与存储系统性能优化面临的诸多瓶颈。回顾了基于Chiplet的计算与存储架构,介绍了单片多核、异构多核及基于Chiplet的三维集成架构,概述了基于Chiplet的主流存储架构与新兴的存算一体架构,并对计算架构与存储架构分别进行了比较与讨论。给出了基于Chiplet的三维集成计算与存储架构设计面临的挑战和未来发展方向。
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2024年第24卷第9期 pp. 090201
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一种基于ACOT的Buck型开关电源设计
谢凌寒,孙祎轩,周颖,荣悦
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0151
摘要
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298
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可视化
基于自适应恒定导通时间(ACOT)控制方式,设计了一种恒频效果良好的降压型DC-DC转换器。该转换器采用V
2
COT架构,兼具输出精度高和瞬态响应速度快的特点。采用一种改进的自适应导通时间控制方式,降低了负载电流对开关频率的影响,使转换器在连续导通模式(CCM)下具有良好的开关频率稳定性。基于东部高科0.15 μm BCD工艺完成流片,芯片输入电压为4.5~17 V,输出电压为0.76~7 V,最大负载电流为3 A,开关频率为1 MHz。测试结果表明,在CCM模式下,开关频率随输入电压变化率为2.67 kHz/V,随负载电流变化率为2.95 kHz/A,峰值效率达96.43%,输出电压纹波为8. 2mV,负载调整率为0.93%,负载瞬态响应时间小于20μs。
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2023年第23卷第11期 pp. 110303
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环氧树脂及酚醛树脂黏度对环氧塑封料性能的影响
曹二平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0003
摘要
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296
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可视化
以联苯多芳香型环氧树脂为基体、联苯多芳香型酚醛树脂为固化剂,制备了5种环氧塑封料。通过电热盘、毛细管流变仪、邵氏热硬度仪、动态热机械分析仪、万能拉伸试验机和超声波扫描仪等对环氧塑封料进行表征。结果表明,当环氧树脂的黏度从1.2 Pa·s提高到3.7 Pa·s、酚醛树脂的黏度从0.8 Pa·s提高到1.5 Pa·s时,环氧塑封料的凝胶化时间从31 s下降到22 s;螺旋流动长度从137.16 cm下降到88.90 cm,降低了35.2%;环氧塑封料的黏度从19.6 Pa·s提高到35.8 Pa·s,提高了82.7%;内部气孔从20个减少到4个。这些变化说明环氧塑封料的黏结性降低、模量提高。环氧树脂黏度对环氧塑封料性能的影响大于酚醛树脂黏度。
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2024年第24卷第1期 pp. 010202
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面向Chiplet集成的三维互连硅桥技术
*
赵瑾,于大全,秦飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0102
摘要
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294
)
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(2740KB)(
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可视化
摩尔定律的发展速度放缓和集成电路产品应用的多元化趋势,共同推动了先进封装技术的快速发展。先进互连技术是先进封装的核心,在高速、高频传输、功耗、超细节距互连以及系统集成能力等方面均展现出显著优势。硅桥技术作为Chiplet以及异构集成封装的重要解决方案,可以以较低的成本实现多芯片间的局部高密度互连,在处理器、存储器、射频器件中被广泛应用。介绍了业界主流的硅桥技术,并对硅桥技术的结构特点和关键技术进行了分析和总结。深入讨论了硅桥技术的发展趋势及挑战,为相关领域的进一步发展提供参考。
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2024年第24卷第6期 pp. 060101
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GaN P沟道功率器件及集成电路研究进展
*
朱霞, 王霄, 王文倩, 李杨, 李秋璇, 闫大为, 刘璋成, 陈治伟, 敖金平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0152
摘要
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293
)
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(2554KB)(
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可视化
GaN功率器件具有导通电阻小、开关速度快、击穿电压高等特点,已广泛应用于高频、高功率的电力电子转换器中。为充分发挥GaN器件的性能优势,将功率电子器件和控制器、驱动等外围电路进行全GaN单片集成是最小化寄生参数的有效手段,也是GaN功率集成电路的重要发展方向。着眼于利用二维空穴气(2DHG)的GaN基P型器件的发展进程,论述了P型器件面临的技术难题,进一步分析了其对于GaN互补逻辑电路集成发展的重要性,讨论了相关的GaN集成工艺平台,对器件结构及制备工艺的创新、GaN集成技术面临的相关挑战进行了分析与展望。
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2024年第24卷第11期 pp. 110401
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基于机器学习的芯片老化状态估计算法研究
宋国栋, 邵家康, 陈诚
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0176
摘要
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292
)
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(1782KB)(
291
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可视化
随着芯片的集成度越来越高,其晶体管数量也越来越多,老化速度加快。由于工业应用、装备系统等领域对芯片可靠性的要求较高,因此研究估计芯片老化的方法至关重要。总结现有的芯片老化估计和预警的技术方法,将机器学习算法应用于芯片老化状态估计,实验结果表明,极端梯度提升树算法的效果较好。对现有的极端梯度提升树算法进行贝叶斯优化,寻找模型的最优参数,使用优化后的算法估计的状态值与真实值的均方误差比优化前降低了0.13~0.25,优化后的模型预测结果较为精准。
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2024年第24卷第11期 pp. 110101
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晶圆键合设备对准和传送机构研究综述
吴尚贤,王成君,王广来,杨道国
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0021
摘要
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292
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(2463KB)(
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可视化
随着微机电系统和3D集成封装的快速发展,多功能高性能器件、小体积低功耗器件、耐高温耐高压器件以及小型化高集成度器件是目前封装领域研究的重点。晶圆键合设备对于这些高性能、多功能、小型化、耐高温、耐高压、低功耗的集成封装器件的量产起着至关重要的作用,因此对晶圆键合设备及其对准机构和传送机构的研究也十分重要。介绍了常用的晶圆键合设备与晶圆键合工艺、对准机构和传送机构的工作原理以及主要的晶圆键合设备厂商现状,同时对晶圆键合设备对准和传送机构的发展趋势进行展望,其未来将朝着高精度、高对准速度、高吸附度和高可靠性的方向发展。
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2024年第24卷第3期 pp. 030201
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无芯封装基板应力分析与结构优化
*
李轶楠, 杨昆, 陈祖斌, 姚昕, 梁梦楠, 张爱兵
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0102
摘要
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可视化
封装基板作为集成电路的载体,可以实现芯片的电连接、支撑保护及散热等。因此,封装基板的可靠性至关重要。在封装基板的加工过程中,热、机械等因素如铜含量分布不均衡、材料的热膨胀系数(CTE)不匹配等均可能导致基板出现翘曲、开裂等现象,进而导致基板出现短路、断路,从而影响元器件的功能。采用有限元分析法,对无芯封装基板在加工过程中所经历的热、机械情况进行模拟,分析了基板设计对基板翘曲、应力分布的影响。通过对基板设计进行优化改进、仿真验证、样品加工验证,无芯基板加工过程中的断裂现象得到显著改善。
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2023年第23卷第8期 pp. 080203
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功率模块封装用环氧树脂改性技术应用进展
*
曹凤雷,贾强,王乙舒,刘若晨,郭褔
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0056
摘要
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291
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可视化
环氧树脂因其优异的电气绝缘性、机械强度和耐高温性能,是功率模块封装材料的首选。然而,功率模块的集成度提升和服役环境的严苛化对环氧树脂的性能要求不断提高。对环氧树脂的分类、改性及其在功率模块封装中的应用进行总结,并指出了环氧树脂面临的挑战和未来发展方向。改性后的环氧树脂可以提升功率模块封装的热管理能力、绝缘性能、耐腐蚀性和抗翘曲能力等。未来的研究方向包括耐高温封装材料的开发、环保和多功能环氧树脂的探索,以及新材料和新工艺的结合。
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2025年第25卷第3期 pp. 030105
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大功率LED芯片直接固晶热电制冷器主动散热
*
梁仁瓅,牟运,彭洋,胡涛,王新中
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0124
摘要
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290
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可视化
发光二极管(LED)作为新一代绿色固态照明光源,已广泛应用于照明和显示等领域,但散热问题一直是大功率LED封装的关键技术瓶颈。采用大功率LED芯片直接固晶热电制冷器(TEC)的主动散热方法,可增强大功率LED的热耗散,提升大功率LED的发光性能和长期可靠性。利用高精度陶瓷基板和纳米银膏材料制备出高性能TEC,TEC冷端温度最低可达-22.2℃。将LED芯片直接固晶于TEC冷端的陶瓷基板焊盘上,实现LED芯片与TEC的集成封装,制备出LED-TEC主动散热模块。在芯片电流为1.0 A时,由于热电制冷的珀尔帖效应,LED-TEC模块可将LED芯片的工作温度从232℃降低到123℃(降温幅度为109℃),且可使其输出光功率从1087 mW提升到1479 mW,光功率提升幅度达到36.1%。
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2023年第23卷第10期 pp. 100201
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2.5D TSV转接板无损检测方法的研究
张旋,李海娟,吴道伟,张雷
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0105
摘要
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可视化
利用以硅通孔(TSV)为核心技术的硅转接板封装3D集成电路,可以有效缩短器件的互连长度。TSV转接板在微电子领域被广泛应用,但对其工艺制备过程中的检测技术研究相对较少。TSV转接板的检测对评估其良率与应用可靠性至关重要。因此,总结了7种非破坏性检测技术,探讨了无损检测技术的基本原理和优缺点,形成了1种系统的2.5D TSV转接板无损检测的评价方法。该方法不仅为2.5D微模组产品的研制与开发提供了支撑,还满足了3D封装的典型应用需求。
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2024年第24卷第6期 pp. 060102
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基于Anand模型的BGA封装热冲击循环分析及焊点疲劳寿命预测
*
张惟斌,申坤,姚颂禹,江启峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0030
摘要
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287
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可视化
BGA封装在电子元器件中的互连、信息传输等方面起着重要作用,研究封装元件的可靠性以及内部焊点在高温、高湿、高压等极限条件下的稳定性显得尤为重要。基于Anand模型分析了封装元件在热冲击下的塑性变形和应力分布,同时对不同空间位置焊点的最大应力与主要失效位置进行了对比,并运用Darveaux模型计算出焊点最危险单元的裂纹萌生、裂纹扩展速率和疲劳寿命。结果表明,在热冲击极限载荷下,封装元件的温度呈现对称分布,表面温度与内部温度差较大,约为15 ℃;最大变形为0.038 mm,最大变形位置为外侧镀膜处;最大应力为222.18 MPa,内部其余部分的应力值为20 MPa左右。对于内部焊点,最大应力为19.02 MPa(250 s),应力最大位置在锡球下方边缘,预估其疲劳寿命为6.29天。
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2024年第24卷第3期 pp. 030207
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基于陶瓷基板微系统T/R组件的焊接技术研究
王禾,周健,戴岚,张丽
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0144
摘要
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285
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(1986KB)(
281
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可视化
陶瓷基板微系统T/R组件具有体积小、密度高、轻量化等特点,正在逐步取代传统微组装砖式T/R组件。在微系统封装新技术路线的引领下,T/R组件对于微电子焊接技术的需求发生了较大变化。针对基于陶瓷基板微系统T/R组件的微电子焊接技术展开了论述,重点阐述了新技术路线与传统技术路线对于技术需求的差异,对围框钎焊、焊球/焊柱钎焊、基板与器件钎焊、高密度键合及盖板气密封焊等关键技术进行了介绍,归纳并总结了近年来相关技术领域的研究现状,并给出了现有技术水平条件下满足高可靠、低成本封装需求的最优工艺方法,为微电子焊接技术的发展提供了参考。
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2023年第23卷第11期 pp. 110202
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基于Innovus的局部高密度布局规避方法
李应利;王淑芬
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0009
摘要
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282
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(1002KB)(
166
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可视化
标准单元布局是数字集成电路后端设计的重要环节之一,标准单元密度过高影响着工具的布线和时序的优化。采用UMC 28 nm工艺,基于Innovus的两种方法,解决由于局部高密度标准单元导致保持时间违例、无法通过工具自动化修复的问题,在实现时序优化的同时降低了动态IR Drop。结果表明,在PreCTS阶段设置setPlaceMode-place_global_max_density value对于后续时序优化效果更好,且动态IR Drop降低8.85%。
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2024年第24卷第1期 pp. 010302
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内嵌Flash存储器可靠性评估方法的分析及应用
周焕富,刘伟,周成
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0083
摘要
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276
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(1348KB)(
97
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可视化
介绍了存储器分类及Flash存储器的基本结构,分析了非易失性存储器(NVM)可靠性试验标准的特点。从试验项目、试验条件、样品数量和数据图形等方面比较了JEDEC和AEC发布的NVM可靠性试验的标准和方法。以2款存储容量分别为64 kB和128 kB的MCU芯片为试验对象,依据JEDEC和AEC发布的试验标准和方法,设计了针对MCU芯片内嵌Flash存储器可靠性的评估试验,为Flash存储器的设计和验证工作提供参考。
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2024年第24卷第7期 pp. 070207
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“第三代半导体功率电子封装技术”专题前言
田艳红
摘要
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可视化
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2025年第25卷第3期 pp. 030100
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封装用环氧银胶的配制工艺及性能研究
鄂依阳;田兆波;迟克禹;江仁要;孙琪;吕尤;祝渊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0096
摘要
(
274
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(1641KB)(
454
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可视化
随着电子设备向小型化和轻量化发展,电子封装也趋于小尺寸、精密化和结构复杂化。传统钎焊互连越来越难以解决精密的封装结构产生的散热问题。银胶作为一种高性能、低污染和易操作的新型互连材料,逐渐替代钎焊并在高端芯片互连等领域发挥着越来越重要的作用。针对市场银胶热导率和电阻率难以满足需求的难题,采用环氧树脂、片状银粉、改性脂环胺固化剂、偶联剂、稀释剂和催化剂改善了环氧树脂基银胶,系统研究了银粉形貌、比例和制备工艺等对银胶热导率和电阻率等的影响,并获得了高热导率[7.21 W·(m·K)
-1
]、低体积电阻率 (4.46×10
-5
Ω·cm)的环氧银胶。通过在不同基板间进行
粘接
热阻测试,验证了所获得的环氧银胶在基板间具有较低的热阻,其有望应用于高端芯片封装的互连。
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2023年第23卷第7期 pp. 070207
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SiC MOSFET栅极漏电流传输机制研究
*
鹿存莉,谈威,季颖,赵琳娜,顾晓峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0121
摘要
(
271
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可视化
通过拟合变温电流-电压试验数据,研究了SiCMOSFET的正向和反向栅极漏电流传输机制。1)正向和反向高偏压下的栅电流由FN(Fowler-Nordheim)隧穿机制主导,得到SiC/SiO
2
界面的电子势垒高度范围分别为2.58~2.69 eV和3.02~3.26 eV。2)正向高偏压下,栅电流随温度的升高而逐渐增大的原因可解释为,当温度升高时原子围绕其平衡点做随机运动,即鞍点的高度开始波动,由于FN隧穿模型中电流密度和势垒高度的指数关系,势垒高度降低时电流密度的增加趋势远大于势垒高度升高时电流密度的减少趋势,因此随着温度升高,栅电流逐渐增大,平均势垒高度降低。3)反向高偏压下,由于碰撞电离产生了大量的电子-空穴对,注入到结型场效应晶体管(JFET)区栅极氧化物中的空穴浓度增大,势垒高度进一步降低,因此反向高偏压下势垒高度随温度升高下降的速度更快。
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2023年第23卷第9期 pp. 090404
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镀银板表面粗糙度对纳米银焊膏快速烧结互连质量的影响
李志豪,汪松英,洪少健,孙啸寒,曾世堂,杜昆
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0076
摘要
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269
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可视化
通过施加15 MPa的压力,在265 ℃空气气氛下使用预制完成的镀银板表面印刷纳米银焊膏组装的三明治结构制备烧结银连接层。研究了3种铜镀银板表面粗糙度对烧结银连接界面结合强度的影响。研究结果表明,烧结时间为8 min、镀银板算术平均表面粗糙度为1.630 μm、最大粗糙度深度为12.030 μm时,可以有效促使烧结银连接层与基板表面形成高强度的冶金连接和机械联锁,最终获得了61.09 MPa的高剪切强度,表明烧结银层与烧结界面的结合强度得到了较大提升。研究结果可为选择合适的基板粗糙度提供实验依据,从而获得高强度、高可靠性的低温快速烧结银互连接头。
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2024年第24卷第7期 pp. 070201
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基于CDCA-YOLOv8的无人机图像小目标识别
吴诗娇,林伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0013
摘要
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267
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(1264KB)(
93
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可视化
为解决无人机航拍图像中小目标实例多、遮挡严重的问题,提出了一种新的小目标检测算法CDCA-YOLOv8。算法在骨干网络中引入了中心注意力机制,在降低计算复杂度的同时提升特征提取能力;结合可变形卷积网络的优势,改进了卷积模块,并设计了基于可变形卷积技术的C2f模块,增强多尺度特征提取。同时设计了基于自适应结构特征融合的检测头,以提高小目标检测的精度。实验表明,与YOLOv8n相比,CDCA-YOLOv8在VisDrone2019数据集上平均精度均值mAP
0.5
提高了4.4个百分点,mAP
0.5∶0.95
提高了3.1个百分点,展示了更优的小目标检测效果。
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2025年第25卷第1期 pp. 010501
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基于分形结构的天线设计及天线-芯片一体化射频组件制造工艺
王刚, 赵心然, 尹宇航, 夏晨辉, 周超杰, 袁渊, 王成迁
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0138
摘要
(
264
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(2538KB)(
178
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可视化
实现了一种基于分形结构的天线-芯片一体化射频组件的设计与制造,设计了基于4阶Hilbert曲线的分形电感和基于2阶Sierpinski三角形的天线结构,有效提高了集成模组中的空间利用率,实现了电子器件的小型化。天线结构可以通过馈电位置的变化实现辐射频点可调,最多可实现36 GHz、50 GHz、70.6 GHz3个辐射频点,有助于实现灵活的应用场景。各辐射频点上的回波损耗大于25dB,最大辐射方向增益为11.93 dB。为了实现分形天线和射频芯片的一体化集成,设计和实现了天线-芯片一体化射频组件架构与12英寸晶圆级嵌入式基板工艺。与现有的射频组件集成工艺相比,利用光刻工艺实现了天线-芯片垂直高密度互连,同时改善了系统的射频性能。
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2023年第23卷第8期 pp. 080402
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回流焊工艺对器件及复杂组件金属间化合物的影响
田文超, 崔昊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0135
摘要
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261
)
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2023年第23卷第8期 pp. 080601
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Sn95Sb5焊料与ENIG/ENEPIG镀层焊点界面可靠性研究
徐达,魏少伟,申飞,梁志敏,马紫成
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0023
摘要
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259
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249
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可视化
研究了Sn95Sb5焊料在化学镍金(ENIG)镀层、化学镍钯浸金(ENEPIG)镀层表面形成的焊点界面微观组织形貌与剪切强度。使用Sn95Sb5焊料在FR4印制板上焊接0805片式电容,焊点在高温时效测试和温度循环过程中均表现出较高的剪切强度,焊点界面连续且完整,剪切强度下降的最大幅度不超过19.2%。Sn95Sb5焊料在ENIG镀层表面形成的焊点(Sn95Sb5/ENIG焊点)强度更高。Sn95Sb5焊料在ENEPIG镀层表面形成的焊点(Sn95Sb5/ENEPIG焊点)界面反应更为复杂,在焊点界面附近可观察到条块状的(Pd,Ni,Au)Sn
4
。Sn95Sb5/ENEPIG焊点界面的金属间化合物层平均厚度约为Sn95Sb5/ENIG焊点界面的2倍。
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2024年第24卷第3期 pp. 030205
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先进制程芯片失效定位技术现状及发展
*
李振远,徐昊,贾沛,万永康,张凯虹,孟智超
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0041
摘要
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258
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可视化
芯片工艺节点从2011年的28/22 nm、2015年的16/14 nm正向3/2 nm演进,晶体管的结构也由平面金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)转向立体的鳍式场效应晶体管(FinFET)。失效定位是芯片失效分析中承上启下的关键一步,随着芯片工艺制程的减小、晶体管结构的转变,传统失效定位技术在定位精度上已不能满足需求。为适应市场变化,先进制程芯片的失效定位技术也有了对应的发展和突破。重点介绍了先进制程芯片中常见的电子、光学失效定位技术,通过原理、案例明确各种技术的优缺点及优先适用的失效模式,并对未来的定位技术发展进行了展望。
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2024年第24卷第4期 pp. 040402
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提升先进封装可靠性的布线优化方法
刘乐, 王凤娟, 尹湘坤
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0180
摘要
(
258
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可视化
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2024年第24卷第12期 pp. 120601
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共晶焊后热敏电阻的应力分析及优化
李长安,牛玉秀,全本庆,关卫林
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0110
摘要
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255
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(950KB)(
227
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可视化
为了研究与解决热敏电阻在共晶焊后阻值变大的问题,采用扫描电子显微镜(SEM)观测失效的热敏电阻,发现其内部有裂纹。采用有限元分析法分析热敏电阻经过共晶焊后产生的应力。结果表明,最大应力的位置与裂纹位置基本一致,最大应力的方向与裂纹方向正交,这说明裂纹是由应力引起的。分析了热敏电阻上最大应力与焊料厚度的关系,结果表明,焊料越厚,则热敏电阻在共晶焊时产生的应力越小。通过验证试验可知,采用适当加厚的焊料对热敏电阻进行共晶焊,共晶焊后热敏电阻的外观良好,没有裂纹发生,且阻值没有增大。因此,可采用加厚焊料的方法防止热敏电阻开裂。
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2023年第23卷第9期 pp. 090201
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LTCC封装散热通孔的仿真与优化设计
刘俊永
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0152
摘要
(
253
)
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(1735KB)(
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可视化
低温共烧陶瓷(LTCC)封装散热通孔设计是集成电路封装设计的重要内容之一。以某CLCC40型LTCC外壳为例,使用有限元仿真软件对几种不同的散热通孔设计进行3D建模和稳态热仿真。通过对比芯片结到外壳的热阻仿真结果,得到了散热通孔的优化设计方案。仿真结果表明,采用该设计的LTCC外壳的散热效果优于质量分数为92%的氧化铝陶瓷外壳,但略差于氮化铝陶瓷外壳。
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2023年第23卷第11期 pp. 110205
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硅通孔三维互连与集成技术
马书英, 付东之, 刘轶, 仲晓羽, 赵艳娇, 陈富军, 段光雄, 边智芸
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0136
摘要
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251
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(3906KB)(
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可视化
随着电子技术的高速发展,更高密度、更小型化、更高集成化以及更高性能的封装需求给半导体制造业提出了新的挑战。在物理极限下,芯片的功能密度已达到二维封装技术的极限,不能再通过减小线宽来满足高性能、低功耗和高信号传输速度的要求;同时,开发先进节点技术的时间和成本很难控制,该技术的成熟需要相当长的时间。摩尔定律已经变得不可持续。为了延续和超越摩尔定律,芯片立体堆叠式的三维硅通孔(TSV)技术现如今成为人们关注的焦点。综述了TSV结构及其制造工艺,并对业内典型的TSV应用技术进行了分析和总结。
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2024年第24卷第6期 pp. 060109
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基于Xilinx Virtex-7系列FPGA器件配置存储空间PUF可行性探索
郭俊杰;王婧;谢达
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0123
摘要
(
247
)
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(2350KB)(
86
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可视化
在静态随机存取存储器(SRAM)型现场可编程门阵列(FPGA)电路中,当电源启动并进行初始化时,SRAM单元通常会经历一个全面复位的过程。复位过程会导致SRAM单元内部的电荷分布形成一种特有的模式。提出了一种新的方法,利用配置内存中尚未使用的部分来识别电路,对8个Xilinx Virtex-7 FPGA进行总计200 000次的测量,评估了这种方法在同一电路中的一致性和在不同电路之间的差异性,以及随温度变化时和随时间老化后的稳定性。研究结果显示,SRAM物理不可克隆函数(PUF)能够有效地区分不同的FPGA电路。
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2024年第24卷第9期 pp. 090303
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三维集成电路先进封装中聚合物基材料的研究进展
*
范泽域, 王方成, 刘强, 黄明起, 叶振文, 张国平, 孙蓉
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0149
摘要
(
246
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可视化
人工智能、大数据、物联网和可穿戴设备的迅猛发展,极大地催生了对高端芯片的需求。随着摩尔定律发展趋缓,尺寸微缩技术使芯片遭遇了物理节点失效、经济学定律失效,以及性能、功耗、面积指标不足等诸多问题。作为延续和拓展摩尔定律的重要赛道,三维先进封装技术已成为推动高端芯片向多功能化以及产品多元化集聚发展的重要动力。先进封装技术的迅猛发展对聚合物基关键封装材料的耐腐蚀性、电气、化学和机械性能都提出了更高的要求。针对三维集成电路的先进封装工艺需求,论述了不同聚合物基关键材料的研究进展及应用现状,明晰了不同聚合物基材料所面临的挑战和机遇,提出了相应的解决方案,并展望了未来的研究方向。
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2024年第24卷第6期 pp. 060107
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GaN HEMT器件表面钝化研究进展
*
陈兴, 党睿, 李永军, 陈大正
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0168
摘要
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242
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(1867KB)(
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可视化
作为第三代半导体材料之一,GaN凭借其优异的材料特性,如较高的击穿场强、较高的电子迁移率以及较好的热导率等,在制备高频、高功率及高击穿电压的AlGaN/GaN HEMT器件方面得到广泛应用。然而,目前电流崩塌、栅泄漏电流、频率色散等一系列可靠性问题制约着AlGaN/GaN HEMT器件的大规模应用。表面钝化被认为是改善这些问题最有效的方法之一。对电流崩塌、界面态等的测试表征方法等进行了总结,综述了目前GaN表面钝化的研究进展。
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2024年第24卷第12期 pp. 120401
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集成电路学科建设背景下电子封装技术专业人才培养探索与实践
*
王尚;冯佳运;张贺;刘威;田艳红
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0095
摘要
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242
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(1933KB)(
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可视化
电子封装是为电子电路建立互连和合适工作环境的科学和技术,是构成芯片-器件-组件-产品的桥梁。正如有人所说“一代芯片需要一代封装”,随着集成电路特征尺寸的缩小和运行速度的提高,行业对集成电路封装技术也提出了新的、更高的要求。由于电子封装的多学科交叉、尖端技术的性质,在集成电路一级学科发展的背景下,依靠综合各领域人才分别解决封装问题的模式已经不能适应技术发展的需求。综述了国内外集成电路人才的培养模式,分析了当前电子封装技术专业人才培养体系的建设与发展现状。以哈尔滨工业大学在集成电路人才培养模式上的探索实践为例,提出相关人才培养应更加注重实践环节,并与研究生课程衔接,通过产学研三位一体培养具备综合能力的高端复合型人才。
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2023年第23卷第7期 pp. 070206
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大腔体陶瓷封装中平行缝焊的密封可靠性设计
丁荣峥,田爽,肖汉武
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0126
摘要
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241
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可视化
随着平行缝焊腔体尺寸的增大,尤其在中温共烧陶瓷封装和薄型高温共烧陶瓷封装中,常常存在平行缝焊的密封成品率相对较低和气密性可靠性相对较差的问题。通过分析氧化铝陶瓷封装的密封失效原因,提出优化平行缝焊可伐焊框和盖板的结构设计来提升密封可靠性。以采用FC-CPGA570封装形式的某型DSP电路为例进行仿真和验证,通过降低钎焊残余热应力、增加缓冲结构、采用盖板轻量化设计,实现了很好的密封成品率及好的密封可靠性,为同类产品乃至低温共烧陶瓷封装的气密性设计、可靠性提升提供参考。
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2024年第24卷第10期 pp. 100201
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SiP的模块化发展趋势
William Koh
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0075
摘要
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241
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可视化
系统级封装(SiP)技术已广泛应用于移动设备、可穿戴设备、健康和医疗设备、人工智能(AI)、物联网(IoT)和汽车电子。SiP采用异构集成的方式,将各种芯片和元件集成到一个封装中,以实现特定功能,并具有节省电路板空间、简化布局设计和降低制造成本等优势。随着电子组件的小型化发展方向不断持续,一些SiP已经发展成为模块或系统级模块(SiM),可以直接连接并安装到器件中。回顾了SiP从多芯片模块(MCM)、多芯片封装(MCP)到高级芯粒封装和共封装光学器件(CPO)的演变。未来几年,更多的SiP将变成SiM,直接连接器件或系统。
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2024年第24卷第7期 pp. 070204
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基于硅通孔互连的芯粒集成技术研究进展
张爱兵, 李洋, 姚昕, 李轶楠, 梁梦楠
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0124
摘要
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237
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可视化
通过先进封装技术实现具有不同功能、工艺节点的异构芯粒的多功能、高密度、小型化集成是延续摩尔定律的有效方案之一。在各类的先进封装解决方案中,通过硅通孔(TSV)技术实现2.5D/3D封装集成,可以获得诸多性能优势,如极小的产品尺寸、极短的互连路径、极佳的产品性能等。对TSV技术的应用分类进行介绍,总结并分析了目前业内典型的基于TSV互连的先进集成技术,介绍其工艺流程和工艺难点,对该类先进封装技术的发展趋势进行展望。
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2024年第24卷第6期 pp. 060110
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面向PCB应用的超薄铜箔电镀制备研究进展
高子泓, 刘志权, 李财富
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0084
摘要
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236
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可视化
电镀铜箔是PCB的核心材料之一,受到广泛关注。随着现代电子产品朝着多功能化、轻、小、薄方向发展,传统PCB制造技术在精细互连线路加工上已难以满足新的技术标准。采用以超薄铜箔(<5 μm)为核心材料的改良型半加成法,可以制备线宽/线距更小更窄(≤30 μm/30 μm)的互连电路。如何制备厚度在5 μm以下的高性能超薄铜箔是目前电子制造行业亟待解决的问题。总结了超薄铜箔在PCB中的应用方法,讨论了工艺参数、阴极基材和镀液组成等对铜箔电沉积行为、微观结构和性能的影响。综述了现有电镀法在调控超薄铜箔微观结构和性能方面的策略,并对电镀法制备超薄铜箔的未来发展趋势与研究方向进行了展望。
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2025年第25卷第5期 pp. 050104
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集成硅基转接板的PDN供电分析
何慧敏, 廖成意, 刘丰满, 戴风伟, 曹睿
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0145
摘要
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234
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(2862KB)(
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)
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集成硅转接板的2.5D/3D封装是实现Chiplet技术的重要封装方案。总结了传统电源分配网络(PDN)的供电机理,分析了先进封装下PDN存在的直流压降过大、路径电阻大等电源完整性问题,介绍了针对硅基转接板上PDN的等效电路建模方法,重点概述了2.5D/3D封装下PDN的建模与优化。通过将整块的大尺寸硅桥拆分为多个小硅桥、硅桥集成硅通孔(TSV)、增加TSV数量等方式减少电源噪声。最后,对比采用不同集成方案的DC-DC电源管理模块的PDN性能,结果表明,片上集成方案在交流阻抗、电源噪声以及直流压降等指标上都优于传统的基板集成方案,是3D Chiplet中具有潜力的供电方案。
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2024年第24卷第6期 pp. 060108
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基于通用异步收发器的高速SerDes测试
柏娜,朱非凡,许耀华,王翊,陈冬
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0132
摘要
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234
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可视化
提出了一种基于通用异步收发器(UART)的高速串行解串器(SerDes)的调试方法。由于SerDes在封装过程中管脚数量有限,难以把物理层(PHY)的测试点全部引出作为测试芯片的管脚。为了解决此问题,引入了UART模块作为PHY与外界通信的转换模块。针对待测的SerDes IP制定测试方案,此方案将UART等模块与待测IP级联,并通过UART模块将SerDes调试所需的配置参数传输到PHY的控制寄存器,从而在控制寄存器的控制下完成对PHY内部寄存器的读写操作。在1.25 Gbit/s、20 bit的工作模式下,完成对SerDes误码率的测试,实现了对SerDes芯片参数的动态调试,大大减少了测试复杂度和测试时间。
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2023年第23卷第10期 pp. 100203
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4047铝合金成分对激光焊接气孔的影响
李宸宇,王传伟,吴昱昆,魏之杰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0159
摘要
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234
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可视化
4047铝合金被广泛应用于航空航天微波组件中。探究了不同组织成分的4047铝合金在激光焊接中形成气孔的机理。研究结果表明,合金中的Si含量偏低会降低材料的热吸收率,导致热熔区流动性降低,易形成气孔。通过增大焊接激光功率,提高合金热输入量,可以减少气孔产生,提高产品的气密合格率。合金组织取向性引起的焊接应力增大也易导致焊接气孔的产生,通过在焊前进行消除应力退火处理,可以改善焊接质量。
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2023年第23卷第12期 pp. 120201
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功率器件塑封过程中引脚压伤问题研究
张怡
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0099
摘要
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231
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可视化
引线框架的引脚压伤是严重的质量问题,引脚压伤不仅会影响产品的外观质量,严重时会导致产品的电性能异常,甚至导致终端使用时发生短路、尖端放电等问题。结合实际发生的异常案例,列举了塑封过程中导致压伤的风险因素并逐项进行试验分析。采用Minitab软件进行了双比率及相关性试验,确认导致异常的主要因素。由此延伸到其他可能导致压伤的成因,确定了不同影响因素与引脚压伤的关联性。并从模具设计及工艺方法的角度提出改善意见,为改善实际生产中出现的引脚压伤问题提供了参考。
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2023年第23卷第8期 pp. 080202
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芯片封装界面接触热性能设计
王晨
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0053
摘要
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222
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2024年第24卷第4期 pp. 040601
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厚膜印刷陶瓷基板的版内电阻一致性改进
焦峰;邹欣;陈明祥
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0114
摘要
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可视化
使用丝网印刷工艺生产厚膜印刷陶瓷基板时,经常会出现版内不同区域印刷电阻不一致的问题。通过对丝网印刷过程中的网版张力、回弹力以及刮刀下压力的综合分析,得出印刷在承印物上的浆料量与网版张力、回弹力及下压力的合力成正相关的关系,进而分析得到刮刀印刷方向对于线型电阻的印刷有较大影响。经实验验证,相较于传统的刮刀平行于线型电阻长度方向印刷,当刮刀垂直于线型电阻长度方向进行印刷时,版内电阻漂移率从11.24%缩窄至4.46%,产品印刷电阻一致性得到较大程度的改善,可满足产品公差上下限要求,避免了昂贵的激光修阻工艺,节约了成本。通过实验证明对于复杂图形,线条取向与刮刀印刷方向的相互关系对浆料分布的均匀性有明显影响,复杂图形也验证了该结论的普适性。
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2024年第24卷第9期 pp. 090402
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TSV电镀过程中Cu生长机理的数值模拟研究进展
*
许增光, 李哲, 钟诚, 刘志权
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0109
摘要
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221
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可视化
近年来,电子信息行业的快速发展推动了封装技术的进步,对小型化、轻薄化、高性能和多功能化的电子设备提出了更高要求。硅通孔(TSV)技术是一种重要的先进封装技术,电沉积铜是其关键步骤之一。综述了TSV电镀过程中Cu生长的机理及数值模拟研究进展。TSV的深孔特性导致Cu生长过程中电流密度分布不均匀,从而产生不同的生长模式。有机添加剂在调节电流密度和防止缺陷填充方面发挥了关键作用。随着计算机技术的发展,数值模拟成为研究TSV电镀铜的重要手段,可降低实验成本,优化工艺参数。对TSV电镀铜的数值模拟发展进行了展望,强调了耦合影响因素的综合模拟是未来研究的重点。
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2024年第24卷第6期 pp. 060104
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不同I/O端数金凸点倒装焊的预倒装工艺研究
赵竟成,周德洪,钟成,王晓卫,何炜乐
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0146
摘要
(
221
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(1948KB)(
213
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可视化
金凸点热压超声倒装焊中涉及的主要工艺参数,如压力和超声功率,会随着I/O端数的改变产生较大差异。对具有不同数量I/O端的金凸点倒装焊工艺参数进行研究和优化,有助于透析产生差异的根源,指导实际生产。通过对I/O端数分别为121、225、361的金凸点倒装焊工艺参数进行研究,发现随着I/O端数量的增加,单位凸点上的最大平均剪切力依次减小,达到最大平均剪切力时所需单位凸点上的平均超声功率和平均压力依次减小。工艺窗口依次缩窄的主要原因是热压超声过程中传递的能量不均匀。在倒装焊工艺中,使用预倒装的方法可使各凸点在倒装焊中的能量分布更均匀,使用此方法对具有361个I/O端的芯片进行倒装焊,单位凸点上的平均剪切力达到了0.54 N,比未使用此方法时的平均剪切力(0.5 N)提高了8%。
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2023年第23卷第11期 pp. 110203
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宽带射频垂直过渡结构的设计
伊雅新,杨睿天,辜霄,李庆东,孙科,杨秀强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0142
摘要
(
220
)
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(1388KB)(
183
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可视化
针对多层毫米波的射频传输问题,设计了一种宽带射频垂直过渡结构。通过调节微带线枝节与绝缘子之间的匹配关系,使射频信号在多层介质基板中实现低损耗、宽频带的传输。利用三维电磁仿真软件对该过渡结构进行了建模仿真,实物加工和测试结果表明,在DC至40GHz的频带范围内回波损耗低于-8 dB,插入损耗大于-2.2 dB(包含了接头损耗及加工误差)。
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2023年第23卷第10期 pp. 100303
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回流焊工艺对SMT器件热翘曲的影响
吕贤亮,杨迪,毕明浩,时慧
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0101
摘要
(
220
)
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(928KB)(
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可视化
集成电路正在向小型化、高集成度的方向发展,回流焊工艺已成为其组装过程中的关键技术。在回流焊过程中集成电路容易发生热翘曲现象。采用阴影云纹法对PBGA1296、PBGA1024器件在不同回流焊温度、升降温速率等回流焊工艺参数下的热翘曲进行测量,在此基础上通过建模仿真对实验结果进行分析。结果表明,采用表面贴装技术(SMT)的BGA器件的热翘曲会随着回流焊温度的升高而增大,回流焊升降温速率较快同样会导致严重的热翘曲。实验结果与仿真结果高度一致,进而验证了仿真模型的准确性和有效性。采用实验结合有限元分析的方法为改善集成电路热翘曲提供了参考。
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2024年第24卷第5期 pp. 050206
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不同设备水汽含量检测比对分析
杨迪;李灿
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0111
摘要
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218
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(815KB)(
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可视化
介绍了2023年国内9家检测机构对空封陶瓷封装内部水汽含量检测的比对情况。水汽含量检测是反馈电子元器件封装工艺的重要手段,依据GJB548C—2021《微电子器件试验方法和程序》中的方法,通过质谱原理得到以10
-
6
为单位的水汽含量值。近些年,国内检测机构所使用的水汽含量检测设备处于新旧型号的更新迭代中,通过此次的比对数据来识别不同设备对封装内部水汽含量接近检测极限值时的检测差异程度,了解设备的性能状态,以提高机构间检测数据的互认度。制定了检测比对的详细方案,比对结果具有指导性。
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2024年第24卷第9期 pp. 090203
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纳米银焊膏贴装片式电阻的可靠性研究
*
王刘珏, 顾林, 郑利华, 李居强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0104
摘要
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218
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(1642KB)(
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可视化
采用纳米银焊膏对片式电阻进行表面贴装,并且通过加速老化试验模拟片式电阻焊点的服役环境,研究了不同的环境可靠性条件下焊点界面显微组织演变以及力学性能的变化。结果表明,纳米银焊膏采用无压烧结工艺能够实现片式电阻的表面贴装。经过环境可靠性验证后,虽然片式电阻焊点横截面的显微组织出现粗化现象,剪切断口的塑性变形区域逐渐缩小,但是其力学性能仍然满足GJB 548B-2005《微电子器件试验方法和程序》的规定。
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2023年第23卷第8期 pp. 080204
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Cu/SAC305/Cu焊点界面Ag和Sn扩散差异性研究
*
黄哲;郑耀庭;姚尧
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0117
摘要
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215
)
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(2300KB)(
256
)
可视化
电子元器件不断向小型化发展,电流密度也随之增大,因此焊点中的电迁移问题日益严重。电迁移现象的本质是元素扩散,为解决该问题并提升焊点的可靠性,必须深入研究焊点中的元素扩散过程。焊点通电时伴随着焦耳热,因此需综合考虑电效应和热效应。为解耦电迁移过程中的电流效应和热效应,分别进行了电流密度为1.04×10
4
A/cm
2
、温度为120 ℃的通电测试以及120 ℃下的热扩散测试。实验结果显示,两种条件下Cu基体内Ag和Sn扩散行为存在差异,并且观察到了Cu
6
Sn
5
金属间化合物(IMC)。从化学亲和力的角度计算发现,Cu-Sn的化学亲和力约为Cu-Ag的4倍,这表明Cu-Sn间更容易发生化学反应,从而阻碍Sn在Cu基体中的扩散。最后,通过分子动力学模拟得出,
D
Ag
/
D
Sn
比值为2.788~7.386。
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2024年第24卷第9期 pp. 090205
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光电共封装技术及其在光学相控阵中的应用研究
张郭勇,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0067
Select
金铝键合界面行为分析与寿命模型研究
张浩,周伟洁,李靖
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0002
摘要
(
211
)
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(1600KB)(
294
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可视化
随着电子封装技术的飞速发展,金铝键合工艺作为一种重要的金属间连接方式,在电子器件的制造过程中得到了广泛的应用。然而,在高温环境下,金铝键合界面的寿命会出现退化现象,直接影响整个电子系统的稳定性和寿命。设计不同温度下的高温加速寿命试验,对比分析不同时间条件下的金铝键合界面行为,研究金铝键合焊点的机械性能退化规律。同时,利用Arrhenius模型构建了金铝键合焊点的特征寿命与绝对温度的寿命应力模型,并根据寿命应力模型分别预测了焊点在非工作状态与工作状态下的特征寿命。
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2025年第25卷第1期 pp. 010201
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国产G200型LTCC生瓷带应用研究
兰耀海;吕洋;王飞;沐方清;张鹏飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0108
摘要
(
210
)
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(1007KB)(
150
)
可视化
为了推动低温共烧陶瓷(LTCC)生瓷带的国产化进程,同时系统深入地研究国产LTCC生瓷带的工艺加工性能和工程化应用,以进口LTCC浆料和自主研发的G200型LTCC生瓷带为研究对象,采用LTCC工艺制作测试基板,设计一系列应用验证实验方案,测试并研究G200型LTCC生瓷带的印刷精度、尺寸稳定性、烧结收缩率以及浆料共烧匹配性等关键性能。通过优化生瓷带的预热工艺、导体印刷等工艺参数,选择合适的基板放大系数及基板层数,使制作的LTCC基板产品达到实际应用要求。
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2024年第24卷第9期 pp. 090202
Select
适用于数字T/R组件的小型化三维SiP收发变频模块设计
宋俊欣, 杨旭, 潘碑, 柳超
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0147
摘要
(
208
)
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(1461KB)(
191
)
可视化
研究并实现了适用于数字T/R组件的2种小型化三维系统级封装(SiP)收发变频模块的设计。为了获得更高的隔离度与杂散指标,设计了2种SiP变频模块,分别实现Ku波段和S波段的一次变频功能,模块内部集成双向放大器、滤波器和混频器等。SiP变频模块采用三维垂直互联、板级堆叠工艺(POP)、LC滤波器等多种技术,每个模块的尺寸仅有14.2 mm×8.5 mm×3.8 mm。2种SiP模块组合使用可实现信号在Ku波段至125MHz的2次收发变频功能,8.5 mm的宽度非常适用于数字T/R组件。同时给出了SiP模块化数字T/R组件的设计解决方案。
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2023年第23卷第11期 pp. 110301
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CRYSTALS-Kyber算法的IP核设计与验证方案研究
王东澳,范晓锋,闵剑勇,殷浩,吴江,李宜,李冰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0045
摘要
(
208
)
PDF
(1400KB)(
120
)
可视化
随着量子计算机的不断发展,现有的公钥密码算法随时面临着失效的危机。而抗量子密码(PQC)算法的出现,使得这一危机得到化解。与此同时,CRYSTALS-Kyber算法由于其安全性高、速度快等优点在美国国家标准与技术研究院(NIST)标准化算法中脱颖而出。为提高硬件实现的效率及安全性,提出了一种基于CRYSTALS-Kyber算法的知识产权(IP)核设计与验证的方案。介绍了该系统的硬件实现方法及其中包含的3个模块,密钥生成模块、加密模块和解密模块,研究了实现IP核的关键单元数论变换(NTT)、高级可扩展接口(AXI)以及仿真验证的具体方案,并对总体方案进行了可行性分析。
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2024年第24卷第4期 pp. 040302
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ABF塑封基板叠孔的高可靠结构设计
葛一铭,谢爽,吕晓瑞,刘建松,孔令松
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0066
摘要
(
206
)
PDF
(2246KB)(
280
)
可视化
在塑封倒装焊结构中,有芯基板的布线过孔结构在温度循环载荷下的疲劳开裂是影响其可靠性的重要因素。为提升军用增强型有芯基板的设计可靠性,建立了基于Ansys有限元分析软件的塑封基板叠孔疲劳寿命仿真流程,通过子模型分析方法,预测了叠孔应力集中点的疲劳寿命,研究了叠孔位置、叠孔层数、芯层厚度、布线长度等因素对温度循环可靠性的影响。结果表明,铜布线结构最大应力应变点出现在叠孔底端与布线层连接处,这与实际生产中封装样品的失效模式一致,疲劳寿命仿真结果与实验结果相吻合。芯片对角位置叠孔的疲劳寿命比中心位置叠孔下降约36%。与2层叠孔相比,4层叠孔的疲劳寿命下降约55.6%。芯层厚度每增长0.4 mm,叠孔寿命相较于芯层厚度增加前分别下降约22.1%和27.5%。相较于370 μm布线结构中的叠孔,5 μm布线结构中叠孔的疲劳寿命下降约22.4%。
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2024年第24卷第3期 pp. 030209
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导电胶加速寿命模型评价方法研究
文科;谭骁洪;邢宗锋;罗俊;余航
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0113
摘要
(
206
)
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(813KB)(
212
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可视化
简要介绍了导电胶的失效模式和机理,设计加速寿命试验对导电胶工艺可靠性开展研究,选取导电胶工艺中的关键参数进行正交试验,确定温度应力作为导电胶贴装失效的加速应力。采用定时截尾方法进行试验,利用Arrhenius模型对试验结果进行分析,建立导电胶加速寿命可靠性评价模型,最终完成了对导电胶加速寿命可靠性模型的评价,为导电胶工艺在半导体集成电路中的应用和可靠性改进提供依据。
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2024年第24卷第9期 pp. 090401
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硅通孔三维互连与集成技术”专题前言
摘要
(
204
)
PDF
(964KB)(
439
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可视化
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2024年第24卷第6期 pp. 060100
Select
65 nm工艺SRAM中能质子单粒子效应研究
陈锡鑫;殷亚楠;高熠;郭刚;陈启明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0094
摘要
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204
)
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(798KB)(
121
)
可视化
基于一款带错误检测与纠正(EDAC)功能的65nm体硅CMOS SRAM,开展了中能质子对纳米级集成电路单粒子效应影响的研究。在SRAM本征工作模式和EDAC模式下,得到了2组试验结果。分析试验数据发现:在重离子与中能质子试验中,采用商用6T设计规则的电路均未发生单粒子闩锁现象,但都发生了单粒子多位翻转现象;质子单粒子效应引起的错误数已饱和,而重离子单粒子效应引起的错误数则随能量不断增加,该现象与2种粒子引起单粒子效应的机理有关。质子与重离子饱和截面的差异是由质子核反应的概率导致的,但空间错误率相近。此次试验很好地探索了中能质子对SRAM电路的影响,明确了质子与重离子导致单粒子错误的异同,为SRAM在航天上的应用奠定了基础。
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2023年第23卷第7期 pp. 070403
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微波等离子处理对导电胶可靠性的影响
陈婷, 周伟洁, 王涛
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0107
摘要
(
203
)
PDF
(1423KB)(
272
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可视化
研究了微波等离子工艺影响导电胶形貌的机理,进一步分析等离子清洗次数对电路可靠性的影响。结果表明,对装片后的电路进行1次等离子清洗可以有效清除键合指表面的有机沾污。而多次等离子清洗会改变导电胶的成分从而严重破坏导电胶形貌,容易造成块状的导电胶脱落,影响封装的可靠性。研究多次等离子清洗对导电胶表面形貌、芯片粘接强度等的影响,为采用合理的等离子处理参数提供了一定的理论参考。
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2023年第23卷第8期 pp. 080206
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电偶腐蚀对先进封装铜蚀刻工艺的影响
高晓义,陈益钢
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0143
摘要
(
202
)
PDF
(2042KB)(
190
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可视化
在先进封装的铜种子层湿法蚀刻工艺中,电镀铜镀层的蚀刻存在各向异性的现象。研究结果表明,在磷酸、双氧水的蚀刻液体系中,因电偶腐蚀造成的凸点电镀铜蚀刻量约为铜种子层蚀刻量的4.9倍。通过分析凸点上锡、镍镀层的能谱数据及蚀刻效果,发现该凸点结构中的锡、镍镀层表面存在钝化层,导致锡、镍镀层的蚀刻量远低于铜镀层。在加入不同添加剂的蚀刻液中,通过络合铜或破坏锡、镍镀层表面钝化层的方法,均能达到抑制凸点上铜镀层发生电偶腐蚀的效果。其中,复合型添加剂可以使凸点上铜镀层的横向蚀刻量降低约82%,并且添加剂无残留风险。
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2023年第23卷第11期 pp. 110201
Select
Sn57Bi0.1Sb钎料力学性能分析及Anand模型参数确定
杨浩,王小京,蔡珊珊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0177
摘要
(
201
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(1102KB)(
201
)
可视化
分析了0.1Sb掺杂Sn57Bi钎料合金在不同温度(25、60、80、100、120 ℃)和应变速率(0.0001、0.001、0.005、0.01、0.05、0.1 s
-1
)下的单轴拉伸力学行为,实验结果表明,Sn57Bi0.1Sb钎料表现出显著的温度和应变速率相关性。随着温度的升高,抗拉强度降低,而随着应变速率的提高,抗拉强度提高。在高温条件下,材料的初始强化阶段延长,且整体的强度增长速率减缓。在实验数据的基础上,采用非线性数据拟合方法对Anand本构模型进行参数确定,提取了描述材料黏塑性行为的9个重要参数。Anand模型通过内变量有效地捕捉了材料在不同条件下的应力-应变响应,包括温度、应变速率、硬化/软化效应等多重影响因素。模型的准确性通过实验数据得以验证,所得参数可以为后续的有限元模拟与工程应用中的材料设计提供可靠的参考依据。
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2024年第24卷第11期 pp. 110104
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基于晶圆级封装PDK的微带发夹型滤波器设计
孙莹;周立彦;王剑峰;许吉;明雪飞;王波
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0089
摘要
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可视化
基于中国电子科技集团公司第58研究所的晶圆级封装工艺及其工艺设计套件(PDK),完成了多款通带范围在20~68 GHz的5阶微带发夹型滤波器的设计和优化。首先,根据平行耦合滤波器的基础理论,计算发夹型滤波器的特征尺寸;其次,调用PDK中的衬底和元件模型实现滤波器的快速建模和参数优化;最后,采用多层再布线工艺对设计出的发夹型滤波器进行加工。实测结果和仿真结果具有较高的一致性,验证了该款晶圆级封装PDK的应用价值,能够为无源滤波器集成设计提供新的工具选择。
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2024年第24卷第8期 pp. 080202
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可变容量的高可靠Flash型FPGA配置存储器设计
曹正州,查锡文
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0127
摘要
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200
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采用0.18μm 2P6M Flash工艺设计了一款FPGA配置存储器,为SRAM型FPGA提供了串行和并行的码流加载方式,最高工作频率为50MHz,具有存储容量可变、可靠性高的优点。通过设计地址侦测电路实现了该FPGA配置芯片的存储容量可变,从而提高了该配置芯片的适用范围;通过设计双模的复位电路,使芯片更适应复杂的电源环境,提高了上电复位的可靠性;通过设计存储器内建自测试(MBIST)电路,实现了对Flash全地址存储空间的自测试和对电路的高效筛选,减少了芯片的测试时间,同时提高了配置芯片存储空间的可靠性。
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2023年第23卷第10期 pp. 100301
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基于SVR数据驱动模型的SiC功率器件关键互连结构热疲劳寿命预测研究
*
于鹏举, 代岩伟, 秦飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0162
摘要
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199
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烧结纳米银的互连可靠性对于SiC模块至关重要。随着人工智能与封装可靠性领域的交叉研究不断深入,发展基于数据驱动的互连可靠性评价方法已经成为该领域研究的前沿问题之一。以典型SiC互连结构为研究对象,将热疲劳寿命作为评价指标,通过综合研究芯片尺寸、烧结纳米银层尺寸和力学参数等关键因素,构建了基于支持向量回归(SVR)模型的烧结纳米银热疲劳寿命数据驱动预测模型,并对所提出的数据驱动模型进行综合量化考察和验证。通过研究关键互连参数的相关性矩阵,发现增加烧结银层厚度可以提高互连结构的寿命,而烧结银层弹性模量和SiC芯片厚度对互连可靠性有不利影响,该研究结果可用于指导SiC互连层的优化设计。
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2024年第24卷第12期 pp. 120201
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大气中子及α粒子对芯片软错误的贡献趋势
*
余淇睿, 张战刚, 李斌, 吴朝晖, 雷志锋, 彭超
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0103
摘要
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在先进工艺集成电路中,高能中子、热中子和α粒子造成的软错误愈发受到关注。研究了150 nm至16 nmFinFET工艺节点器件在大气环境中的单粒子效应。随着工艺节点的缩小,高能中子引起的单粒子翻转截面和软错误率整体上均呈下降趋势。高能中子引起的软错误率在各个节点中均占据主导地位。热中子在45 nm工艺节点下对软错误率有明显贡献,由其与W塞中所包含的
10
B核反应引起。α粒子在先进器件中的贡献整体出现下降趋势,在40 nm工艺节点下出现极小值。此外,16 nm工艺节点下FinFET结构的引入使集成电路的软错误率下降了一个数量级。
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2023年第23卷第8期 pp. 080401
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30 V SGT N-Channel MOSFET总剂量效应研究
徐海铭, 汪敏
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0162
摘要
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196
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对30 V SGT型N-Channel MOSFET进行了两种不同偏置的总剂量辐射实验,随着
60
Coγ源射线剂量的增加,给出了两种偏置状态下器件实验前后的转移曲线和直流参数变化,揭示了SGT型功率器件随剂量和偏置的变化趋势和机理。研究结果表明,随着总剂量的增加,两种偏置下器件的阈值电压、导通电阻和击穿电压均出现下降的情况。不同之处是OFF态下主要参数发生变化的幅度收窄,下降幅度相对较小。同时,出现了击穿电压先增加后下降的现象,分析认为,在
60
Coγ源射线的作用下器件沟槽栅极下方的多晶硅屏蔽栅极存在比较厚的氧化层,在低剂量时元胞和终端处的厚氧化层产生总剂量效应,使得SGT型功率器件发生局部场强改变,从而出现该变化。
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2023年第23卷第11期 pp. 110402
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基于ATE与结构分析的RRAM芯片测试技术研究
奚留华,徐昊,张凯虹,武乾文,王一伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0082
摘要
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196
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可视化
为了测试阻变存储器(RRAM)芯片,基于RRAM芯片的基本结构、接口定义、功能,分析并总结了其性能、工作模式和芯片时序。通过公式计算与实测技术相结合的方法,测定了RRAM芯片的容量。结果表明,基于结构分析的公式计算可依据RRAM存储单元的间距进而推导出RRAM芯片的容量。利用自动测试系统对RRAM芯片进行功能验证。同时,设计了1款RRAM芯片耐久性测试装置,全面评估了RRAM芯片的擦写性能。
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2024年第24卷第7期 pp. 070206
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基于陶瓷衬底的薄膜再布线工艺及组装可靠性研究
朱喆,黄陈欢,李林森,刘俊夫
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0167
摘要
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195
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可视化
随着军用武器装备向着智能化、小型化方向发展,业界对集成封装技术提出了更高的要求。基于陶瓷衬底的高密度薄膜再布线技术可应用于薄膜陶瓷多芯片组件(MCM-C/D)封装结构,实现感知系统、计算系统、测试系统等的小型化集成。制备了基于共烧陶瓷衬底的两层金属两层介质(HTCC-2M2P)结构的高密度载板样品,布线密度≤40μm/40μm,经过高温存储、温度循环等环境考核后,再布线层的可组装性满足GJB548标准对于焊接和引线键合的技术要求。
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2023年第23卷第10期 pp. 100208
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大功率器件基板散热技术研究进展
*
兰梦伟,姬峰,王成伟,孙浩洋,杜建宇,徐晋宏,王晶,张鹏哲,王明伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0091
摘要
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电子器件正朝着高性能和小型化方向发展,频率、功率和集成度不断提高,其内部大功率芯片产生的热量急剧增加,不仅影响器件工作效率和稳定性,还直接关系到整个系统的安全性和可靠性。大功率器件产生的热量主要依靠封装基板提供通道耗散,因此研究基板散热技术尤为重要。详细介绍了金属基板、陶瓷基板、复合材料基板等常规基板散热技术和微流道散热技术、相变散热技术、热电散热技术等新型基板散热技术的研究现状。其中,歧管微流道金刚石基板以及多种散热方式协同应用基板具备优异的冷却性能,有望大幅提高电子器件的功率和寿命。通过分析各种基板散热技术,期望为相关领域的研究和应用提供有价值的参考。
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2025年第25卷第3期 pp. 030111
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高功率电子封装中大面积烧结技术研究进展
*
边乐陶, 刘文婷, 刘盼
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0082
摘要
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在第三代半导体材料(如碳化硅和氮化镓)的推动下,大面积烧结技术因其在高功率电子封装中的独特优势,展现出广阔的应用前景。综述了银和铜作为大面积烧结材料在功率模块封装中的研究进展,系统分析了大面积烧结的定义标准、材料特性、工艺控制方法及其对接头性能的影响。探讨了大面积烧结过程中温度、压力、表面处理工艺等的优化策略,以提升接头的致密性、热导率及机械性能。此外,针对当前大面积烧结技术所面临的挑战提出了未来的优化方向。通过总结国内外相关研究成果,为大面积烧结技术在高功率电子封装领域的进一步发展提供了理论支持与实践参考。
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2025年第25卷第3期 pp. 030108
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大尺寸厚层硅外延片表面滑移线缺陷检验研究
葛华,王银海,杨帆,尤晓杰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0073
摘要
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目前制约大尺寸厚层硅外延产品高质量生产的主要因素是表面滑移线,而滑移线的过程控制严重依赖于滑移线的完整、准确检验识别。通过对不同宏观显现的滑移线表征方法的研究,比较了各类检验的误差来源,分析出了影响硅外延滑移线量化计算的主要因素,制定了科学合理的检验策略,提高了批量生产过程中滑移线检验的准确性与稳定性,取得了显著成效。
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2024年第24卷第7期 pp. 070403
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芯粒互连测试向量生成与测试方法研究
解维坤, 李羽晴, 殷誉嘉, 王厚军
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0175
摘要
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可视化
基于芯粒的2.5D和3D集成系统产品都具有大量的芯粒间互连,不可避免地会出现各种制造缺陷,互连测试对于提高2.5D和3D集成系统产品大规模生产过程中的质量和产量至关重要。在研究传统的I-ATPG和真/补测试算法等互连测试方法的基础上提出了一种新的代码字编码方法,只需要4个代码字即可对所有矩形网络和六角网络进行代码字编码。设计了一种基于IEEE1838标准的芯粒集成系统测试架构,给出了一种典型的双芯粒互连电路并进行了测试和仿真验证,系统性地介绍了芯粒间互连测试技术。
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2024年第24卷第11期 pp. 110103
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键合参数对电镀金键合性能的影响
*
王世春;沈若尧;任长友;张欣桐;武帅;邓川;王彤;郭可升;刘宏;郝志峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0120
摘要
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可视化
采用超声波键合对由无氰电镀金和含氰电镀金制备的封装材料进行金丝键合测试,研究了键合工艺参数(超声功率、超声时间、键合压力)对键合性能的影响。结果表明,采用无氰电镀金液的底材材料硬度高,金丝焊球处发生失效的现象较多,而采用含氰电镀金液的底材材料硬度低,金丝焊球处发生失效的现象较少。对于低硬度的电镀金层,其焊球直径和键合高度都较低,有助于键合金丝和电镀金界面实现更好的融合。超声时间是影响键合性能的主要因素,当超声时间增加至300 ms,金丝焊球不再出现失效,有效解决了键合性能不良的问题。
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2024年第24卷第9期 pp. 090206
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OLED掩模版Mura缺陷分析与改善
束名扬,张玉星,袁卓颖
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0033
摘要
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可视化
Mura缺陷管控作为关键技术指标直接决定着OLED器件的显示画质与良品率。针对OLED掩模版生产过程中发生的Mura缺陷,通过Mura不良分析发现这种缺陷与阵列像素单元邻近辅助图形有关,并在显影工艺后表现出阵列像素单元关键尺寸(CD)不均匀与宏观色差。依据显影工艺分析,基于旋喷式显影模式提出了一种分步显影方案,实验测试分析了显影液流速、旋转速度、纯水流速以及纯水/显影液过渡时间等工艺参数对Mura缺陷的影响。通过优化显影工艺,实现阵列像素单元CD不均匀性优于120 nm,阵列像素单元边缘Mura不良区域由大于3%降低至无视觉可见Mura,结果表明该工艺方案可以显著改善Mura缺陷。
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2024年第24卷第3期 pp. 030401
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GaN芯片封装技术研究进展与趋势
*
宋海涛,王霄,龚平,朱霞,李杨,刘璋成,闫大为,陈治伟,尤杰,敖金平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0104
摘要
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可视化
作为第三代半导体材料,GaN因其高电子迁移率、高击穿场强等优异特性,正被广泛应用于高频、高功率电子器件。然而,其封装技术面临诸如热管理、电气性能优化以及封装可靠性等挑战,同时还需要满足更紧凑、更集成的需求。重点讨论了目前GaN芯片封装的多种解决方案,包括晶体管外形(TO)封装、四边扁平无引线(QFN)封装等分立器件封装结构,晶圆级封装(WLP)、多芯片模块(MCM)合封器件封装结构以及诸多先进封装技术。分析了封装技术的发展趋势,如集成化、模块化封装,以及面向高频、高功率应用的优化方法。随着技术的不断突破,GaN封装有望在更高效、更可靠的方向上取得进一步进展,以满足不断增长的市场需求。
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2025年第25卷第3期 pp. 030112
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兼具高导热、低膨胀系数的超低介电损耗封装材料
徐杰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0116
摘要
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190
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可视化
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2024年第24卷第5期 pp. 050601
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国产FPGA高速串行接口误码率测试软件设计
李卿,段辉鹏,惠锋
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0061
摘要
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188
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可视化
随着内嵌高速串行接口FPGA的广泛应用,其信号质量的监测变得极为重要。设计了一种基于国产FPGA芯片的高速串行接口误码率测试软件,采用软核实现高速串行接口误码率统计、属性动态重配置,利用上位机软件进行实时监测,有效地提高了测试效率。通过实际用例详述了软件进行误码率测试的方法与步骤,进而验证了该软件测试的有效性。研究结果表明,该软件具有较好的用户体验度、较高的测试效率,对FPGA国产化进程起到了积极的推动作用。
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2024年第24卷第5期 pp. 050304
Select
反熔丝FPGA器件应用失效分析
完文韬;郭永强;孙杰杰;隽扬
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0115
摘要
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188
)
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(924KB)(
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可视化
反熔丝器件具有低功耗、高可靠、抗辐照性能优良等特点,作为航天领域广泛使用的核心芯片,其失效机理尤为重要。针对某型反熔丝器件板级应用失效问题,列出故障树,对疑点逐一排查,配合后仿真波形,最终定位了故障原因,并进行了失效机理分析。故障发生原因与开发软件版本等因素相关,使用者往往不了解软件版本的更新细节,该因素通常不易被设计者重视。针对该失效问题提出了解决措施,选取样品重新进行烧写测试。经过实测验证,故障现象消失,改进措施有效。
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2024年第24卷第9期 pp. 090501
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一种9~26 GHz宽带MMIC低噪声放大器的设计与实现
叶坤,张梦璐,蒋乐,豆兴昆,丁浩
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0139
摘要
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188
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可视化
基于0.15 μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(pHEMT)工艺实现了一款工作频率覆盖9~26 GHz的宽带低噪声放大器。该放大器采用三级共源放大电路级联结构,前两级放大器采用电流复用来降低电路功耗,并提供一个较高的增益,并在后两级引入并联负反馈结构来扩展带宽、改善增益平坦度。测试结果表明,在9~26 GHz的宽频带范围内,芯片为单电源+5 V供电,静态电流为55 mA,噪声系数不大于2.5 dB,小信号增益大于18 dB并具有一定的正斜率,输出功率1 dB压缩点高于13 dBm,尺寸为1.75 mm×1.05 mm,具有宽频带、低噪声、低功耗、面积小等性能优势。
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2023年第23卷第10期 pp. 100302
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玻璃基三维集成技术领域系列研究新进展
吉力小兵, 张继华
摘要
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187
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(774KB)(
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2024年第24卷第3期 pp. 030601
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GaN器件辐照效应与LDO电路的单粒子敏感点协同设计研究
*
朱峻岩;张优;王鹏;黄伟;张卫;邱一武;周昕杰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0010
摘要
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187
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可视化
创新地开展p型栅GaN器件的单粒子辐照与建模研究,提取的单粒子激励电流首次被加载用于全GaN的低压差线性稳压器(LDO)稳压电路的单粒子设计中,获得了该电路单粒子敏感节点,最终得到该节点在重载状态与轻载状态时对应的单粒子瞬态(SET)响应分别为500 mV/60 ns,1210 mV/60 ns。上述研究建立起GaN器件-全GaN基电路的T-CAD/SPICE单粒子效应协同设计方法。
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2024年第24卷第1期 pp. 010404
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光伏二极管应用可靠性建模与评价研究
张俊,程佳,林子群,徐延伸
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0122
摘要
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185
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(1106KB)(
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可视化
结合光伏二极管的应用环境,分析其工作寿命周期、应力分布和应用环境对光伏二极管的影响,建立了更为实际的应用可靠性模型。设计了针对性的加速应力试验,结合性能退化试验数据和失效阈值推定出伪失效寿命,根据伪失效寿命、分布假设和拟合优度检验评估了加速应力条件下的寿命分布参数。通过各应力适用的加速模型进行了试验应力和工作应力的折算,评估出光伏二极管应用的可靠性模型参数,完成了应用可靠性评价。该方法在传统评价方法的基础上引入了工作应力分布的权重因子,进一步完善了光伏二极管的应用可靠性模型,可为类似器件的可靠性评价提供技术参考。
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2023年第23卷第9期 pp. 090405
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不同种类氧化铝对碳氢树脂覆铜板导热率的影响
刘永成, 尹月骏, 张中华
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0109
摘要
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184
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可视化
氧化铝是一种性能优异的导热填料,通常将氧化铝与其他陶瓷填料复配,加入到碳氢复合树脂中制备出具有高导热系数的碳氢树脂覆铜板。研究发现,碳氢树脂高频覆铜板的导热性能主要取决于氧化铝的粒径和颗粒形状。在氧化铝添加量不变的情况下,D50粒径为5 μm的角形氧化铝导热效果优于D50粒径为10 μm的球形的氧化铝。通过添加同等比例球形氧化铝及角形氧化铝并进行复配,得到的碳氢复合物具有最优的导热系数[0.73 W/(m·K)],且具有较低的介质损耗(0.0038)和极低的吸水率(0.065%)。
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2023年第23卷第8期 pp. 080501
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一种抗干扰的电容式触摸传感控制器设计
冯海英,王芬芬,刘梦影,屈佳龙,兰亚峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0034
摘要
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184
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(1078KB)(
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可视化
随着触控技术的广泛应用,用于按键应用的电容式触控呈快速发展趋势,其抗干扰性也愈发受到关注。设计了一种抗干扰的电容式触摸传感控制器,该电容式触摸传感控制器不仅可以任意配置充电及电荷转移时序,还具备扩频功能。仿真结果表明,该电容式触摸传感控制器具有良好的灵活性和抗干扰性。
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2024年第24卷第3期 pp. 030501
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时钟缓冲器附加抖动分析
陈文涛;邵海洲;胡劲涵
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0012
摘要
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183
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可视化
附加抖动是时钟缓冲器的一项关键指标。从相位噪声的角度对附加抖动计算公式进行了理论推导,证明了附加抖动计算公式的正确性。通过对时钟缓冲器的实际测试,从实测角度对附加抖动计算公式的推导进行了验证。结合附加抖动计算公式,给出了时钟缓冲器附加抖动测试中的注意事项,以保证测试结果的准确性。
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2024年第24卷第1期 pp. 010205
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基于STM32H7的ADC静态参数测量系统设计
丁光洲;高宁;徐晴昊;徐忆;李辉
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0086
摘要
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183
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218
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可视化
国内的数字电源已经成为电源类芯片中不可或缺的产品,其内部反馈控制回路中的模数转换器(ADC)芯片精度直接影响整个电源输出的精度和稳定性。ADC静态参数——积分非线性(INL)与微分非线性(DNL)——是评价ADC精度的重要指标,目前国内针对数字电源中ADC的静态参数测试的设备操作复杂、成本高,缺乏相应的灵活性,因此设计一种低成本、易操作的静态参数测试系统尤为重要。设计了一种基于STM32H7的ADC静态参数测试系统,通过试验验证了测试系统的准确性和可行性。
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2024年第24卷第8期 pp. 080203
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表面贴装大功率器件热匹配问题可靠性仿真
*
胡运涛,苏昱太,刘灿宇,刘长清
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0083
摘要
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可视化
针对表面贴装大功率器件中不同材料间热膨胀系数差异所引起的热力学不匹配问题,在不同升温速率下对关键互连结构的寿命与可靠性进行分析。探讨了材料热膨胀不匹配对器件性能和长期可靠性所带来的潜在影响。利用Anand本构模型详细描述了SAC305焊料的力学特性,重点分析了其应力应变与温度特性。基于Coffin-Manson模型进行了寿命评估,系统分析了焊料的疲劳失效与塑性应变的关系。仿真结果表明,温度变化速率越大,热力不匹配越明显,导致元器件内部产生较大的热应力和热疲劳效应,使得元器件寿命及可靠性降低。
参考文献
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2025年第25卷第3期 pp. 030109
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一种应用于Sub-6G的宽带低功耗低噪声放大器
*
倪城,王毅炜,杨定坤
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0156
摘要
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181
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可视化
提出了一种工作频率覆盖Sub-6G的宽带低噪声放大器(LNA),该电路采用电阻自偏置AB类放大器级联共源共栅放大器的结构,在实现宽带工作的同时兼具高增益、低功耗的特点。该LNA采用TSMC 40 nm CMOS工艺,在1.3 V工作电压下,增益高于27 dB,噪声系数低于2.6 dB,三阶输入交调截点为-5.6 dBm @ 6 GHz,1 dB压缩点为3.4 dBm @ 6 GHz,静态功耗仅为0.94 mW,版图面积为0.014 mm
2
。
参考文献
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2023年第23卷第12期 pp. 120302
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面向芯片三维封装的低成本玻璃基深沟电容技术
胡芝慧, 钟毅, 窦宇航, 于大全
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0165
摘要
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181
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(531KB)(
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2023年第23卷第10期 pp. 100601
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“高密度有机封装基板”专题前言
李轶楠
摘要
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2024年第24卷第2期 pp. 020100
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嵌入合金框架的扇出型板级封装结构及其翘曲仿真分析
*
余胜涛,笪贤豪,何伟伟,彭琳峰,王文哲,杨冠南,崔成强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0156
摘要
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扇出型板级封装(FOPLP)依靠其小线宽/线距、高集成度、小尺寸等优势,从封装角度形成集成电路的优解,实现摩尔定律的延续。针对FOPLP的大尺寸带来的翘曲及可靠性问题,提出在封装载板内嵌入TC4钛合金框架,研究TC4钛合金框架的尺寸参数对翘曲的影响。采用有限元仿真分析方法评估了TC4钛合金框架的长度、宽度及厚度对封装翘曲的影响。随着TC4钛合金框架尺寸参数的增大,封装翘曲均有所降低。此外,利用正交分析实验分析了尺寸参数对翘曲的交互效应,得到了关键参数的最佳窗口。利用阴影云纹法测量产品,得到的翘曲结果与仿真结果展现出较好的一致性。
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2024年第24卷第11期 pp. 110201
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处理器体系结构模拟器综述
杨亮;王亚军;张竣昊;李佩峰;张帅帅;韩赛飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0097
摘要
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随着处理器的微结构和拓扑结构越来越复杂,结构设计空间呈几何倍数增加,导致处理器性能评估难度加大,处理器体系结构模拟器对评估处理器性能、分析性能瓶颈以及进一步的性能优化具有重要意义。针对处理器体系结构以及功能/性能评估的精度、复杂度与准确度的不同需求,分别研究功能模拟器、性能模拟器以及混合模拟器的模型结构以及模拟行为的构建方法。进一步阐述了国内外处理器厂商在设计的不同阶段引入体系结构模拟器的各类应用,结合实际应用对处理器体系结构模拟器的特征进行总结,并介绍了新型应用背景、新型处理器体系结构下体系结构模拟器的发展趋势。
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2024年第24卷第8期 pp. 080301
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纳秒紫外激光修复高密度铜印制线路板研究
*
曾宇杰;徐广东;吴松;杨冠南;崔成强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0084
摘要
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采用液相还原法制取纳米铜颗粒,与乙二醇溶剂混合配成膏体,利用紫外激光修复铜印制线路板上线路的缺失部分。探究了不同激光功率、速度和频率等参数对修复后的线路形貌以及各项性能的影响,得出最佳工艺参数。修复后线路的电阻值与激光功率的关系并未发现明显规律。在激光功率为0.4 W、速度为100 mm/s、频率为150 kHz时,激光修复后的线路表面平整且无裂痕,其电阻只有0.2 Ω(电阻率为4×10
-6
Ω·m)。经过弯曲测试,弯折处的铜线路受应力影响发生部分分离,线路的电阻值随弯曲次数的增多呈增长趋势,4次弯曲后的电阻值是未弯折时电阻值的9倍。
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2023年第23卷第7期 pp. 070202
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一种超低静态电流ACOT降压转换器
汪东,谢凌寒
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0115
摘要
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在可穿戴和物联网等应用领域,电池通常为系统供电。为保证系统能长时间待机,需要电源芯片具有超低待机电流。为降低待机功耗,在空载进入休眠模式时关断大部分电路,仅保留低功耗振荡器(LP_OSC)、电压基准的采样保持电路和低功耗比较器(LP_CMP),待机电流仅为430 nA。为保证良好的负载瞬态响应,设计了自适应恒定导通时间(ACOT)架构。该架构具有瞬态响应好、电流连续模式频率稳定、环路稳定性好等特点。该芯片可提供最大600 mA的负载电流,峰值效率可达96%,在输入电压为5 V、输出电压为3.3 V、带载电流为10 μA时,效率大于80%。
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2023年第23卷第9期 pp. 090301
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基于电源分配网络仿真确定封装电容的方法
徐小明;纪萍;朱国灵;季振凯
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0091
摘要
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在FPGA、CPU、GPU、DSP等产品的封装设计中,不仅需要考虑信号的完整性,还需要考虑电源分配网络。集成电路封装会增加芯片电源网络的电感,导致芯片性能下降,影响器件的质量。由于封装空间的限制与基板阻抗的要求,在封装基板上贴装符合设计的去耦电容以降低阻抗,对满足芯片性能要求至关重要。采用SIwave与ADS等软件工具对配电网络进行仿真,通过时域和频域两种分析方法可快速确定整个供电网络是否满足芯片的供电需求。
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2023年第23卷第7期 pp. 070204
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STT-MRAM存储器数据保持试验方法研究
杨霄垒,申浩
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0069
摘要
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自旋转移力矩磁随机存储器(STT-MRAM)的基本存储单元结构为磁性隧道结(MTJ),该单元的热稳定性会随着温度的升高而变弱。MTJ这一特性导致传统激活能计算模型无法直接应用于STT-MRAM的高温数据保持特性测试,因此研究STT-MRAM的数据保持特性需探究可替代其激活能的参数。为此,搭建了基于Xilinx Kintex-7系列FPGA的测试系统,进行了多个温度数据保持试验,最终拟合出一个代替激活能来衡量STT-MRAM数据保持能力的参数,即热稳定因子。该多温度数据拟合热稳定因子的方法可有效评估STT-MRAM器件数据保持能力。
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2024年第24卷第7期 pp. 070402
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一款18~40 GHz MMIC无源双平衡混频器
陈亮宇,骆紫涵,许丹,蒋乐,豆兴昆
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0057
摘要
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基于0.15 μm GaAs赝配高电子迁移率晶体管(pHEMT)工艺,设计了一款18~40 GHz的无源双平衡混频器。该混频器采用肖特基二极管构成的混频环和3耦合线Marchand巴伦的结构,提高工作带宽的同时也减小了芯片尺寸。当本振(LO)功率为14 dBm、中频(IF)频率为100 MHz时,常温下流片测试的各项参数典型值为上下变频模式下LO/射频(RF)频段覆盖18~40 GHz,带内变频损耗为-7 dB,1 dB压缩点功率值为10 dBm,LO到RF端口的隔离度为-25 dB,同时其余各端口之间具有优良的隔离度。中频覆盖频率为DC~20 GHz,芯片尺寸为1.63 mm×0.97 mm。
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2024年第24卷第5期 pp. 050302
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磁性存储器陶瓷封装磁屏蔽设计与抗磁场干扰测试
赵桂林,郭永强,叶海波,王超,杨霄垒,孙杰杰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0173
摘要
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磁性随机存取存储器(MRAM)通过磁性隧道结(MTJ)作为存储单元来存储信息,通过外加电流产生磁矩改写MTJ的信息,这种工作原理使得MRAM容易受到外部磁场的干扰,限制了MRAM在强磁场等恶劣环境下的应用。使用COMSOL软件进行仿真,设计并制作了磁屏蔽陶瓷外壳,搭建了基于Xilinx VIRTEX4系列FPGA的MRAM抗磁场干扰能力测试平台,进行了MRAM抗磁干扰能力实验。测试结果表明,采用带磁屏蔽结构的陶瓷外壳进行封装极大地降低了MRAM受外界磁场的干扰程度,所测试芯片的抗磁场干扰能力由35 Oe提高到420 Oe。
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2024年第24卷第10期 pp. 100208
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一种高压驱动器的抗辐射加固设计
蒋红利, 江月艳, 孙志欣, 邵卓, 钟涛, 高欣宇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0111
摘要
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随着星载雷达技术的发展,发射及接收(T/R)组件系统中的发射功率越来越高。高压调制驱动器配套功率开关PMOS管,作为T/R组件中大功率GaN功放的电源调制驱动,大大提高了T/R组件的集成度及可靠性。介绍了一款T/R组件系统中32V的高压调制驱动器,基于高压BCD工艺进行设计、流片,设计上通过选取合适的高压器件及器件工作电压,优化逻辑结构、版图器件隔离及布线等技术进行抗辐射加固。经过验证,产品达到了100krad(Si)总剂量指标及75MeV·cm
2
/mg的单粒子指标。
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2023年第23卷第8期 pp. 080303
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基于16 nm FinFET工艺FPGA的低功耗PCIe Gen3性能研究
季振凯,杨茂林,于治
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0148
摘要
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大数据时代对高速总线的高带宽、低延时及高灵活性有更苛刻的要求,高速串行总线(PCIe)与FPGA的集成能够满足新兴领域的需求,但需要对其在高温和低温下的性能稳定性及低功耗性进行探究。以16 nm FinFET工艺SRAM型FPGA为对象,搭建针对低功耗PCIe第三代(Gen3)的高速通信的性能测试、温升测试以及高温及低温功耗测试方案。测试结果表明,在通信过程中被测电路与CPU通信稳定,读写速率分别可达3907 MB/s、4430 MB/s,达到理论最大带宽的54.1%、61.4%;被测电路温升不显著,常温下电路的表面温度比对照电路低18.4%;其在高温125 ℃下的功耗比对照电路低41.9%。该工艺下的电路能够稳定运行PCIe Gen3总线,并在低功耗、低发热状态下实现高质量的信号传输。
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2023年第23卷第11期 pp. 110204
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一种高PSRR低压差线性稳压器电路
*
黄立朝,丁宁,沈泊言,余文中,樊华,曾泳钦,冯全源
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0046
摘要
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可视化
通过对低压差线性稳压器(LDO)的电源抑制比(PSRR)进行理论分析得出,功率管栅极电压与LDO输入电压的小信号比值越接近1,PSRR就越高。基于此理论,在传统LDO的基础上增加了1种新结构,将二极管连接形式的MOS管与共源共栅结构串联,使功率管栅极电压与LDO输入电压的小信号比值接近1。随后,对该结构进行了理论分析,分析结果表明相比其他的PSRR提升技术,具有该结构的LDO其PSRR不会随着负载电流的增加而发生较大变化。LDO改进前和改进后PSRR的绝对值分别为65 dB和76 dB;改进后的结构在不同的负载电流下均具有较高的PSRR。相比体驱动前馈以及增加电荷泵将电源回路与LDO主体电路隔离等PSRR提升技术,该方法仅在传统LDO上增加了3个MOS管,减小了电路的功耗和面积。
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2024年第24卷第4期 pp. 040303
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射频绝缘子焊接问题及解决措施
魏玉娟,尉志霞,周琳琳,王舜,陈婷
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2022.0099
摘要
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可视化
射频(RF)绝缘子在通信、雷达、导航等领域被广泛应用,其焊接质量直接影响设备的性能和可靠性。在微波组件装配过程中,采用焊接工艺将RF绝缘子固定在盒体中,RF连接器在长期使用过程中会挤压RF绝缘子和焊料,导致焊料内溢进而造成短路,或者焊点因受力开裂导致开路。此外,RF绝缘子的焊接空洞率不佳会导致产品性能受限。为了提高RF绝缘子的焊接质量,利用工装将RF绝缘子与盒体紧密配合,以避免RF绝缘子及焊料受到挤压,同时引入真空环境保证RF绝缘子的钎透率,以提高产品的电气性能。
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2024年第24卷第4期 pp. 040207
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鱼眼型高速连接器的材料性能识别与压接特性仿真研究
侯冰玉,盛依航,耿秀侠,胡俊,王剑,王世堉,王明智
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0022
摘要
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可视化
获取高速连接器关键部位准确的力学性能参数,是开展连接器插拔过程仿真和压接可靠性优化设计的前提。针对某型号鱼眼型高速连接器关键部位的材料开展纳米压痕实验,获取了顺应针和PCB孔镀层的载荷-位移曲线。结合内点罚函数优化算法,采用反演求解的方法得到了顺应针和PCB孔镀层的力学性能参数。建立鱼眼型高速连接器插拔过程的有限元模型,将仿真结果与实验结果进行对比,验证了仿真模型的有效性。对顺应针的几何结构进行参数化表征,通过调整顺应针和PCB孔的几何参数,分析几何参数与插拔力的关系,为鱼眼型高速连接器插拔特性的优化以及可靠性分析提供了参考。
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2024年第24卷第3期 pp. 030204
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一种基于LabVIEW开发环境的直流稳定电源自动化校准系统
凌勇;袁鹤龄;陆敏玉
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0085
摘要
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可视化
为了利用自动化设备替代人工进行电源校准工作,基于LabVIEW开发环境设计了直流稳定电源自动化校准系统,从而实现校准过程整体效能的提升。该自动化校准系统的设计可分为校准启动、校准作业以及校准收尾3大过程,对每个过程的典型技术难点和实现方案分别进行了阐述。通过单台不同类别电源校准耗时和单日不同类别电源校准件数2项指标,将自动化校准与传统人工校准进行数据对比,凸显出应用直流稳定电源自动化校准系统进行校准的巨大优势。
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2023年第23卷第7期 pp. 070501
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半加成工艺中薄化铜后烘烤对剥离强度的影响
林君逸,俞宏坤,欧宪勋,程晓玲,林佳德
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0123
摘要
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200
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可视化
近年来,半加成法成为了一种新的印制电路板的线路制作工艺,但其存在树脂与铜箔间的剥离强度不高的问题。通过拉力测试以及扫描电子显微镜、红外光谱、X射线光电子能谱的表征,探究了BT树脂基板在薄化铜后进行烘烤对树脂剥离强度的影响。研究结果表明,板材的失效模式是树脂的内聚破坏,经过烘烤后,树脂与增强颗粒间的结合力下降,树脂本身会受到铜离子催化氧化的影响,结构发生改变,导致强度降低。对失效机理的研究为半加成法提供了改进思路。
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2023年第23卷第9期 pp. 090202
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车规电子零缺陷质量管理在航天领域的启发与推广
曹玉翠,刘钊,汪小勇,李泽宇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0043
摘要
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165
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可视化
介绍了车规电子标准AEC-Q004的质量管理框架,对框架中各阶段质量控制工具和办法进行了详细的解读。研究了车规电子产品的相关标准与军用、宇航用标准之间在质量保证要求、试验内容上的区别与联系。针对零缺陷质量管理在航天领域的启发做了推广与展望,并提出后续建议及重点研究方向。研究结果对我国军工企业增强质量管理能效、提高产品可靠性具有一定的借鉴意义。
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2024年第24卷第4期 pp. 040502
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“面向先进封装应用的铜互连键合技术”专题前言
刘志权
摘要
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165
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(395KB)(
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2025年第25卷第5期 pp. 050100
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电镀纯锡镀层与钢带结合强度的优化研究
*
周杰,胡宇昆
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0128
摘要
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164
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可视化
电镀工艺被广泛应用于半导体封装测试领域。在电镀纯锡的过程中,传送钢带夹具易出现镀层结合力差的问题,导致锡粉掉落及黏附于产品表面。基于电镀原理综合分析电镀缺陷发生机制及影响因素,分别从活化过程、预浸过程、电镀液成分及电流密度4个方面提出改善镀层与钢带结合强度的途径。结合实际电镀工艺改进案例,提出在活化槽中增加0.3~0.6 V的反向活化直流电压、在预浸过程选取30~50 A的电流、将活化槽液位提高5~10 mm、将电镀电流控制在95~125 A及将锡离子的质量浓度控制在50~80 g/L等改进工艺,可以有效提高镀层与钢带的结合强度。
参考文献
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2023年第23卷第9期 pp. 090205
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2~6 GHz小型化、高效率GaN功率放大器
刘健,张长城,崔朝探,李天赐,杜鹏搏,曲韩宾
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0119
摘要
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164
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162
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可视化
基于GaN功率放大器小型化、轻薄化的发展趋势,选用陶瓷方形扁平无引脚(CQFN)管壳封装,设计了一种2~6 GHz宽频带、小尺寸、高效率的功率放大器,并阐述了设计方法和研制过程。随着器件功率密度的不断升高,散热问题成为设计中不可忽略的因素,分别采用热仿真分析及红外热成像测试方法,得到功率放大器芯片的最高温度为198.61 ℃,能满足散热需求。功率放大器尺寸为7.0 mm×7.0 mm×1.2 mm,在连续波测试条件下,漏极电压为28 V,工作频带为2~6 GHz,饱和输出功率大于40.5 dBm,功率增益大于23 dB,功率附加效率大于35%,测试结果均满足实际需求。
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2023年第23卷第9期 pp. 090402
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端口双向耐高压电路的ESD防护设计技术
邹文英;李晓蓉;杨沛;周昕杰;高国平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0004
摘要
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可视化
随着CMOS工艺的快速发展,集成电路多电源域设计越来越普遍,电路全芯片ESD设计也越来越复杂。介绍了一款基于0.35 μm CMOS工艺的32路抗辐射总线接口电路的ESD设计技术。同时,对双向耐高压输入管脚的ESD进行加固设计,提高了芯片的抗ESD能力。抗辐射32路总线接口电路通过了4.0 kV人体模型ESD测试,测试结果验证了该设计的有效性。
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2024年第24卷第1期 pp. 010301
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碳纳米管场效应晶体管重离子单粒子效应研究
翟培卓;王印权;徐何军;郑若成;朱少立
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0002
摘要
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162
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(1534KB)(
210
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可视化
碳纳米管场效应晶体管(CNT FET)具备优良的电学性能和稳定的化学结构,表现出较强的恶劣环境耐受能力,但其抗辐射性能仍缺乏充足的试验验证。以超薄CNT为沟道材料、HfO
2
为栅介质层的CNT FET为对象,研究了
209
Bi重离子辐射引起的器件单粒子效应(SEE)。研究结果表明,在重离子辐射条件下,栅极单粒子瞬态电流大多处于10
-11
A数量级,少数达10
-10
A数量级;由于CNT FET具有纳米级超薄CNT沟道,漏极电流对单粒子辐射不敏感,漏极单粒子瞬态电流几乎可以忽略,无单粒子烧毁效应(SEB);得益于HfO
2
栅介质层,CNT FET未发生单粒子栅穿效应(SEGR),表现出较强的抗单粒子能力。
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2024年第24卷第1期 pp. 010401
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倒装贴片设备的焊接机构温度误差补偿方法
黄云龙
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0106
摘要
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(1589KB)(
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可视化
简要介绍了倒装贴片设备的焊接机构和工作过程。分析了焊接机构的机械结构使贴片精度产生较大热误差的机理,并提出了补偿措施。通过Ansys有限元分析软件对焊接机构有效发热点的温度变化状态进行仿真,找到温度关键点。使用无线贴片式热电阻温度传感器检测焊接机构关键点的温度和上照、下照视觉系统的位置偏差,建立神经网络热误差模型。验证结果表明,此方法使倒装贴片设备的
x
、
y
方向上的贴片精度偏差在±10μm以内,
x
方向上的过程能力指数
C
pk
达到1.310,
y
方向上的
C
pk
达到1.697,满足设备的基本要求。
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2023年第23卷第8期 pp. 080205
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基于开关电容放大器的低面积开销ADC
*
黄合磊, 佴宇飞, 虞致国, 顾晓峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0105
摘要
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可视化
针对模数转换器(ADC)在存内计算芯片中面积占比大的问题,提出了一种基于开关电容放大器的低面积开销ADC,包括一个全局数模转换器(GDAC)和基于开关电容放大器的局部列级ADC。整体电路采用单端逐次逼近型(SAR)ADC架构,利用开关电容放大器实现电压的逐次逼近,大幅度减少了单位电容数量,降低了局部列级ADC的整体面积开销;局部列级ADC共用由GDAC同步产生的参考电压,提高了ADC的整体面积效率。基于55 nm CMOS工艺设计了单列8位ADC,电源供电电压为1.2 V,输入电压范围为200~800 mV,在2.22 MSa/s的采样速率下,其功耗为144 μW,面积为792 μm
2
。仿真结果表明,ADC的有效位数为7.86 bit,无杂散动态范围为64.3 dB,品质因数(FoM)为987 pJ×μm
2
/conv。
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2023年第23卷第8期 pp. 080301
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IMC厚度对混装焊点热疲劳寿命的影响研究
*
冉光龙,王波,黄伟,龚雨兵,潘开林
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0009
摘要
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(2081KB)(
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可视化
焊点的疲劳寿命成为衡量其长期可靠性的关键指标。金属间化合物(IMC)厚度对焊点的疲劳寿命有着显著影响。研究IMC厚度对热循环条件下混装焊点疲劳寿命的影响,结果表明,随着IMC厚度的增加,焊点的热疲劳寿命不断降低。此外,焊点中应力和应变的分布受IMC厚度的影响较小,但其数值随着IMC厚度的增加而增加。同时,塑性应变也随着IMC厚度的增加而增加。基于Coffin-Manson模型得到混装焊点的热疲劳寿命与IMC厚度之间存在着对数关系。
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2025年第25卷第1期 pp. 010203
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基于Chroma 3380P测试平台的高效FT测试方案
*
周中顺,夏蔡娟,李连碧,李飞飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0027
摘要
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可视化
针对高端自动测试成本过高与芯片设计公司日益增长的测试需求不匹配这一现状,拟采用Chroma 3380 P型测试机和长川C6100TS三温平移式分选机组合,开发一种新型的高性能自动化测试系统。通过分析芯片测试的各项要求,设计了一个综合性的测试方案。搭建了完善的测试平台,充分融合了Chroma 3380P测试平台的专业性能与长川C6100TS分选机的先进功能,同时通过外接高精度测试仪器,不仅实现了对芯片高效且精确的测试,还大大降低了测试成本,在ATE测试中具有通用性,为更多测试人员提供参考。
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2025年第25卷第2期 pp. 020207
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微纳铜材料的制备及其在封装互连中的应用
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彭琳峰,杨凯,余胜涛,刘涛,谢伟良,杨世洪,张昱,崔成强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0008
摘要
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半导体器件的快速发展对封装互连材料提出了更高的要求。微纳铜材料具有良好的导电、导热和机械性能。与常用的微纳银相比,微纳铜具有更强的抗电迁移能力和更低的成本,在封装互连领域被广泛应用。微纳铜材料的制备方法可分为化学法、物理法、生物法3类,其中化学液相还原法以低成本、高可控、工艺简单等优势占据重要地位。不同的封装互连工艺步骤需要不同形貌的微纳铜颗粒。微纳铜材料在封装互连中主要应用于芯片固晶、Cu-Cu键合、细节距互连等工艺,探讨了微纳铜材料在以上工艺中的应用,并对微纳铜材料在封装互连中的应用进行展望。
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2025年第25卷第1期 pp. 010202
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自动贴片工艺可靠性研究
钟贵朝,蒋苗苗,赵明,韩英,张坤,高胜寒
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0135
摘要
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可视化
微波电路中包含芯片等大量元器件,这些元器件绝大部分是通过自动贴片的方式实现装配的。针对自动贴片工艺中贴片压力对黏接可靠性的影响进行实验研究,分析了贴片压力对黏接元件四周的溢胶长度、元件底部导电胶的铺展效果及黏接强度的影响。结果表明,在实验参数范围内,贴片压力越大,黏接元件四周导电胶的溢胶长度越长,底部导电胶的铺展效果越好,黏接强度越大。在实际生产过程中,通过增大自动贴片工艺中的贴片压力,可以保证导电胶的黏接可靠性,从而提高电路整体性能。
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2024年第24卷第10期 pp. 100204
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PBGA焊点形态对疲劳寿命的影响
*
张威;刘坤鹏;张沄渲;于沐瀛;王尚;田艳红
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0095
摘要
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可视化
通过Surface Evolver软件预测了塑料球栅阵列(PBGA)焊点形态,将焊点形态结果导入Ansys软件中进行-55~125 ℃热循环仿真实验,通过Coffin-Masson模型预测焊点寿命。选取焊点钎料量、焊点高度、下焊盘直径作为影响焊点寿命的主要因素进行了3因素3水平正交实验,通过均值响应分析得到了影响凸点寿命的最敏感因素及最优形态尺寸组合。结果表明对焊点寿命影响最大的因素为下焊盘半径,其次是钎料量,最后是焊点高度,且上下等大的焊盘具有较好的可靠性。
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2024年第24卷第8期 pp. 080206
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基于HTCC的200 Gbit/s光调制器外壳的研制
胡进;颜汇锃;陈寰贝
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0090
摘要
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可视化
研制了一款基于高温共烧陶瓷(HTCC)工艺的光调制器外壳,通过高速端口实现信号的传输。端口的设计采用共面波导结构的水平传输和类同轴结构的垂直传输,并分析高速信号传输通道的等效电路和在频域上的仿真,实现端口的阻抗匹配,在保证信号完整性的前提下端口可以实现单通道28Gbit/s的高速信号传输。将相同条件下的差分过孔结构与类同轴结构在频域和时域下展开分析,验证了类同轴结构可以更有效地保证信号完整性。将探针测试与背靠背结构相结合的方式对样品进行测试,验证了高速端口可以在保证信号完整性的前提下实现单通道28Gbit/s的高速信号传输速率。将该结构应用在8通道的光调制器外壳上,可以支持200Gbit/s以上的高速信号传输。
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2023年第23卷第7期 pp. 070402
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高性能数据记录仪的设计与实现
蒋炯炜, 查婕, 雷志军
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0140
摘要
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可视化
弹载数据记录仪是对导弹飞行过程中重要动态参数和状态信息进行实时采集、保存的设备。数据记录仪回收后可将记录的数据传送给特定的上位机进行解析处理,设计人员根据分析结果对导弹飞行中的状态做出评估,进一步修改和完善其功能。随着科技水平的持续进步,对弹载设备的性能指标要求也越来越苛刻,处理速度快、结构体积小、存储容量大是弹载记录仪主要的提升方向。介绍了一种高性能弹载数据记录仪的硬件、软件和结构设计方案。记录仪的硬件设计包括电源板、控制板和通信板,采取模块化的设计方式,易于调试。记录仪的软件设计实现了数据采集、封装、存储和回读的功能,其中存储过程支持存满自动覆盖,无须人为擦除。记录仪的结构设计主要是针对电磁干扰等因素,在保证体积尽量小的前提下进行了特殊设计。另外还对上位机的设计和界面进行了简要介绍。
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2023年第23卷第10期 pp. 100501
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板上驱动封装LED的电源IC失效分析
*
梁为庆,梁胜华,邬晶,周升威,黄家辉,林凯旋,邱岳,潘海龙,方方
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0133
摘要
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可视化
通过基础电性测试确认了板上驱动(DOB)封装LED光源的失效现象,通过X射线无损探测内部的结构,得到了基本电路结构原理图。分别对LED光源电路上的各个分立部分做示波器测试,确认了失效部位为电源IC。通过物理开封并结合扫描电子显微镜(SEM)、聚焦离子束显微镜(FIB-SEM)和能谱仪(EDS)测试,分析出该LED光源亮度下降的根本原因是电源IC异常。而该电源IC失效的原因为Fe元素残留与污染引发蚀刻异常,含Fe元素异物镶嵌在芯片内部,导致芯片内部蚀刻线路异常,造成内部功能单元失效,最终使IC功能偏离设计,局部或全部失效。
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2023年第23卷第10期 pp. 100204
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基于新型部分积生成器和提前压缩器的乘法器设计
蔡永祺,李振涛,万江华
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0153
摘要
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可视化
为了提高乘法器性能,采用基4 Booth编码算法设计Booth编码器,使用华莱士树压缩结构设计16 bit有符号数乘法器;针对部分积生成的复杂过程提出一种新的部分积生成器,同时进行部分积的产生与选择,提高了部分积生成效率;针对压缩过程中的资源浪费,提出一种部分积提前压缩器,将某几位部分积在进入压缩树之前进行合并,减少了压缩单元的使用。基于28 nm工艺对乘法器进行逻辑综合,关键路径延时为0.77ns,总面积为937.3 μm
2
,功耗为935.71 μW,能够较好地提升乘法器的面积利用率和运算性能。
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2023年第23卷第11期 pp. 110304
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面向大功率器件散热的金刚石基板微流道仿真研究
*
孙浩洋, 姬峰, 张晓宇, 兰梦伟, 李鑫宇, 冯青华, 兰元飞, 王明伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0159
摘要
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可视化
GaN功率器件具有高频率、高功率以及高抗干扰能力等众多优势。GaN功率器件的小型化和高集成化趋势使得器件的散热问题日益凸显。具有高热导率的金刚石成为一种极具竞争力的散热材料,可满足高功率器件的散热需求。采用一种新型多层嵌入式微流道金刚石基板散热技术实现器件的快速散热,分析了散热微流道宽度、歧管微流道数量以及流体流速几个单一因素对器件散热性能的影响,并通过正交试验法探究了不同因素对器件散热性能的影响。结果表明,在99%的置信度下流体流速对散热性能的影响最为显著,散热微流道宽度的影响较为显著,歧管微流道数量的影响不显著。
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2024年第24卷第11期 pp. 110204
Select
高电压芯片级串联SiC MOSFET模块的封装设计
尚海,梁琳,刘彤
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0158
摘要
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可视化
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2023年第23卷第11期 pp. 110601
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铜线键合模式和塑封料对QFN封装可靠性的影响
王宝帅,高瑞婷,张铃,梁栋,欧阳毅
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0025
摘要
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可视化
键合工艺和塑封料对芯片封装可靠性至关重要。为了研究键合模式和塑封料对芯片封装可靠性的影响,以K&S公司的RAPID焊线机为键合工艺平台,以40 nm CMOS工艺的QFN封装芯片为研究对象,分别使用FSF键合模式和FSFF键合模式进行键合实验。使用不同塑封料塑封键合后样品,并对塑封后样品进行MSL3、TCT、UHAST、BHAST、HTOL、HTST等可靠性实验,利用SEM和EDS对键合后焊球形态和可靠性失效样品进行分析。结果表明,键合模式对BHAST可靠性影响较大,塑封料对BHAST可靠性影响较小,为实际生产中键合工艺的选择提供了理论基础和实践指导。
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2025年第25卷第2期 pp. 020204
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一种双向的微电流检测电路
张风体
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0157
摘要
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可视化
在纳米孔测序技术中,单个DNA分子被逐一驱动穿过纳米孔,并产生一个阻断电流,这个阻断电流被识别并转化为DNA序列,从而实现测序。由于阻断电流非常小,只有0~100 pA,因此需要一种高精度的微电流检测电路来识别它。为了解决这个问题,设计了一款具有双向、低噪声和小面积特性的电流检测电路,利用仿真工具对检测电路各部分进行噪声模拟和量化,降低了检测电路的噪声,提高了测序精度,同时优化检测电路的面积和功耗,提高了集成度和能效比。对比同类产品,该检测电路在精度、稳定性和通量等方面具有明显的优势。基于180 nm工艺平台,流片后的测试结果表明,该电流检测电路的检测范围为0~100 pA,精度小于3.2 pA,面积仅为80 μm
2
,功耗为1.5 μW,能够在两个方向上进行电流的检测。
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2023年第23卷第12期 pp. 120303
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在光电池封装中填充光学胶对输出电压的影响
李建华;闫军政;洪浩;郭建章
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0083
摘要
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可视化
半导体器件向着集成化、小型化、国产化的方向发展,设计难度越来越高。固体继电器中的隔离电路常需要使用光隔离电路,其中主要使用了既能起到隔离作用又能为输出的开关器件提供驱动电压的光电池器件。固体继电器要求光电池的输入电流尽可能小,传统光电池在较小输入电流下输出电压能力不足,输出电压一般不大于5V,造成其他开关器件不能正常工作。为了改善光电池器件输出电压的能力,重新优化结构设计,在光电池器件内部填充了光学胶,并经过反复设计使得光电池的输出电压超过了6 V,满足开关器件的使用要求。
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2023年第23卷第7期 pp. 070201
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基于压力辅助烧结方法改善LTCC基板翘曲的研究
杨兴宇,马其琪,张艳辉,贾少雄
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0042
摘要
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可视化
低温共烧陶瓷(LTCC)基板普遍存在翘曲问题。由于不同材料和结构的LTCC基板的翘曲存在差异性,基于基板材料和结构方面改善翘曲的办法存在一定的局限性。提出一种新型的压力辅助烧结方法,该方法通过将耐高温压片和LTCC基板相结合,能够有效改善基板翘曲,同时满足基板的可靠性要求。不同厚度的耐高温压片能够平衡基板翘曲和扭曲之间的关系,从而确保LTCC基板形态稳定。压力辅助烧结方法为改善LTCC基板翘曲提供了新的思路。
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2024年第24卷第4期 pp. 040205
Select
2.5D封装关键技术的研究进展
马千里, 马永辉, 钟诚, 李晓, 廉重, 刘志权
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0111
摘要
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可视化
随着摩尔定律指引下的晶体管微缩逼近物理极限,先进封装技术通过系统微型化与异构集成,成为突破芯片性能瓶颈的关键路径。作为先进封装的核心分支,2.5D封装通过硅/玻璃中介层实现高密度互连与多芯片异构集成,兼具高带宽、低延迟和小型化优势,广泛应用于人工智能、高性能计算及移动电子领域。系统阐述了2.5D封装的核心结构(如CoWoS、EMIB和I-Cube)及其技术特征,重点剖析了Chiplet模块化设计、硅通孔(TSV)工艺优化、微凸点可靠性提升、铜-铜直接键合界面工程以及再布线层多物理场协同设计等关键技术的最新进展。未来研究需聚焦低成本玻璃基板、原子层沉积技术抑制界面氧化以及多物理场协同设计等方面,以突破良率和散热瓶颈,推动2.5D封装在后摩尔时代高算力场景中的广泛应用。
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2025年第25卷第5期 pp. 050107
Select
基于微纳科研平台工艺验证的微米级标准CMOS关键工艺仿真
王峥杰;徐丽萍;凌天宇;瞿敏妮;权雪玲;乌李瑛;程秀兰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0087
摘要
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146
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可视化
基于微纳科研平台工艺验证的微米级CMOS标准工艺,采用TCAD仿真了场注入、沟道调节注入、衬底偏置电压以及接触金属类型对MOSFET器件性能的影响,进而对CMOS工艺中的器件关键工艺进行优化设计,为科研平台微纳工艺流片提供指导。仿真结果表明,N+场注入能量大于60 keV时对PMOS的阈值电压影响显著,P+场注入能量在30~50 keV时对NMOS阈值电压影响显著;PMOS沟道调节的剂量影响器件的电流开关比和亚阈值摆幅,其剂量不应超过2.1×10
12
cm
-2
;场注入剂量在10
13
cm
-2
时,硅局部氧化(LOCOS)隔离特性达到最优,此时LOCOS的击穿电压为32.5 V;当钛夹层的厚度为120 nm时,可将铝与衬底接触电阻的数量级从10
2
降低至10
1
。
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2023年第23卷第7期 pp. 070401
Select
高温服役电子元器件的焊接工艺研究
*
周阳磊,吕海强,何日吉,周舟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0078
摘要
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可视化
在航空航天、钢铁冶金及地质勘探等领域,部分设备需要在高温环境下使用,目前常见装联结构的可耐受温度一般低于200 ℃,甚至低于150 ℃,严重制约了相关高温服役设备的电子化进程。为了探索元器件高温焊接的可行性,对高温焊接工艺开展深入分析。研究结果表明,铅基高温焊料(SnAg2.5Pb96.5)的固液相线温度均高于250 ℃,SnAg2.5Pb96.5焊点的拉伸力平均值为139 N,剪切力平均值为237 N。与常用的无铅焊料(SAC305)相比,SnAg2.5Pb96.5的固液相线温度较高,但其焊点的拉伸力及剪切力均有所降低。相较于直接焊接工艺,采用预热焊接工艺得到的焊点润湿性好,陶瓷电容本体无裂纹,因此预热焊接工艺更适用于高温服役元器件。
参考文献
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2024年第24卷第7期 pp. 070205
Select
基于GaN FET的窄脉冲激光驱动设计及集成
胡涛,孟柘,李锋,蒋衍,胡志宏,刘汝卿,袁野,朱精果
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0055
摘要
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可视化
激光雷达的整机性能与激光脉冲的驱动性能密切相关,现有的窄脉冲激光驱动设计主要基于Si基器件,具有较高的集成度,但很难获得更高峰值的功率输出,不能很好地匹配脉宽进一步缩窄的要求。从驱动理论出发,建立驱动电路模型,对寄生电感、器件封装、驱动布局等影响激光窄脉宽的因素进行分析,通过裸芯片封装、环路布局优化以及多层叉指结构等的设计,匹配GaN FET优良的开关特性,实现了上升时间为2.01 ns、脉宽为4.05 ns、重复频率为500 kHz、峰值功率为55 W的窄脉冲激光输出,波形质量较好,封装集成度提升50%以上,可为下一代高精度、远距离、阵列集成激光雷达系统的开发奠定基础。
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2024年第24卷第5期 pp. 050402
Select
有限元仿真优化布局解决金金键合局域化问题
张丹青,韩易,商庆杰,宋洁晶,杨志
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0016
摘要
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145
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223
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可视化
晶圆金金键合技术在集成电路封装、微机电系统(MEMS)器件制造、CMOS图像传感器制作及LED制造等行业中被广泛应用。在MEMS环形器的制造过程中,由于金金键合的压力分布不均匀,导致其键合有效区域仅限于键合区域的边缘位置,即存在键合局域化问题,因此器件的整体可靠性较差。结合有限元力学仿真和金金键合实验,优化了键合点的分布,确保键合压力分布更加均匀。将有效键合面积从20%提升到77%,单颗芯片的平均剪切力从41.5 N增大到80.3 N,有效提升了MEMS环形器的可靠性。
参考文献
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2024年第24卷第4期 pp. 040202
Select
面向快速散热的HTCC基板微流道性能研究
*
孙浩洋,姬峰,冯青华,兰元飞,王建扬,王明伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0074
摘要
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144
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可视化
随着微波组件向着大功率、高密度集成方向的快速发展,组件中大功率芯片的散热问题已影响到组件的可靠性,解决大功率微波组件的散热问题需要采用高效的散热技术。作为新兴的快速散热技术之一,微流道具有低热阻、高效率以及可集成等众多优势。建立了基于大功率微波组件的微流道陶瓷基板有限元分析模型并对其进行热仿真,分析了不同微流道构型、占空比、扰流柱半径以及流速对组件散热的影响,并基于仿真结果制备了实物组件,实测温升下降60 ℃,实现了超大功率芯片的快速散热。
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2024年第24卷第7期 pp. 070203
Select
采用交叉耦合误差放大器的低压高增益LDO设计
*
张锦辉,朱春茂,张霖
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0007
摘要
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144
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90
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可视化
设计了一种低输入电压、高增益的LDO,其误差放大器采用交叉耦合结构来增大环路增益,并通过密勒电容和调零电阻的串联引入1个左半平面的零点,确保该电路的频率响应环路稳定性。采用0.35 μm标准CMOS工艺进行仿真,输入电压为1.5 V、负载最大电流为100 mA。仿真结果表明,构建的LDO可以将输出电压稳定在1.2 V,环路的低频增益在轻载的情况下高达122 dB,芯片面积为0.196 mm
2
,且相位裕度在重载情况下亦能做到大于58°,静态电流为21.2 μA。由于交叉耦合误差放大器的使用,电路的精度得到很大提高,负载调整率可以达到0.007%,所设计的LDO有较高的应用价值。
参考文献
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2025年第25卷第1期 pp. 010305
Select
一种高导热且绝缘的取向型碳纤维热界面材料
黄敏, 韩飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0054
摘要
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143
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2025年第25卷第1期 pp. 010601
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混合键合界面接触电阻及界面热阻研究进展
*
吴艺雄, 杜韵辉, 陶泽明, 钟毅, 于大全
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0069
摘要
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143
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可视化
随着半导体技术向更高集成度和性能要求方向发展,混合键合技术作为一种先进封装方法,在集成电路领域中展现出了巨大的应用潜力。综述了混合键合界面接触电阻和界面热阻的研究进展,探讨了混合键合在三维集成芯片中的应用,重点分析了其在降低电阻、优化热阻方面的技术突破。总结了影响界面电阻和热阻的关键因素,并评估了不同工艺对性能的影响。探讨了界面处理、表面粗糙度、清洗时间和退火工艺等因素对接触电阻的显著影响,分析了界面材料和多物理场耦合效应在优化热阻方面的重要作用。此外,细间距混合键合技术的进展推动了芯片封装密度的提升,但随着间距的缩小,界面应力和对准误差等问题仍需进一步解决。
参考文献
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2025年第25卷第5期 pp. 050101
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射频组件用键合金带的研究进展
*
谢勇,肖雨辰,唐会毅,王云春,侯兴哲,吴华,吴保安,谭生,孙玲
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0056
摘要
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143
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262
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可视化
射频组件的飞速发展促进了5G通信技术的推广应用。金带作为射频组件封装用关键键合材料,将板级系统集成于一个完整的组件电路系统,对组件尺寸和性能起着至关重要的作用。目前键合金带的研究与开发已经成为学术界和产业界的研究热点,对近年来射频组件用键合金带在工业应用中的研究进展进行论述和分析,归纳了微量元素对金带的强化机理和对键合性能的影响。重点介绍了键合金带与键合金丝的微波特性,在相同条件下,键合金带的信号传输能力优于金丝,尤其是在高频段(20 GHz以上)键合金带信号传输能力更加显著。对键合金带的制备工艺和工程应用中遇到的问题进行了梳理,总结了键合金带未来的发展趋势。
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2024年第24卷第5期 pp. 050201
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基于立体视觉的IGBT针高检测
田文超,田明方,庄章龙,赵静榕
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0136
摘要
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针对现有绝缘栅双极晶体管(IGBT)的pin针高度测量系统不能稳定、可靠地测量pin针高度的问题,设计了一套基于双线激光传感器的pin针高度测量系统。双线激光传感器采用上下错高的安装布局,分别采集IGBT针尖部分和底面部分的点云数据。同时,基于双线激光传感器采集的点云数据开发了一套测量pin针高度的测量程序。分别使用随机抽样一致性(RANSAC)算法处理基准面点集的离群点,使用多步去噪算法处理精确点集。实验结果表明,该系统的测量重复度小于0.04mm,且极差分布在(0.021 mm,0.039 mm)的概率超过99.7%,有着良好的稳定性和可靠性。
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2023年第23卷第10期 pp. 100206
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等占空比周期对版图形的研究
*
万鹏程,黄彦国,王永功,赵海红,张建巾,马依依
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0174
摘要
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当图形尺寸远大于衍射极限时,由电磁波的波粒二象性可认为电磁波是沿直线传播的。忽略衍射的效应,统计学要求多次测量以满足可靠度的要求。基于中心极限定理,满足概率要求,设计了梳状对版检查结构。通过试验得出,当齿数增大时,光刻机的成像亮度会增大,也有益于提高空间像的对比度。对比不同占空比周期梳状结构的光强分布,发现占空比为50%的对版图形有益于提高空间像的对比度,且实际光刻操作过程中,不会对掩模的对准操作产生影响,能够满足工艺要求。
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2023年第23卷第12期 pp. 120401
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一种X波段低相位噪声国产化频率源设计
王玲玲;蒋乐;方志明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0093
摘要
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介绍了一种工作在X波段的低相位噪声、100%国产化频率源的工程设计方法。该方法采用锁相环(PLL)+压控振荡器(VCO)经典电路产生频率信号。分析了PLL相位噪声理论模型,对比了同封装的国产PLL芯片和进口PLL芯片两种方案,并对实物进行了测试。试验结果表明,该频率源可稳定输出频率为8.8 GHz、功率约为-5 dBm
[史敏1]
?的微波信号。采用国产PLL芯片制作的频率源相位噪声优于采用进口PLL芯片制作的频率源1~2dB,可做到优于
[史敏2]
?-101 dBc/Hz@1 kHz,-110 dBc/Hz@100 kHz。
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2023年第23卷第7期 pp. 070303
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有效减小FOPLP中芯片偏移量的方法
刘吉康
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0170
摘要
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塑封制程中的芯片偏移量一直是板级扇出型封装(FOPLP)技术面临的巨大挑战。在介绍现有FOPLP技术工艺的基础上,通过分析塑封制程中产生芯片偏移量的原因,借鉴华天科技的嵌入式硅基扇出(eSiFO)封装技术,提出了3种能有效减小FOPLP中芯片偏移量的方法,即凹槽型塑封结构方法、贯穿型塑封结构方法和光阻围堰型封装结构方法。凹槽型和贯穿型塑封结构方法通过制备带凹槽或贯穿结构的板级塑封样品,将芯片粘贴在凹槽结构或贯穿结构内,再配合真空压膜工艺来达到减小FOPLP中芯片偏移量的目的。光阻围堰型封装结构方法利用光阻在承载板上形成光阻围堰结构,将芯片粘贴在光阻围堰结构内,以达到减小FOPLP中芯片偏移量的目的。
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2024年第24卷第12期 pp. 120202
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三维高速高频封装的信号完整性宽带建模设计方法
葛霈, 朱浩然, 鲁加国
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0066
摘要
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2025年第25卷第3期 pp. 030601
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接触式、双界面式智能卡机械强度测试失效及改善措施
吴彩峰;王修垒;仝飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0008
摘要
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机械强度是评价接触式、双界面式智能卡可靠性的重要指标。机械强度测试过程中产品失效情况时有发生。因此,对接触式、双界面式智能卡机械强度测试中出现的失效现象进行深入研究十分重要。从智能卡的结构与材料及制造全过程,即芯片制造、模块封装、智能卡组装3个生产环节着手,研究影响智能卡机械强度的因素。通过对裸芯片的物理特征、载带类型、裸芯片表面粗糙度、模块密封工艺及铣槽参数等进行分析与总结,提出改善智能卡机械强度的措施及优化方向。
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2024年第24卷第1期 pp. 010203
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金属盖板镀层形貌对平行缝焊器件抗盐雾性能的影响
马明阳,曹森,杨振涛,张世平,欧彪
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0044
摘要
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气密性封装是高可靠集成电路制造的关键技术。探讨了金属盖板表面镀层形貌对平行缝焊器件耐盐雾性能的影响。研究发现,平行缝焊后金属盖板表面出现的贯穿性裂纹是降低平行缝焊器件耐盐雾性能的关键因素。在相同封帽参数下,表面镀层为长条形晶胞的盖板封帽后出现多条贯穿性裂纹,无法通过24 h盐雾试验后气密性检测。而表面镀层为均匀大小的圆形晶胞的盖板具备更高的抗封帽裂纹能力,封帽后无贯穿性裂纹出现,且可通过48 h盐雾试验后气密性检测。
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2024年第24卷第4期 pp. 040206
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带玻璃绝缘子结构器件气密性与内部水汽含量超标分析
高立, 杨迪, 李旭
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0160
摘要
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可视化
具有空腔结构的器件通过密封试验(俗称检漏)以确定器件封装的气密性。但在实际生产中,即使是密封检测合格的器件在进行内部水汽含量试验时,仍有一定比例的器件被检测出内部存在密封试验的示踪物质。试验结果表明,高温烘烤可以提升检漏的检出率,验证了器件出现密封检测合格、水汽含量不合格的现象是由漏孔的暂时性堵塞造成的。对水汽含量不合格的样品进行染色渗透和剖面制备,发现了外部水汽侵入器件内部的通道,提出了玻璃绝缘子和引线之间没有形成气密过渡层是造成器件漏气的主要原因,为器件的工艺改进提供了方向。
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2024年第24卷第11期 pp. 110205
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基于田口法的高热可靠性DFN封装最优结构参数仿真研究
*
庞瑞阳,吴洁,王磊,邢卫兵,蔡志匡
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0171
摘要
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可视化
随着电子技术的不断发展,芯片越来越向系统级封装方向发展,封装行业迎来了新的挑战和机遇。封装能为芯片提供机械支撑、电气连接与散热,因此其可靠性研究备受关注。双平面无铅(DFN)封装是一种无引线的表面贴装封装技术,不合理的材料组合或结构设计会导致翘曲或应力集中现象,直接影响封装体的共面度及可靠性,引发芯片断裂、焊接分层等问题。针对典型DFN封装结构,采用有限元仿真分析方法,研究特定封装产品在回流焊后以及热循环载荷下关键部位的翘曲和应力。采用田口法对DFN封装设计参数进行评估与优化,获取最优结构参数组合,将其与实际产品仿真结果进行对比,验证了仿真模型的合理性,为高可靠性DFN封装的实际生产提供了理论指导。
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2024年第24卷第12期 pp. 120203
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烧结银阵列互连双面散热SiC半桥模块的散热和应力仿真
*
逄卓,赵海强,徐涛涛,张浩波,王美玉
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0042
摘要
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可视化
基于烧结银作为芯片互连层的双面散热SiC半桥模块,改变芯片顶面与基板的烧结银连接层形状为片状、圆柱阵列和长方体阵列,进行了散热和热应力仿真。仿真结果表明,得益于烧结银较高的热导率,改变烧结银层的形状对散热性能影响很小。相比于片状烧结银互连模块,采用圆柱阵列和长方体阵列烧结银互连的模块,其结温最大仅升高0.2 ℃和0.14 ℃。由于阵列模型中的烧结银互连层通过多个微小连接点有效分散和缓解了热应力,圆柱阵列和长方体阵列的烧结残余热应力和工作热应力都显著降低,圆柱阵列模型的烧结残余热应力和工作热应力降低了8.57%和3.16%,长方体阵列模型的烧结残余热应力和工作热应力降低了8.57%和37.71%,并且可通过缩小烧结银面积来降低成本,具有较高的科研和应用价值。
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2025年第25卷第3期 pp. 030103
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一种基于双极工艺的大电流高输出电阻恒流源
李政,周文质,包磊,陈旺云
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0155
摘要
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可视化
基于双极工艺,设计了一种同时具备大电流和高输出电阻特性的恒流源电路。该恒流源采用发射极输出的结构,使恒流源的输出电阻对输出电流不敏感,从而在大电流情况下保持较大的输出电阻。该结构适用于需要提供稳定大电流的集成电路,例如功率运算放大器的驱动级前级恒流源有源负载等。
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2023年第23卷第12期 pp. 120301
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基于信号完整性的万兆通信系统的优化设计
李宇飞, 马秀碧, 冉万宁
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0141
摘要
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可视化
随着信息技术的快速发展,万兆以太网在大数据网络传输中扮演着重要的角色,然而其超高的速度使其在设计改进时就必须考虑信号完整性问题。针对万兆以太网卡高速链路的改进设计问题,分析了改进前后高速串行链路的传输特点,并建立了该链路的仿真模型,通过实测眼图对仿真模型进行了验证。对于改进方案的仿真结果,从信号完整性方面进行了分析优化,并投板测试。测试结果表明,改进后万兆以太网卡信号质量与改进前相当,改进方案一次成功,网卡运行稳定,能为用户带来高效、便捷的使用体验。
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2023年第23卷第10期 pp. 100502
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适用于EEPROM的宽工作条件LDO设计
周旺,李一男,陈风凉,沈鑫,王留所
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0149
摘要
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可视化
设计了一种适用于EEPROM的LDO电路。该电路在电源电压为2.3~5.7 V、工作温度为-60~135℃时可获得稳定的1.8V输出电压,为EEPROM单元读取操作提供所需栅电压。采用国内0.18 μm商用工艺,版图尺寸为480 μm×100 μm。给出了Hspice仿真环境下的仿真结果。
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2023年第23卷第11期 pp. 110302
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超宽禁带半导体氧化镓器件热问题的解决策略
刘丁赫
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0151
摘要
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135
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2024年第24卷第11期 pp. 110601
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先进铜填充硅通孔制备技术研究进展
*
刘旭东, 撒子成, 李浩喆, 李嘉琦, 田艳红
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0075
摘要
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可视化
随着后摩尔时代的到来,硅通孔(TSV)技术通过填充铜作为垂直的导电通路实现了多层芯片之间的电气互连,提供了一种高性能、高可靠性的3D封装互连方案。综述了铜在TSV先进互连技术中的制备技术,总结并对比了溅射法、化学气相沉积、原子层沉积、化学镀、电接枝技术5种不同的铜种子层制备工艺的沉积机理、性能优劣和改进方案。介绍了硅通孔填充铜的3种不同方案,包括电镀、化学镀和导电浆料填充技术。强调了电镀工艺、电流、添加剂和退火工艺对硅通孔内电镀铜的影响,对应用于硅通孔的铜先进互连技术的未来发展方向提出了展望。
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2025年第25卷第5期 pp. 050103
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基于FPGA的基带信号发生器IP核设计与验证
闫华;何志豪
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0118
摘要
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可视化
雷达系统中信号收发模块需要内部产生基带信号,面对这一需求设计了一种基于直接数字频率合成(DDS)技术
,
且能自定义起始斜率和起始频率的基带信号发生器IP核。该IP核的输出频率可根据线性调频信号的特征进行设计,根据正弦信号的对称性,结合相位截断法和CORDIC算法设计了DDS模块的正余弦查找表,减少了资源的占用率,降低了功耗,提高了运算速度。仿真结果显示,设计的IP核可以正常输出不同频率的正余弦波形以及线性调频信号波形,并且能够实现自定义调整,具有较高的灵活性。相较于通过多个DDS叠加生成混频波形,该IP核占用资源更少,且具有实用价值。
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2024年第24卷第8期 pp. 080302
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深亚微米SOI工艺高压ESD器件防护设计
朱琪,黄登华,陈彦杰,刘芸含,常红
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0118
摘要
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132
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可视化
绝缘体上硅(SOI)工艺具有隔离面积小、隔离性能良好等特点,在功率半导体领域已被广泛采用。基于深亚微米SOI工艺技术节点和100 V以上高压器件的特性,高压静电放电(ESD)器件稳健性弱的问题已成为ESD防护设计的技术难点之一,高压ESD防护器件的选择和设计显得尤为重要。为了提升SOI工艺高压ESD器件的稳健性,结合静电放电时器件的特性和工作性能,对ESD防护器件进行了选择,设计了合适的器件尺寸,获得了良好的ESD能力。运用了该设计的一款驱动MOSFET的控制器电路,通过了4000 V人体模型(HBM)的ESD测试,该设计在SOI工艺高压ESD器件防护稳健性的问题上取得了良好的效果。
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2023年第23卷第9期 pp. 090401
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基于改进滑模观测器的永磁同步电机无传感器控制
*
许卫;贾洪平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0090
摘要
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可视化
针对永磁同步电机无传感器控制的传统滑模观测器(SMO)算法存在系统抖振以及转速位置误差较大的问题,提出了一种改进的SMO算法,引入估算反电动势反馈,利用饱和函数代替开关函数,用变趋近率替换固定滑模增益,根据Lyapunov方法验证了系统的可靠性,再通过锁相环(PLL)获得准确的转子位置和速度信息,最后通过Simulink搭建仿真模型并进行相关试验,仿真和试验结果表明,改进后算法的控制性能更加优越。
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2024年第24卷第8期 pp. 080502
Select
铝焊盘镀钯铜丝多焊球脱焊失效的电化学评价
徐艳博;王志杰;刘美;孙志美;牛继勇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2022.0093
摘要
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(1942KB)(
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可视化
研究铝焊盘的镀钯铜丝(PCC)焊点的多焊球脱焊(MLB)失效过程,对提高产品的可靠性至关重要。利用电化学方法测定了在不同氯离子浓度、pH值和铜暴露面积等条件下电极的腐蚀电流,以表征铝及其金属间化合物(IMC)的腐蚀速率。结果表明,氯离子可以改变阳极极化率,从而影响腐蚀电流;pH值的变化可以改变阴极极化率,从而影响腐蚀电流。钯作为铜丝的保护层,在镀层分布不均或参数选择不当的条件下,与暴露的铜表面形成腐蚀电偶,导致铝及其IMC成为牺牲阳极并被腐蚀。
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2024年第24卷第8期 pp. 080205
Select
基于ASM E2000外延炉温控系统的电压校准研究
徐卫东;任凯;何晶;肖健;冯萍
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0014
摘要
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129
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可视化
ASM E2000外延炉采用可控硅(SCR)来控制加热灯管的输入电压,采用热电偶(TC)监测并反馈温度的方式进行加热。该机型的加热系统中,各项电压的校准精度决定了系统控制的温度精度。研究的温控系统可分为TC电路板和SCR电路板,对于TC信号处理板的电压校准,其校准精度应在±0.01 V;对于SCR控制信号的电压校准,其校准精度应在±0.001 V;对于SCR输出的电压校准,应优先测量进电电压,根据负载和进电电压的具体情况做出调整,其校准精度应在±1 V。这样的校准方法可以有效、精准地控制生长温度,并使机台间的差异性达到最小,提升机台的标准化能力。
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2024年第24卷第1期 pp. 010406
Select
支持高速DMA传输技术的SSD控制器设计与实现
沈庆,杨楚玮,侯庆庆
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0161
摘要
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128
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可视化
在信息电子通信系统中,往往会有高带宽的数据传输及存储需求,尤其是嵌入式领域,其对数据存储的容量及传输速率要求越来越高。提出一种固态硬盘(SSD)控制器的设计方案,该方案采用多通道扩展方式来管理Flash阵列,具有一定的升级性和扩展性。同时根据SSD数据传输特性,实现了一种高速直接存储器访问(DMA)传输技术,有效提高了SSD数据传输过程中DMA的工作效率和CPU的资源利用率,使该SSD控制器能在-55~125 ℃的工业化环境中正常工作。
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2023年第23卷第12期 pp. 120304
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BCD工艺中大电流下纵向双极晶体管的电流集边效应研究
彭洪,王蕾,谢儒彬,顾祥,李燕妃,洪根深
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0035
摘要
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可视化
在大电流条件下,随着电流密度的增加,发射区结电流集边效应、基区电导调制效应、基区展宽效应会随之出现。基于研究单位的BCD工艺,在集成CMOS和DMOS的基础上集成功率纵向NPN双极晶体管用于输出。设计了75 μm×4 μm、50 μm×6 μm、30 μm×10 μm三种不同尺寸的发射极并进行TCAD仿真研究。在发射极面积相同的情况下,发射极长宽比越小,TCAD可观察到的电流集边效应越严重,最终流片并进行测试验证,得出75 μm×4 μm的细长结构尺寸能够提升晶体管在大电流下的放大能力,较30 μm×10 μm的结构提升约11.4%。
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2024年第24卷第3期 pp. 030402
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国产电容器的质量评价方法
张永华,曲芳,何浒澄
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0019
摘要
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可视化
电容器作为电路系统中广泛使用的基本元件,其质量直接影响到电路性能的发挥。面向信息领域国产化替代需求,系统研究和探讨了开展国产电容器(器件级)验证评价时,可选择的质量检测和可靠性评价方法,以及可参考的通用评价准则。同时,结合实践案例,重点阐述了国产电容器在实施验证过程中和实际使用中的注意事项,为相关领域工程师开展国产电容器的可用性和可靠性评价工作提供了参考范例。
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2024年第24卷第3期 pp. 030202
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TO型器件内部水汽含量一致性控制
颜添,姚建军,郝勇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0142
摘要
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可视化
采用铅锡银焊料烧结的TO型器件在相同平行缝焊工艺下的内部水汽含量一致性出现了差异,部分器件的水汽含量甚至超标。筛选后的器件腔体内存在氢气和氧气,气体在反偏或老炼等高温条件下发生了化学反应,生成了水汽,从而导致水汽含量超标。通过对外壳和盖板进行脱氢处理,可以大幅度降低密封后腔体内氢气释放量,减少水汽的生成,达到提高TO型器件内部水汽含量一致性的目的。该方法可以为采用铅锡银等焊料烧结的TO型器件内部水汽含量控制提供一种技术途径。
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2024年第24卷第10期 pp. 100206
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基于ATE的可编程SiP器件测试
李鹏,白艳放,郑松海,赵娜,刘颖
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0146
摘要
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分析了SiP器件内部数字芯片FPGA和模拟芯片ADC/DAC的主要电气参数及性能参数,明确了SiP器件的测试内容和方法。使用Altium Designer软件设计SiP6117M信号处理器专用测试板,结合测试需求、测试流程以及芯片具体参数提出设计目标,完成原理图设计、PCB设计、制板和调试工作。基于UltraFlex测试机台和设计完成的测试板搭建SiP6117M模块的测试平台,运用Verilog语言编写FPGA配置程序及测试程序,并通过JTAG接口对FPGA进行配置。开发UltraFlex测试程序对测试过程进行控制,实现了对SiP器件主要功能和性能参数的测试。
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2024年第24卷第10期 pp. 100207
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一种应用于DDR的低抖动锁相环设计
华佳强,李野
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0065
摘要
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针对双倍速率同步动态随机存储器中锁相环抖动性能较差的问题,基于55 nm CMOS工艺设计了一种低抖动锁相环。采用负反馈型比例-积分结构控制的电荷泵来获得良好的抖动性能并实现快速锁定,环型振荡器采用伪差分结构的预充电方式来提升时钟翻转速度。后仿真结果显示,在2.5 V电源供电条件下,锁相环能够在2 μs内锁定在3.2 GHz频率处,其相位噪声约为-96.2 dBc/Hz@1 MHz。芯片测试结果显示,输出时钟周期抖动为-27.7~23.2 ps。
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2024年第24卷第5期 pp. 050305
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红外发光二极管对固体继电器漏电流的影响
李建华;闫军政;宋伟;洪浩
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0013
摘要
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固体继电器在军工和民用市场被使用得越来越广泛,大量替换了传统的电磁继电器,并且固体继电器的隔离方式也从变压器隔离向着光隔离转变,光隔离固体继电器已经成为很多厂家的设计主流。光隔离固体继电器被大量使用,但是在使用红外发光二极管等发光器件时,如果选择的红外发光二极管的波长和输出场效应管的禁带宽度不匹配,处理不当时会造成固体继电器的输出漏电流超标。通过光电效应分析了红外发光二极管对固体继电器输出漏电流的影响,通过试验测试验证了这种影响机理,并提出了改进方法。
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2024年第24卷第1期 pp. 010405
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反熔丝FPGA可配置I/O端口可测性设计研究
曹振吉, 曹杨, 隽扬, 曹靓, 马金龙
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0112
摘要
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反熔丝FPGA在生产阶段不能通过编程后测试对电路进行筛选,必须通过编程前测试来解决生产测试问题。在研究反熔丝型FPGA多标准可配置I/O端口电路结构的基础上,提出一种用于可配置I/O端口的可测性设计(DFT)方案,在可配置I/O端口中插入软配置电路和边界扫描链,实现对可配置端口的临时配置和扫描测试,覆盖所有支持的电平标准及各种可配置I/O功能。仿真及测试结果表明,该DFT能够满足反熔丝型FPGA多标准、可配置I/O端口的测试需求,能够解决可配置I/O在生产中的测试问题。
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2023年第23卷第8期 pp. 080304
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基于FPGA与AD/DA的JESD204B协议通信与控制模块设计
叶胜衣,宋刚杰,张诚
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0038
摘要
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为了完成高速射频信号的采集与发射,设计了基于FPGA、模数转换器AD9680与数模转换器AD9144电路的通信与控制模块。硬件设计主要包含前端设计、时钟设计、控制部分设计。软件部分则详细阐述了程序结构、模块设计以及程序执行流程。为兼容各种不同的AD/DA芯片且便于移植复用,所有数据处理以及寄存器配置都在FPGA的处理系统(PS)部分完成,在可编程逻辑(PL)部分完成与PS以及外设的数据交互与存储。该软件整体可视作一个软件封装IP。使用FPGA为主控芯片与AD/DA完成10 Gbit/s的线速率JESD204B链路通信,并以2 GSa/s的转换速率进行数据采集与发射,验证了设计的正确性。
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2024年第24卷第4期 pp. 040301
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基于SECS/GEM协议的芯片烘箱设备智能故障诊断算法设计
*
梁达平,赵玉祥,张进兵
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0071
摘要
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(1102KB)(
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针对芯片烘箱设备故障排查困难,提出了一种改进型贝叶斯网络故障诊断算法。利用SECS/GEM通信协议从设备端获取故障报警数据,建立芯片烘箱设备故障树。将故障树映射转换为贝叶斯网络,通过对贝叶斯网络反向推理计算得到可用于指导维修工作的诊断决策树。将历史故障样本数据代入算法模型中进行验证分析,验证结果表明,按照诊断决策树进行故障诊断能够将诊断误差率控制在5%左右,满足企业用户要求,具有较高的应用价值。
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2024年第24卷第7期 pp. 070501
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一种倒装芯片二维封装过程焊点缺陷原位监测方法
周彬,乔健鑫,苏允康,黄文涛,李隆球
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0150
摘要
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2024年第24卷第10期 pp. 100601
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基于低温铜烧结技术的大功率碳化硅模块电热性能表征
*
闫海东,蒙业惠,刘昀粲,刘朝辉
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0063
摘要
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SiC器件的比导通电阻仅有Si基器件的1/5,在高频、高温、高功率密度的车规级封装领域展现出更大优势,但SiC器件的高通流密度对其散热设计提出了更高要求。虽然高导热率、低工艺温度、高服役温度的银烧结有助于优化功率模块的热管理,但存在烧结银成本过高与电迁移问题。针对上述问题提出了一种针对SiC器件的全铜烧结互连方法,高质量铜互连层的剪切强度超过130 MPa。与传统功率模块相比,全铜烧结功率模块的结-壳热阻降低了6.12 K/kW(12.47%),动、静态测试结果表明,模块具有良好的电学性能。
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2025年第25卷第3期 pp. 030107
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磁场定向排列氮化硼纳米倒钩实现电子封装高效热管理
王健,杨家跃
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0054
摘要
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2024年第24卷第2期 pp. 020601
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激光烧结纳米铜膏成型线路的清洗工艺研究
*
张坤,徐广东,李权震,杨冠南,张昱,崔成强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0154
摘要
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提出一种基于紫外纳秒脉冲激光的纳米铜膏(铜的质量分数为85%)选择性烧结成型线路技术。采用乙醇超声清洗技术对成型线路进行清洗,剥离未烧结区的纳米铜膏。采用质量分数为30%的双氧水和质量分数为5%的硫酸,通过氧化酸洗技术去除热烧结区的纳米铜膏,从而获得纳米铜中心烧结区的成型线路。通过场发射扫描电子显微镜(SEM)和能谱色散型光谱仪(EDS)进行表征,证明清洗后的
成型
线路表面主要为金属铜,表层的纳米铜颗粒之间完全相融连接。该方法为激光烧结成型线路的清洗提供了参考。
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2023年第23卷第9期 pp. 090206
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基于基板塑封工艺的小型化宽带电调衰减器
贾玉伟,唐中强,蔡道民,薛梅,李展
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0125
摘要
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可视化
为满足自动增益控制(AGC)电路中对电调衰减器小型化的需求,采用4个P型-本征-N型(PIN)二极管构成的对称式Π型衰减网络,通过电路设计和基板塑封工艺,实现了一种小型化宽带电调衰减器。电调衰减器采用2.7V电源供电,采用1.0~5.0 V控制电压。测试结果表明,在工作频带为30~1000 MHz时,电调衰减器的最小插入损耗的绝对值小于2.9dB,其最大衰减量的绝对值大于35.0 dB,其回波损耗小于-10 dB。器件封装尺寸为3.8 mm×3.8 mm×1.0 mm,单只器件质量为38 mg。该电调衰减器满足宽频带、低插损的要求,具有小型化、高集成、轻量化的特点。
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2023年第23卷第10期 pp. 100401
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一种蝶形封装多路光收发模块可靠性评价与应用研究
王亚男;张洪伟;王文炎;常明超
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0092
摘要
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124
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121
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可视化
介绍了1种蝶形气密封装4路并行光收发一体模块的工作原理,针对高可靠应用开展了可靠性评价方法研究。通过评价光模块的平均发射光功率、消光比、接收灵敏度的温度特性,以及接收灵敏度与传输速率的关系等特性,结合寿命考核及应用适应性评价得出了该模块应用的边界条件,并研究了满足高可靠应用的高速数据传输的典型应用方法,提供了典型的应用电路设计、控制程序设计以及模块装联方式,为高可靠应用系统的大容量高速数据传输提供了1种新的方法。
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2024年第24卷第8期 pp. 080204
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基于FPGA的高精度时间数字转换器设计与实现
*
项圣文,包朝伟,蒋伟,唐万韬
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0004
摘要
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可视化
高精度时间间隔测量是激光测距、雷达、示波器等多种科学和工程领域中的关键技术。为了提高测量的精确度,使用FPGA器件抽头延迟链实现高精度时间数字转换器(TDC),通过脉冲计数法和抽头延迟线法实现完整时钟周期和非完整时钟周期的测量,并提出一种使用锁相环(PLL)动态调相功能测量延迟链精度的方法,PLL调相精度为15.625 ps,通过多级延迟链级联取平均值的方式减小PLL调相精度引入的测量误差,最小测量误差为0.312 5 ps。以紫光同创Logos2系列FPGA芯片实现TDC的设计,仿真验证和板级测试结果证明,使用50级延迟链能实现非完整时钟周期的测量,测量精度为71 ps,TDC时间间隔测量范围小于4.295 0 ms。
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2025年第25卷第1期 pp. 010302
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GaN HEMT热特性的反射热成像研究
*
刘智珂,曹炳阳
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0174
摘要
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可视化
GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)已在电力电子的诸多领域得到广泛应用,但需要解决高功率密度带来的热瓶颈问题。反射热成像是一种具有高空间分辨率的全场温度成像技术,适用于捕捉HEMT的运行温度,从而制定合适的热管理策略。利用反射热成像系统对6种GaN HEMT的场板和漏极温度分布进行了测试,实验与仿真结果偏差在6%以内。通过热阻分析比较了不同衬底厚度和外延设计对器件热特性的影响,衬底热阻占总热阻的比例超过40%,将衬底厚度从100 μm减薄至60 μm,热阻降低8.1%,衬底减薄对于热阻的降低影响显著程度高于外延设计变更。上述结果凸显了反射热成像方法用于指导器件热优化的重要性。
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2024年第24卷第11期 pp. 110102
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LTCC基板微通道进出口布局结构散热性能仿真分析
*
廖志平,罗冬华
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0048
摘要
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(1606KB)(
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可视化
微通道作为微集成系统的主流散热渠道,与其结构相关的多种因素会影响系统的散热性能,进而影响整个系统的正常工作。为研究微通道流体进出口布局结构对微系统散热性能的影响,采用ANSYS有限元数值仿真软件建立了一种采用LTCC基板的微波TR组件三维有限元模型,通过仿真分析研究了该组件微通道流体4种进出口布局结构的散热性能。研究结果表明,4种微通道流体进出口布局结构中通道内流体在进水口处的压强最大,在出水口处的压强最小;对角方式进出口布局结构中流体压强损失最大,流速、压强分布均匀性相对较差,中间方式进出口布局结构中微通道内流体的流速、压强分布相对其他3种较均匀,整体的压强损失最小。在边界条件一致、组件芯片功率相同的情况下,4种流体进出口布局结构仿真结果表明中间方式的微通道进出口布局结构整体热量分布较均匀,没有出现明显的热量集中现象,综合散热性能较好。
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2024年第24卷第3期 pp. 030208
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玻璃基灌封材料助力SiC功率器件在300 ℃长期运行
陈俊伟, 曾惠丹
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0132
摘要
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2025年第25卷第4期 pp. 040601
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功率器件银电化学迁移分析与改善
邱志述,胡敏
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0034
摘要
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可视化
银作为可焊接金属,与铅、锡等形成低温合金可显著提升工艺适应性,广泛应用于半导体功率器件领域。芯片金属与封装互连中银电化学迁移常导致器件短路,以致失效。为了减少这类失效,对银电化学迁移机理进行研究,并从芯片、封装方面给出改善措施。增加芯片保护层、减少封装环氧树脂和芯片的分层可以减少潮气对芯片表面的侵蚀,是改善银电化学迁移的关键。
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2025年第25卷第4期 pp. 040201
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一种低填充-高热导/屏蔽效能石墨烯泡沫封装材料
童国秀,范宝新,邢露,杨凯霞,杨怡均,周凡洁
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0150
摘要
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2023年第23卷第9期 pp. 090601
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In掺杂Sn-1Ag-0.7Cu-3Bi-1.5Sb-
x
In/Cu互连结构在热载荷下的损伤
李泉震,王小京
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0178
摘要
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120
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可视化
为了应对消费电子端苛刻的热可靠性需求,研究探讨了在170 ℃等温时效条件下,不同热时效时间(0 h、1 000 h、2 000 h)Sn-3.0Ag-0.5Cu、Sn-1Ag-0.7Cu-3Bi-1.5Sb-12In、Sn-1Ag-0.7Cu-3Bi-1.5Sb-17In以及Sn-20In-2.8Ag焊点的熔融特性、微观结构、力学性能。研究发现,掺杂In会降低固相、液相和峰值温度,同时增加熔化范围。当In的质量分数超过12%时,基体中出现γ-InSn
4
相,焊点合金出现双相基体。In的加入使焊料/铜界面IMC从Cu
6
Sn
5
转变为Cu
6
(Sn, In)
5
。在等温老化过程中,In的加入会促进Cu
6
(Sn, In)
5
的生长,但能抑制Cu
3
(In, Sn)的生长。在时效过程中,12In/Cu焊点的综合剪切性能最佳,具有较高的剪切力和较为优异的剪切强度。该实验对于控制界面化合物的生长、探索掺杂高In对焊点性能的影响以及稳定焊点结构都具有实际意义。
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2024年第24卷第12期 pp. 120101
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一种抗辐射Trench型N 30 V MOSFET器件设计
廖远宝,谢雅晴
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0051
摘要
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120
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可视化
由于Trench结构在降低元胞单元尺寸、提升沟道密度和消除JFET区电阻等方面的优势,Trench型MOSFET已广泛应用于低压产品领域。在研究抗辐射机理和抗辐射加固技术的基础上,设计了一款新型抗辐射Trench型N 30 V MOSFET器件。实验结果显示,产品击穿电压典型值达42 V,特征导通电阻为51 mΩ·mm
2
。在
60
Co γ射线100 krad(Si)条件下,器件阈值电压漂移仅为-0.3 V,漏源漏电流从34 nA仅上升到60 nA。采用能量为2006 MeV、硅中射程为116 μm、线性能量传输(LET)值为75.4 MeV·cm
2
/mg的
118
Ta离子垂直入射该器件,未发生单粒子事件。
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2024年第24卷第5期 pp. 050401
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一种隔离型母线电压和电流采集电路的设计
冯旭彪, 杨茜
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0169
摘要
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118
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针对供配电测试设备对开关电源母线电压、电流的隔离采样,提出了一种隔离型母线电压和电流采集电路的设计方案。基于硬件电路,分析了隔离式放大器NSI1311-Q1的工作原理,通过增加差分运放电路实现了数据的放大及单端模拟输出,继而设计了合理的隔离型采集电路并进行了相关公式推导。实验结果表明,该隔离采集电路的采样精度满足供配电测试设备对隔离数据的采集需求,且抗干扰性强,具有较强的工程实用价值。
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2024年第24卷第12期 pp. 120305
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兼容TTL电平的高速CMOS端口电路设计
邱旻韡, 黄登华, 屈柯柯
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0108
摘要
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118
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基于0.8μm CMOS工艺设计了全新的兼容晶体管-晶体管逻辑(TTL)电平的高速CMOS端口电路,该端口电路不仅可以实现与TTL兼容的输入电平,还具有传输延迟时间短的优点。电路工作温度为-55~125℃。电路在工作电压为5V时,输入翻转电平为1.3V,传输上升延迟时间小于1ns,下降延迟时间小于1ns。
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2023年第23卷第8期 pp. 080302
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基于数据驱动的纳米烧结银内聚力模型参数反演与预测
代岩伟, 隗嘉慧, 秦飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0047
摘要
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2024年第24卷第1期 pp. 010601
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数字隔离器的失效分析及解决对策
傅铮翔,李飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0117
摘要
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117
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可视化
某航天电子系统采用的某型号隔离器电路上电时信号传输异常。针对异常点建立故障分析树,对失效电路中的编码芯片、变压器芯片、低压差线性稳压器(LDO)及解码芯片进行失效点定位。通过内部电路的带隙基准(BGR)、误差放大器输出关键节点扎针测试、ATE上电斜率测试、供电电源上电仿真等手段分析出故障电路因存在制造工艺偏差,BGR在低上电斜率时不能正确建立,进而导致LDO输出异常,该类失效可通过加
严
ATE测试程序进行有效剔除。针对该问题进行了板级测试验证,为电路改版及同类电路设计提供了依据。
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2023年第23卷第9期 pp. 090204
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混合集成电路的自动上芯吸嘴开发
梁笑笑,吴海峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0052
摘要
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芯片贴装是微电子元器件封装工艺流程中的关键环节,贴装后芯片的可靠性对电路整体性能及质量具有重要影响。介绍了1种适用于厚膜混合集成电路的自动上芯吸嘴,该吸嘴基于IP-500型自动上芯机,针对厚膜混合集成电路和国产裸芯片的特点进行研发。从自动上芯吸嘴的结构和材料入手,利用有限元仿真软件计算压力并对吸嘴和芯片的应力分布情况进行重点分析。结果表明,优化后的橡胶吸嘴能有效解决国产裸芯片在自动上芯过程中发生损伤的问题。
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2024年第24卷第5期 pp. 050202
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电编程熔丝的冗余备份及修正设计策略
胡晓明,晏颖
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0132
摘要
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由于工艺、制造和环境等原因,电编程熔丝(eFUSE)存储的数据信息可能发生意外改变,需要通过专门设计对数据进行冗余备份或对失效数据位进行修正,前者是对2个互为冗余的数据位进行相同编程操作,多用于eFUSE的现场编程;后者对失效数据位的修正大多采用的是串行冗余修正模式,但由于其存在延时随失效位数目增加的问题,一种以同步方式修正失效数据位的并行解决策略被提出并实现验证。
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2024年第24卷第10期 pp. 100303
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带窗口比较器的高速RS-485接收器
贺凌炜;蒋志林
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0129
摘要
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将窗口比较器和高速比较器相结合,在实现RS-485接收器开路、短路和端接失效保护功能的前提下,解决了阈值偏斜方法造成的工作速率低的问题。采用5 V工艺,在稍增接收器静态功耗(5%)和版图面积(10%)后,将工作速率提高到了50 Mbit/s。
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2024年第24卷第9期 pp. 090304
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多场耦合下RF组件的焊点信号完整性
田文超,孔凯正,周理明,肖宝童
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0024
摘要
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随着集成电路和5G技术的迅猛发展,射频(RF)组件作为关键设备被广泛使用。RF组件需要在复杂多变的工作环境下服役,而焊点作为RF组件封装中相对脆弱的部分,其稳定性和可靠性尤为重要。介绍了焊点在多场耦合下的性能表现。RF组件焊点需要有效传输高频信号,从电气性能和信号完整性两方面对其进行概述,对多场耦合下的焊点信号完整性进行了总结,探讨了在高频条件下对焊点的机械性能和信号完整性进行综合研究和优化的必要性。
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2024年第24卷第3期 pp. 030206
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基于SiP的半导体激光器恒温控制及驱动系统设计
蔡洪渊,康伟,齐轶楠,邵海洲,俞民良
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0011
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恒定的温度环境及稳定的电流注入是半导体激光器稳定工作的重要条件。传统恒温控制系统和光源电流驱动系统采用电压基准源、运放、功率三极管、MOSFET等分立器件实现,大量分立器件导致了系统电路复杂、可靠性低等问题。利用系统级封装(SiP)技术,将恒温控制系统与光源电流驱动系统进行高密度集成,实现了小型化、集成化、低成本的设计。通过系统级电路和热仿真分析,确保器件设计的可靠性。测试结果表明,该器件的参数满足要求。
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2025年第25卷第1期 pp. 010306
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电压稳定剂接枝提升复合灌封材料的导热绝缘性能
张鹏浩,余亮,何映江,姚陈果
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0166
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一种模拟边界扫描的FPGA高可靠自更新方法
李晓林,贾祖琛,田卫,武媛媛
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0147
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针对FPGA+PROM设计架构中不支持动态重构功能的型号产品,在不增加额外器件的前提下,提出了基于边界扫描模拟技术的FPGA自更新方法,同时研究了升级过程中的可靠性保障措施,做到高可靠、无感化更新。这种设计方式可在型号产品不开盖、不使用USB-JTAG的情况下完成PROM的在线升级,为军用嵌入式计算机提供了一种PROM在线升级的能力,在武器产品的可维修性、保障性等方面具有重要的意义。
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2024年第24卷第10期 pp. 100306
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基于能量最小化的CCGA焊点形态仿真研究
*
张威;刘坤鹏;王宏;杭春进;王尚;田艳红
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0103
摘要
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为了确定某陶瓷柱栅阵列(CCGA)器件实现高焊接可靠性时的工艺参数组合范围,并研究焊点形态随不同参数变化的规律,以钎料润湿角、钎料体积以及焊柱偏移量作为关键变量因素,利用基于能量最小化原理的Surface Evolver软件,计算了不同因素水平组合下的实际焊点形态,并对参数化建模过程进行了详细介绍。通过对比形态结果与焊点可接收标准,寻找能够产生合格焊点的参量范围,为实际焊点微连接生产工艺提供合理的工艺指导。
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多维度评价
2024年第24卷第8期 pp. 080208
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集成歧管微流道的近结点冷却技术强化芯片热管理
李佳琦, 何伟, 李强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0068
摘要
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2025年第25卷第2期 pp. 020601
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基于0.15 μm GaAs工艺的高阻带抑制低通滤波器设计
*
姜严,吴啸鸣,闫慧君,王文斌,嵇华龙,施永荣
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0127
摘要
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可视化
射频低通滤波器是射频电路的重要组件之一,它基于电感和电容的特性,具有阻止高频信号而通过低频信号的作用。基于GaAs集成无源器件技术,使用ADS仿真软件,在滤波器设计中的特定位置使用不同品质因数(
Q
值)的电感,最终设计实现了一款性能优良的高阻带抑制低通滤波器。测试结果表明,在通带DC~17 GHz内,滤波器插入损耗≤2.28 dB,回波损耗≥14.5 dB,其带外抑制在22 GHz处达到23 dB,在26~50 GHz处≥43 dB,芯片尺寸为1.4 mm×0.55 mm×0.1 mm,该滤波器性能优异。
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2024年第24卷第10期 pp. 100302
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基于CKS32F103微处理器的无线设备软件升级方法
*
赵志浩,沈伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0036
摘要
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可视化
物联网无线设备软件的批量升级存在速度慢、一次性升级成功率低的问题。每个无线设备对广播数据做分析处理,生成数据链表,根据数据链表对升级数据做出带有指向性信息的应答,升级数据的广播可以做到定向覆盖。试验结果表明,与传统点对点的方式相比,点对点与广播式相结合的软件升级方法的升级速度提升约60倍,一次性升级成功率达到100%。该方法为物联网设备批量升级软件程序提供了一种快速、可靠的升级方法。
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2024年第24卷第4期 pp. 040501
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基于ENEPIG镀层的无压纳米银膏烧结失效分析
徐达,戎子龙,杨彦锋,魏少伟,马紫成
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0025
摘要
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总结了在化学镍钯浸金(ENEPIG)镀层上采用纳米银膏进行无压烧结时出现的失效模式。通过分析烧结镀层的微观形貌及力学性能,确认界面污染、烧结不充分及镀层缺陷是导致烧结失效的主要原因。应特别关注镍原子向镀层表面扩散导致的烧结失效风险。为保证烧结质量的稳定性和可靠性,需要充分重视界面的洁净度,对芯片、基板的存储条件和存储寿命实施严格管控,还需要优化烧结曲线,充分考虑溶剂释出所需时间、烧结峰值温度及其停留时间、降温速率等因素。研究结果为纳米银膏的无压烧结研究提供了新的理论参考。
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2024年第24卷第4期 pp. 040204
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基于GaAs工艺的超宽带低插入损耗高通滤波器
*
王文斌,闫慧君,姜严,吴啸鸣,张圣康,施永荣
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0128
摘要
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可视化
基于GaAs工艺设计了一款超宽带低插入损耗高通滤波器,在传统的高通滤波器中加入LC并联谐振电路,构建了一种新颖的拓扑结构,形成了高电阻、低电流的电路条件,同时促进了滤波器单元间的内部耦合,提升了带外抑制能力,改善了电路的陡降性。利用ADS仿真软件进行仿真设计,并对芯片进行了流片验证。该款高通滤波器的截止频率为28 GHz,带内插入损耗小于1.8 dB,芯片尺寸为1.65 mm×0.635 mm×0.1 mm,在DC~2 GHz的带外抑制大于等于77 dB,在DC~4 GHz时陡降为135 dB。
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2024年第24卷第10期 pp. 100301
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混合集成电路元器件的黏接渗胶问题研究
韩文静;冯春苗;刘发;袁海
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0100
摘要
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108
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混合集成电路通过黏接剂实现元器件与基板的连接。但该过程中存在渗胶问题,即黏接剂中的相关组分溢流至引线框架的键合区,导致键合丝的键合强度下降或无法键合,从而引起电路连接问题。研究厚膜多层基板和白陶瓷基板在黏接工艺中的渗胶问题,揭示了渗胶现象与残留在气相清洗液中的助焊剂之间的关联规律,并提出了1种能够有效改善黏接剂渗胶程度的工艺措施,进而解决混合集成电路黏接工艺的渗胶问题。
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2024年第24卷第8期 pp. 080207
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基于MST-GAN的多尺度IC金属封装表面缺陷检测
蔡念, 陈凯琼, 黄林昕, 夏皓, 周帅
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0131
摘要
(
108
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2023年第23卷第7期 pp. 070601
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基于目标检测的陶封芯片焊缝缺陷X射线检测方法
顾杰斐
摘要
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107
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2024年第24卷第9期 pp. 090601
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金刚石离子注入射程及损伤的模拟研究
袁野, 赵瓛, 姬常晓, 黄华山, 倪安民, 杨金石
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0153
摘要
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可视化
摘 ?要:离子注入法作为改善半导体材料表层电学性能的有效方法,被应用于金刚石基半导体器件的制造过程中。使用SRIM软件模拟并研究了Ar
+
、N
+
、B
+
、P
+
、As
+
等离子在不同能量(20 ~300 keV)和不同入射角度(0°~40°)下注入金刚石时的射程,及其对金刚石造成的损伤,结果表明,离子的种类、能量和注入角度均是影响离子射程和造成靶材损伤的重要因素,且各有其影响规律。通过改变这些参数,能够精准控制注入离子在金刚石中的射程和靶材损伤程度,为相关科研生产工作提供指导。
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2024年第24卷第11期 pp. 110402
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首次选用的典型裸芯片应用可靠性评价方法
武荣荣,梅亮,任翔,曹阳,庞明奇,刘净月
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0062
摘要
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可视化
受装备尺寸及重量的限制,在设备多功能、高精度、高可靠性的需求下,装备开始采用裸芯片代替封装后的器件。直接应用生产好未经过封装的芯片,在一定程度上降低了成本,但没有封装保护的裸芯片对质量与可靠性提出了更高的要求。首次选用时,基于对裸芯片应用可靠性的风险分析,设计了可靠性评价项目,完成了评价方案的制定,对裸芯片功能/性能、可靠性及适应性等方面进行评估摸底。实践结果证明,基于风险分析的应用可靠性评价方法能有效避免有质量风险或可靠性不满足要求的器件上装应用。
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2024年第24卷第5期 pp. 050204
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基于氮化铝陶瓷的收发组件射频信号拖尾研究
赵俊顶;任屹灏;陈晓青;张端伟;陈家明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0098
摘要
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可视化
以收发组件为应用背景,发现基于氮化铝陶瓷基板的射频电路导致射频信号拖尾,而射频信号拖尾时间直接影响接收通道限幅恢复时间,进而严重影响收发系统的接收灵敏度。研究发现氮化铝陶瓷是一种压电半导体材料,在射频信号传输过程中会产生压电效应,进而导致射频信号拖尾,传输功率越大产生的压电效应越强、射频信号拖尾时间越长。研究成果对于大功率收发组件电路基板选用具有理论指导意义和工程应用价值,特别是在高精测高、超近测距等雷达应用领域。
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2024年第24卷第8期 pp. 080403
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一种T/R多功能芯片评估系统中的数字设计
蒲璞,黄成,刘一杉,戴志坚
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0179
摘要
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可视化
T/R多功能芯片是相控阵雷达中的关键元器件,包含射频、数字以及驱动等电路模块,其电性能和功能评估过程极为复杂。在电性能及功能评估过程中,要求数字时序控制信号能够灵活配置,被测量电路的输入时序与其响应结果能一一对应,数字回读信号能直观显示。基于FT245RNL USB接口芯片和EP4CE10E22C8 FPGA,设计了一种针对T/R多功能芯片评估的控制电路,结合矢量网络分析仪、源表等仪器,完成了对芯片电性能和功能的评估。结果表明,上位机应用软件能准确地控制数字信号的收发。该方案在T/R多功能芯片评估系统的数字设计上表现出良好的通用性,为该类电路的评估提供了一种比较实用的思路。
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2024年第24卷第12期 pp. 120102
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一种基于FPGA的AD936x基带接口设计
*
张跃为,于宗光,陆皆晟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0068
摘要
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103
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可视化
在目前主流的软件无线电中,模数转换器(ADC)的速率和分辨率都较高,对于更高效率的数字接口的需求越来越大。为了满足目前实际应用对高速抗干扰、高可扩展性、低功耗等的需求,降低高速率传输下的抖动、毛刺导致的误码率,设计了一种基于FPGA的AD936x基带接口模块,重点介绍了该模块的系统组成以及ADC与FPGA之间的低电压差分信号双倍数据速率(LVDS DDR)、时钟采样、差分转换、帧数据同步、可配置延迟等关键技术。数据传输实验结果表明,该接口模块具有可靠的高速抗干扰数据传输能力,相对于传统的基带接口,具有高速率、高可靠、低功耗、高可配置性等特点。
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2024年第24卷第3期 pp. 030303
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TEC通断电情况下焊点寿命预测
李长安,庞德银,俞羽,全本庆,杨宇翔
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0021
摘要
(
103
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可视化
为了研究TEC在高低温通断电实验中发生焊点开裂的问题,采用有限元分析方法分析了TEC焊点在通断电时的热应力,应力分析结果表明,通断电会使得上焊点经历更多次的高低温循环,温度循环在焊点上产生交替变化的热应力,且上焊点的热应力变化比下焊点大,从而导致上焊点更容易发生疲劳开裂。将高温和低温下的各1次通断电等效为1次高低温循环,计算了每次高低温循环中上焊点的蠕变应变能密度,基于蠕变应变能密度,预测了TEC通断电情况下上焊点的寿命,预测的通断电次数对评估TEC服役寿命具有参考意义。
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2025年第25卷第2期 pp. 020201
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一个帧可控通用LCD驱动电路的设计
朱培敏;兰亚峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0088
摘要
(
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可视化
设计了一款高度灵活、帧速率可控的液晶显示器(LCD)驱动电路,该驱动电路由外部电源供电,可工作在高性能或低功耗模式。在通用LCD驱动电路的基础上增加了前置频率发生器,实现了帧频速率在30~100Hz之间高度灵活可编。死区持续时间的插入使对比度在电压调控基础上更加细化,同时也降低了电路的功耗。该驱动电路提供了多种可选的驱动方案,最多可驱动216(8×27)个LCD像素。
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2023年第23卷第7期 pp. 070301
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内嵌NPN结构的高维持电压可控硅器件
*
陈泓全,齐钊,王卓,赵菲,乔明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0081
摘要
(
101
)
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(1548KB)(
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可视化
针对传统可控硅(SCR)器件触发电压高、维持电压低、闩锁风险大等问题,提出了一种内嵌NPN结构的高维持电压SCR器件。维持电压由传统器件的1.2 V显著增大到10.3 V。与传统结构相比,该新型SCR结构体内存在2条电流路径,通过嵌入的NPN电流路径延缓了器件中寄生PNP管的开启过程,抑制了SCR结构里NPN与PNP的正反馈过程,使得SCR电流路径在电流较大时才能完全开启,从而达到提高维持电压的目的。基于半导体器件仿真软件,模拟了器件在直流下的电学特性,分析其工作机理并讨论了关键器件参数对其电学特性的影响。
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2024年第24卷第7期 pp. 070401
Select
基于TEC和平板热管的LED散热器结构优化设计
*
高杰,樊凤昕,马丹竹,建伟伟,李壮
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0063
摘要
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101
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(2052KB)(
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可视化
LED结温对其寿命和光效具有显著影响。高效的热管理对保持LED的性能稳定非常重要。为了有效降低LED结温、满足散热需求及特定场所的应用需求,结合热电冷却器(TEC)和平板热管(FPHP)重新设计了散热器结构,利用响应面法构建了针对散热器参数的双目标函数,通过非支配排序遗传算法(NSGA-II)求得Pareto最优解。基于散热器结构的最优值对TEC电流进行单因素优化分析,结果表明,优化后的LED最高结温比不采用TEC时的LED最高结温降低了23.3%,充分证明了优化散热器结构的有效性。
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2024年第24卷第5期 pp. 050205
Select
6061/4047铝合金激光封焊显微组织及性能研究
徐强,杨丽菲,舒钞,肖富强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0024
摘要
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101
)
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(768KB)(
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)
可视化
在微波组件模块中,为防止裸芯片加工后出现的磕碰、氧化及加速老化等问题,需要对微波组件模块进行封盖处理,以保证其有良好的气密性和使用性能。采用激光封焊技术焊接6061/4047铝合金,采用电火花线切割机切取焊缝试样。采用金相显微镜分析焊缝组织形貌,并使用显微硬度计测试焊缝硬度。采用拉力试验机进行破坏性拉力试验,并使用金相显微镜观察断口形貌。结果表明,焊缝与6061/4047铝合金界面形成了良好的冶金层,焊缝硬度低于6061/4047铝合金,焊缝中心位置的硬度最高,拉伸断口位于6061铝合金侧,断口为典型的塑性断裂形貌。
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2025年第25卷第2期 pp. 020203
Select
一种用于CPLD擦写寿命验证的设计
顾小明,肖培磊,唐勇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0116
摘要
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(2124KB)(
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可视化
近年来,国防等应用领域对电子元器件提出了国产化要求,自主设计的高性能复杂可编程逻辑器件(CPLD)应运而生。这些CPLD需要按照一定的标准流程进行筛选、考核,其中擦写寿命是一项重要的考核指标。阐述了采用集成开发环境及自动化测试机台对CPLD擦写寿命进行验证的不足之处,提出了一种CPLD擦写寿命验证装置的设计,经过实际检验,设计的装置稳定可靠,满足大批量器件的验证需求,提高了CPLD擦写寿命验证的效率。
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2023年第23卷第9期 pp. 090203
Select
GaN薄膜的太赫兹光谱响应研究
韩烨;王党会;许天旱
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0007
摘要
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)
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(1035KB)(
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可视化
目前,太赫兹时域光谱(THz-TDS)已经成为研究固体光学参数及色散关系的有效工具。采用太赫兹时域光谱仪对纤锌矿结构GaN薄膜在0~8.0 THz范围内的吸收光谱、介电常数、折射率以及介电损耗等进行了研究。研究结果表明,频率为4.65 THz的太赫兹响应是由GaN的E
2
(low)声子振动模式主导的,获得的低频介电常数8.9和高频介电常数6.0与理论值接近;进一步研究了频率在4.24~4.40 THz之间的太赫兹介电常数响应谱,获得的GaN薄膜的中心振动频率与太赫兹吸收光谱一致,介电损耗值很小且逐渐趋近于0,表明GaN有良好的介电特性。得出的结论拓展了GaN基电子元器件在THz波段中的应用,对进一步研究GaN基电子元器件在THz波段的质量与可靠性具有借鉴意义。
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2024年第24卷第1期 pp. 010403
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基于Chisel语言的异步FIFO设计及验证
蒋文成;黄嵩人
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0122
摘要
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97
)
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(1116KB)(
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可视化
采用敏捷硬件开发语言Chisel,对数字系统设计中经常使用的异步先进先出(FIFO)进行设计,使用Chisel语言特性提高了设计效率和质量。使用ChiselTest框架对所设计的异步FIFO进行基本功能仿真验证,使用通用验证方法学(UVM)进行更加完备的功能仿真验证,再使用Quartus Ⅱ软件进行逻辑综合。对比使用Chisel语言与使用传统硬件描述语言(HDL)设计的异步FIFO综合结果,结果表明,使用传统HDL语言设计的异步FIFO消耗了50个组合逻辑单元,而使用Chisel语言设计的异步FIFO,综合后仅消耗了39个组合逻辑单元。
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2024年第24卷第9期 pp. 090302
Select
一种基于汉明码纠错的高可靠存储系统设计
史兴强,刘梦影,王芬芬,陆皆晟,陈红
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0067
摘要
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96
)
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(1077KB)(
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)
可视化
为提高片上存储的可靠性,设计了一种基于汉明码纠错的高可靠性存储系统。该电路包括检错纠错(ECC)寄存器模块和ECC_CTRL模块。CPU可通过高级高性能总线(AHB)配置ECC寄存器以实现相应功能,SRAM和Flash的读写数据则通过ECC_CTRL模块进行校验码的生成和数据的检错纠错。仿真结果表明,该高可靠存储系统能够检测单bit和双bit错误,纠正单bit错误,提高了数据存储的可靠性,同时可将发生错误的数据和地址锁存在寄存器中,以便用户规避访问发生错误的地址。
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2024年第24卷第7期 pp. 070301
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一种高速宽范围共模电压搬移结构
贺凌炜, 孙祥凯
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0154
摘要
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96
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可视化
基于多点低电压差分信号(MLVDS)电路的长距离信号传输中对接收器的宽输入范围需求,提出了一种高速宽范围共模电压搬移结构,该结构能在差模电压不受影响的前提下对共模电压进行搬移,从而提高后级比较器输入信号质量,维持整体接收器工作频率。所设计的MLVDS接收器电路基于3.3 V工艺完成了仿真验证,结果表明其差分输入可在-5~15 V的共模电压内,高速接收差模大小为50 mV的差模信号。该结构适用于多种高速I/O接口电路设计。
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2024年第24卷第11期 pp. 110301
Select
用于酵母菌检测的微波超材料传感器
*
宋怡然;梁峻阁;顾晓峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0088
摘要
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可视化
在食品加工领域,监测酵母菌的含量对产品的产率和安全性有着极其重要的意义,常用的平板计数法等传统方法存在操作复杂、检测时间长、设备体积大等问题,因此有必要开发一种新型的酵母菌传感器以满足食品加工领域的复杂需求。提出了一种操作简单、非接触、低成本和小型化的微波超材料生物传感器,用于检测浓度范围为5×10
1
~5×10
4
CFU/mL的酵母菌溶液。该微波传感器将超材料结构与叉指电容结构相结合,实现了设备的小型化,进一步增强了传感器表面的电场强度,提高了酵母菌检测的灵敏度。利用谐振频率和谐振幅值2个微波参数表征了不同浓度的酵母菌溶液,检测过程中谐振频率和谐振幅值的变化量分别为2.6 MHz和0.03 dB,实现了酵母菌溶液的传感。这项研究为食品加工领域酵母菌浓度的监测提供了新的方案,拓宽了微波生物传感的应用。
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2024年第24卷第8期 pp. 080501
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基于时钟的低功耗动态管理方法研究
林健,姜黎
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0058
摘要
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可视化
在集成电路设计过程中,随着其集成度的不断提高,功耗也成为了不得不考虑的问题。介绍了当前低功耗技术的研究现状,描述了低功耗的设计方法。在低功耗时钟门控技术的基础上提出了一种基于时钟的低功耗动态管理方法,在ADP036DSP芯片中集成了一个低功耗模块,低功耗模块有3种不同的工作模式,即IDLE、STANDBY、HALT模式,用户可通过对寄存器的配置,进入到不同的低功耗模式。仿真结果表明,低功耗模式能够被正常唤醒,且能够有效降低功耗。
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2024年第24卷第5期 pp. 050303
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基于纳米铜膏的导电结构激光并行扫描烧结成型技术
*
王文哲,李权震,余胜涛,笪贤豪,何伟伟,杨冠南,崔成强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0016
摘要
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针对柔性基板中导电结构的快速成型,对纳米铜膏的多道激光并行扫描烧结技术进行了优化。探究了不同功率和填充间距对激光烧结过程中的纳米铜膏烧结形貌和电阻率的影响,得出最佳的工艺参数。适当缩小间距可提高烧结程度和导电性,但间距过小易导致基板过热。实验结果表明,最佳工艺参数组合为功率170 mW、间距10 μm、光斑直径15 μm,此时烧结线路呈现金属铜色,并形成网状烧结结构,测得电阻率为5.32×10
-6
Ω·cm。对比聚酰亚胺(PI)和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜在激光烧结过程中的效果,分析了基板的耐热性和透光性对烧结效果的影响机理,为后续清洗工艺提供可行性参考。
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2025年第25卷第1期 pp. 010402
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适用于STT-MRAM的写电压产生电路设计
莫愁,王艳芳,李嘉威,陆楠楠
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0001
摘要
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可视化
自旋转移力矩随机磁存储器(STT-MRAM)是一种新型的非易失性存储器,在各行各业均具有广泛的应用前景。STT-MRAM使用磁隧道结(MTJ)器件来存储信息,写电压通常是零温度系数的,但MTJ的临界翻转电压具有负温度特性,高温时写电压与临界翻转电压相差较大,影响器件寿命,低温时写电压与临界翻转电压接近,甚至可能低于临界翻转电压,导致写入困难。针对MTJ的临界翻转电压的负温度特性,设计了一款宽温区温度自适应的写电压产生电路,在-40~125 ℃下为MTJ提供稳定的写电压,实现宽温度范围尤其是低温下数据的正常写入,并提高了高温下器件的寿命。经过后仿真验证,该电路在-40~125 ℃温度范围内均能实现MTJ成功写入,且写入电压与临界翻转电压的差值在100 mV左右。
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2025年第25卷第1期 pp. 010301
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微电路模块异质黏接封装失效行为的研究
黄国平,王晓卫,陈科科
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0018
摘要
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可视化
为了避免微电路模块的异质黏接封装失效,采用铝合金表面处理和塑料外壳改性的方法,实现优良的异质黏接封装效果。在金属与塑料的异质黏接封装过程中,采用经过150目喷砂预处理的6061铝合金底板,将聚苯硫醚(PPS)塑料外壳从底板上剥离,剥离强度最大可达1.83 N/mm,异质黏接封装的可靠性得到明显提高,开裂失效得到有效抑制。在PPS塑料外壳中添加质量分数为30%的玻璃纤维,在125 ℃下对其进行2 h的退火热处理,其抗弯强度最大可达246 MPa,该工艺有效改善了由于PPS塑料外壳侧壁鼓包变形导致的封装失效。
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2024年第24卷第4期 pp. 040203
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镍电极MLCC排胶后残碳量及其电性能研究
蒋晋东,易凤举,陈沫言,程淇俊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0003
摘要
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可视化
多层陶瓷电容(MLCC)固有的坯体有机物残留导致产品可靠性低,其主要原因是排胶不充分。通过改变排胶工序的不同工艺条件,使用硫碳分析仪对排胶后坯体残碳量进行量化,结合破坏性物理分析、扫描电镜对烧成后的产品进行结构分析,并对成品进行电性能测试,探索残碳量与成品的电极连续性、电性能及可靠性之间的联系。结果表明通过增大气体交换、降低排胶升温速率、延长保温时间等手段可有效降低排胶后的残碳量,烧成MLCC的内电极连续性变得更好,容量和击穿电压等电性能数据得到提升,介质层变得更致密,使用寿命延长。所探讨的测定排胶充分性以及增加排胶充分性的方法可为MLCC工业生产中的排胶作业提供参考。
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2025年第25卷第1期 pp. 010401
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铜-铜键合制备多层陶瓷基板技术研究
*
雷振宇, 陈浩, 翟禹光, 王莎鸥, 陈明祥
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0086
摘要
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可视化
为了提高功率器件封装集成度,通过铜-铜热压键合的方式将直接镀铜(DPC)陶瓷基板进行垂直堆叠制备出一种新型多层陶瓷基板。利用电镀工艺对铜表面进行了处理,并探究了铜-铜热压键合的工艺条件。结果表明,在电流密度为2 A/dm
2
(ASD)时,可制备出高晶面(111)取向的金属铜,其具有较低的表面粗糙度,有利于铜-铜热压键合。在250 ℃和24 MPa压力下,采用高晶面(111)电镀铜实现高强度键合(强度高达32.34 MPa),制备出含腔体结构的多层陶瓷基板,并具有较高可靠性。
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2025年第25卷第5期 pp. 050105
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高密度有机基板阻焊油墨显影与侧蚀研究
杨云武, 俞宏坤, 陈君跃, 程晓玲, 沙沙, 林佳德
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0098
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乙基纤维素影响下的微米银焊膏和纳米银焊膏烧结对比研究
*
喻龙波,夏志东,邓文皓,林文良,周炜,郭福
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0037
摘要
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可视化
微米银(Ag MPs)焊膏和纳米银(Ag NPs)焊膏因其低温烧结、高温服役的特点而成为最有可能用于高温封装的连接材料。研究了乙基纤维素对Ag MPs和Ag NPs焊膏烧结结果的影响,分析了相同条件下2组焊膏烧结结果存在差异的原因。结果表明,在无压、250 ℃、空气条件下,添加质量分数为5%的乙基纤维素,2组焊膏的烧结性能较好,Ag MPs焊膏烧结所得接头强度和薄膜电阻率为8.57 MPa和4.25 μΩ·cm,Ag NPs焊膏烧结所得接头强度和薄膜电阻率为32.89 MPa和7.71 μΩ·cm。接头界面和薄膜微观形貌表明,烧结后颗粒间形成的烧结颈和烧结组织均匀性是影响连接强度的关键因素,而烧结组织致密度则是影响导电性的主要因素。研究结果为进一步提高银焊膏烧结接头强度和烧结薄膜导电性提供了参考。
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2025年第25卷第3期 pp. 030102
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适用于Flash型FPGA的宽范围输出负压电荷泵设计
吴楚彬,高宏,马金龙,张章
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0106
摘要
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可视化
在Flash型FPGA的编程、擦除和回读检验等操作中,需要对Flash单元提供不同的正负高压偏置。提出一种适用于Flash型FPGA的负压电荷泵,该电荷泵采用三阱Flash工艺,消除了衬偏效应和衬底漏电的影响。电荷泵主体采用双支路并联结构,级数为6级。通过参考电压产生电路提供不同的输入参考电压,并结合电荷泵控制系统,可以实现电荷泵输出电压的自由调节,满足Flash型FPGA编程、擦除的负压要求。基于0.13 μm Flash工艺对电荷泵进行设计及流片,在200 pF负载电容下,实测得到-5.5 V输出的建立时间仅为8 μs,输出纹波为72 mV,-17.5 V输出的建立时间为30 μs,输出纹波仅为56 mV,满足Flash型FPGA操作要求。
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2024年第24卷第7期 pp. 070303
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基于输电线异物的轻量级目标检测方法研究
徐玲玲, 林伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0167
摘要
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可视化
输电线路上的异物检测对确保电力系统安全运行至关重要。为了提高输电线异物识别效率,改进了YOLOv3-Tiny模型。首先在头部网络中,采用深度可分离卷积替代标准卷积、归一化和激活函数结构,分离空间和通道相关性,降低卷积计算量,提高了识别的速度;其次,引入了考虑距离损失、高宽损失的EIoU的损失函数替代原始的损失函数,使得模型找到边界框预测与类别预测之间的最佳点,从而提升算法的检测效果。消融实验验证了这些改进的有效性,结果表明,改进后的模型在保持高精度的同时,检测速率(FPS)提高了2.02倍,减少了74.17%的参数量,大幅降低了计算资源需求。该算法在资源受限环境中表现出色,具备实际应用价值。
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2024年第24卷第12期 pp. 120501
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一种可暂停的低功耗DMA控制器设计及验证
苏皇滨,林伟,林伟峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0029
摘要
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可视化
通过分析直接内存存取(DMA)控制器的工作原理和主要功耗来源,发现其在空闲状态时依然存在功耗较高的问题,为了解决空闲状态功耗损失问题以及满足DMA控制器实际传输过程中可能出现的暂停需求,提出了一种可暂停的低功耗DMA控制器设计方案。采用自适应时钟控制机制,通过加入时钟门控技术,根据DMA数据传输需求动态调整时钟,使DMA引擎模块功耗降低了62%。针对暂停需求,采用了一种可暂停的控制策略,通过加入暂停指令,实现对DMA传输的实时暂停和恢复,提高了DMA控制器的灵活性。为了保证DMA控制器功能的正确性和完备性,采用基于覆盖率驱动验证(CDV)的验证策略,划分DMA控制器的功能点,针对每个功能点编写测试用例,搭建通用验证方法学(UVM)仿真验证平台,进行大量随机测试和定向测试,给出测试的结果以及完整的覆盖率分析结果。
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2024年第24卷第3期 pp. 030302
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基于小型化模块相位噪声的间接测试方法
胡劲涵,陈文涛,邵海洲
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0020
摘要
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可视化
收发电路模块的本振信号质量对系统的整体性能有重要影响。小型化模块由于尺寸的限制,无法在本振的输出端设置测试端口,因此无法直接在本振的输出端准确地测试相位噪声。提出了一种针对小型化收发电路模块本振信号相位噪声的间接测试方法,该方法需要测试模块的输入/输出信号的功率、相位噪声以及整个收发通路的增益和噪声系数,通过公式计算得到本振信号的相位噪声。采用此方法对小型化收发电路模块进行测试,将得到的相位噪声结果与器件指标进行对比,两者高度一致,从而验证了间接测试方法的正确性和有效性。
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2024年第24卷第3期 pp. 030203
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某型运算放大器失效机理研究
李鹏,解龙,刘曦
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0072
摘要
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可视化
针对某系统调试过程中出现的某型运算放大器塑封固定后测试不合格问题,通过制定失效分析方案探究其失效机理。对失效样品进行电参数测试,发现输出电压异常,同时偏置电流、输入失调电压等参数超差,初步判定失效机理为静电损伤,随后进行
I
-
V
特性曲线测试和对比分析,确认第2路输入端口对正电源端口开路。通过X射线检测和颗粒碰撞噪声检测排查器件封装内部可能存在的缺陷及可动多余物,并将器件开封,观察内部结构和版图,发现Pin5处存在明显的击穿痕迹。以最大耐受值电压为起始电压,步进为100 V,对合格样品进行人体模型静电放电试验,验证了运算放大器因静电放电导致晶体管击穿烧毁的失效机理。
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2024年第24卷第7期 pp. 070202
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纳米铜粉的制备方法及其在电子封装行业的应用
王一帆,汪根深,孙德旺,陆冰沪,章玮,李明钢
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0047
摘要
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87
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可视化
纳米铜粉在电子封装领域可作为浆料的填充材料实现低温烧结,替代价格较高的银,具有广阔的应用前景。纳米铜粉的尺寸、形貌、纯度等与制备方法密切相关,有必要深入了解不同制备方法,实现粒径精准控制。综述了3种主流的纳米铜粉制备方法,重点对成本较低的液相还原法进行了介绍。介绍了纳米铜粉在低温烧结铜浆中的应用,分析了浆料成分、烧结参数等因素对铜浆烧结性能的影响,指明了纳米铜粉的技术瓶颈及发展趋势,纳米铜粉的粒径、形貌可控及抗氧化措施将成为未来研究热点。
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2025年第25卷第3期 pp. 030110
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IPM模块散热片变色研究
龚平,陈莉,顾振宇,潘效飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0030
摘要
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可视化
智能功率模块(IPM)封装往往采用散热片外露的形式以提高其与外部环境的热交换效率。散热片通常是由具有高导热率的框架或者基板(如双面覆铜陶瓷基板)制成。由于陶瓷基板的结构特性,基板外露在塑封体外部一侧的铜层在镀锡过程中不会被锡层覆盖,因此会出现表面变色问题。对具有双面敷铜陶瓷基板的IPM模块的散热片变色现象展开分析,总结了变色的处理方法、预防措施以及各自的优缺点。研究结果表明,在封装工艺设计中,将处理与预防方法相结合,才能有效解决IPM封装中双面覆铜陶瓷基板散热片的变色问题。
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2025年第25卷第2期 pp. 020206
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N多晶电阻的温度漂移影响因子及工艺研究
陈培仓,周凌霄,洪成强,王涛,吴建伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0070
摘要
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86
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可视化
多晶电阻在集成电路中应用广泛,可用作电路负载、阻尼、分压或分流,但是在实际使用过程中,多晶掺杂电阻的阻值由载流子浓度和迁移率决定,而2者都会受到温度的影响,因此多晶电阻的阻值随温度的变化而变化,且存在一定的温度系数。对N多晶电阻的温度漂移影响因子展开研究并进行分组实验验证,制备出了温度系数在±10×10
-6
/℃以内的低温度漂移、高精度半导体N多晶电阻,保证了不同温度环境下电路的工作稳定性,为高稳定电路设计了提供参考依据。
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2024年第24卷第5期 pp. 050403
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用于GaN半桥驱动的高可靠欠压锁定电路
*
李亮,周德金,黄伟,陈珍海
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2023.0126
摘要
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86
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可视化
设计了一种用于GaN栅驱动芯片的高可靠欠压锁定电路,该电路能精确响应并输出保护信号以确保电路安全。欠压锁定采用快速响应的差分比较器电路与电阻分压采样,避免了反馈回路开关噪声引起的电路不稳定问题。在欠压锁定电路中加入电源毛刺检测电路以确保产生稳定可靠的欠压锁定信号。基于CSMC 0.18 μm BCD工艺,完成了电路设计。仿真结果表明,供电电压上升时阈值电压为7.3 V、下降时阈值电压为5.8 V,迟滞量为1.5 V,避免了电路在阈值电压附近反复开启与关断。
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2023年第23卷第9期 pp. 090302
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一种12位电压与电流组合型DAC设计
桂伯正,黄嵩人
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0015
摘要
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85
)
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(1288KB)(
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)
可视化
采用40 nm CMOS工艺设计了一款12位200 kSample/s低功耗数模转换器(DAC)芯片。结合建立速度和静态性能的设计指标,设计了“7+5”分段式电压与电流组合型结构和AB类输出缓冲器,在保证建立速度的条件下考虑到电阻的失配性,实现了良好的微分非线性(DNL)和积分非线性(INL)特性。测试结果表明,在-40~125 ℃下,DNL<0.2 LSB,INL<2 LSB,DAC具有精度高、单调性好、负载能力强的特点。
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2025年第25卷第2期 pp. 020301
Select
流体辅助飞秒激光技术在半导体材料微纳加工中的应用与进展
孙凯霖, 田志强, 杨德坤, 赵鹤然, 黄煜华, 王诗兆,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0087
Select
一种自激式推挽隔离变换电路设计
郭靖,孙鹏飞,袁柱六
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0005
摘要
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83
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(1071KB)(
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)
可视化
电子设备供电常采用分布式供电架构,将一次电源通过直流-直流功率变换为电子设备所需的各种电压和功率。电子设备的端电压越来越低(如给MCU、FPGA等器件供电的电压为1.5~3.3 V),而电子设备中一些信号数字电路、驱动电路等需要电压为5 V或者12 V、功率约为1 W的小功率供电电源,同时需要隔离主功率电路和信号电路的相互干扰,保证信号电路的精密度和信号完整性,如果从一次电源母线直接进行功率变换,转换效率低、体积大、质量大。为满足电子设备的供电需要以及对效率、体积、质量的要求,基于Royer变换电路提出一种自激推挽式隔离变换电路,通过研究该电路的工作原理,进行模态分析,给出了关键元器件参数的计算与设计过程,在此基础上通过电路试验研制出样品,验证了其可行性。
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2025年第25卷第1期 pp. 010303
Select
基于FPGA的JPEG-XS高性能解码器硬件架构设计
郑畅,吴林煌,李雅欣,刘伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0019
摘要
(
80
)
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(1280KB)(
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)
可视化
JPEG-XS视频编解码标准具有高质量、低复杂度、低延时等特点。针对JPEG-XS图像编解码压缩标准,对其解码算法进行了简要介绍,提出了一种面向硬件实现的高性能JPEG-XS解码器架构。所设计的解码器硬件架构采用流水线处理,能够在保持高数据吞吐量的同时减少由组合逻辑带来的路径延迟,提高了工作频率,每个时钟周期可解码4个重构像素值。实验结果表明,在Xilinx Zynq FPGA的实验平台上,所设计的高性能JPEG-XS解码器硬件架构仅占用15k的查找表和10k的寄存器资源,最高主频达254 MHz,最高可支持4K、100 frame/s的实时视频解码。
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2025年第25卷第2期 pp. 020303
Select
面向大规格矩阵协方差运算的高性能硬件加速器设计
*
陈铠, 刘传柱, 冯建哲, 滕紫珩, 李世平, 傅玉祥, 李丽, 何国强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0172
摘要
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80
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(1661KB)(
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可视化
随着雷达系统向多通道、高带宽方向发展,大规格矩阵带来的协方差运算实时性问题限制了空时二维自适应处理(STAP)技术在先进机载雷达平台上的应用。提出了一种高性能硬件加速器设计方法,旨在满足日益增长的大规格矩阵协方差处理需求,同时提高低功耗约束下的运算效率。加速器由运算部件、控制模块、存储模块和DMA控制器组成,通过对矩阵按列分段处理的方式,在硬件存储资源有限的条件下,支持最大256×8192的矩阵协方差运算。设计了下三角运算控制逻辑,降低了运算量,并提出了一套高并发乒乓存储、流水乘累加树处理机制,提高了处理效能。流片测试结果表明,该加速器处理大规格矩阵协方差运算时性能为算力接近的CPU核的70倍以上。
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2024年第24卷第12期 pp. 120306
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4通道X波段50 W功放模块设计
王洪刚,丛龙兴
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0163
摘要
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79
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(1618KB)(
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可视化
基于GaN功放模块的阵列化应用,采用GaN功率单片和栅极调制设计了一款4通道X波段50 W功放模块,该模块在频段为8~12 GHz、工作电压为+28 V、脉宽为200 ns~700 μs、周期为1 μs~2.8 ms的工作条件下,功率增益大于42 dB,功率附加效率超过28.7%,饱和输出功率大于47 dBm。
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2024年第24卷第12期 pp. 120301
Select
面向CMOS图像传感器的噪声抑制研究进展
陈建涛, 郭劼, 钟啸宇, 顾晓峰, 虞致国
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0059
Select
SO-8塑封器件湿热耦合可靠性研究
李登科
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0036
摘要
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可视化
随着塑封器件大规模应用于各类电子产品,对其可靠性的研究逐渐成为人们关注的热点。塑封材料的吸湿特性导致塑封器件对水汽十分敏感,因此研究塑封器件的湿热特性极具应用价值。基于ANSYS Workbench有限元软件对SO-8塑封器件进行了高压蒸煮试验仿真,分析了器件在湿热耦合试验条件下各个结构的应力、应变分布。仿真结果表明,SO-8塑封器件内部各个结构互相接触的位置存在较大的应力和应变,其中引脚框架和塑封料的界面存在的应力和应变相对较大,这些部位是塑封器件易发生分层现象的位置。结合SO-8塑封器件在高压蒸煮试验后的超声扫描图像可以发现,湿热耦合试验条件下SO-8塑封元器件的分层主要发生在引脚框架上,这一现象与有限元仿真结果一致,为SO-8塑封器件的设计与封装提供了重要参考。
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2025年第25卷第4期 pp. 040204
Select
GaN功率放大器输出功率下降失效分析
*
张茗川,戈硕,袁雪泉,钱婷,章勇佳,季子路
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0017
摘要
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78
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(1463KB)(
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可视化
GaN管芯是微波功率放大器的核心器件,其热性能很大程度上决定了功率放大器的电性能。针对某一型号功率放大器在直流老化后出现输出功率下降的现象,利用红外热像、声学扫描、能谱分析等分析方法对失效功率放大器开展了分析研究。结果表明,放大器管芯背金金属层之间发生明显分层,导致器件热阻增大,老炼时管芯结温超过安全工作区,从而使得放大器输出功率下降。
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2025年第25卷第2期 pp. 020401
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单BJT支路运放失调型带隙基准电路
王星,相立峰,张国贤,孙俊文,崔明辉
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0166
摘要
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可视化
提出一种单双极结型晶体管(BJT)支路运放失调型带隙基准电路,与传统带隙基准相比,所提出的带隙基准具有更少的BJT和无源元件,功耗更低。该带隙基准结构的BJT的发射极-基极电压
V
BE
与绝对温度成反比(CTAT),基于运算放大器工作在亚阈值区的非平衡输入对管的栅极-漏极电压的差值Δ
V
GS
与绝对温度成正比(PTAT),通过单BJT支路线性叠加,得到带隙基准电压。所提出电路通过两级运放和具有源跟随功能的单BJT支路构成闭环负反馈系统,运放电路采用米勒电容进行频率补偿,提高系统稳定性。此外,通过在输出节点增加输出电容,改善高频情况下的电源抑制比(PSRR)。所提出的带隙基准电路基于标准SMIC 55 nm CMOS混合信号工艺制造,在-55~125 ℃范围内实现了15.7×10
-
6
/℃的温度系数,基准输出电压为1.27 V,PSRR在1 Hz、1 kHz、10 MHz时分别为-39.65 dB、-39.65 dB、-33.81 dB,功耗为0.730 μW,电路稳定时间为20 μs,无需启动电路,具有良好的性能指标。
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2024年第24卷第12期 pp. 120304
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嵌入分段半超结的p-栅增强型垂直GaN基HFET
*
杨晨飞,韦文生,汪子盛,丁靖扬
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0096
摘要
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可视化
元胞面积相同的增强型垂直GaN/AlGaN异质结场效应管比横向HFET能承受更高的电压和更大的电流,适用于大功率领域,但在耐压时漂移区场强峰值高而容易提前击穿。提出了一种嵌入分段半超结的增强型垂直HFET,利用p型掺杂GaN栅和p
+
型掺杂GaN电流阻挡层抬高GaN/AlGaN异质结导带至费米能级之上,在栅压为0时夹断异质结的2DEG沟道,实现增强功能;在漂移区两侧插入2段p-GaN柱,形成p/n/p型离散半超结,改善电场均匀性。采用Silvaco TCAD软件模拟了Al组份、CBL浓度、p-GaN柱的宽度和厚度等参数对器件性能的影响。结果表明,相比于包含普通半超结的HFET,本器件的击穿电压提升了8.67%,静态品质因数提升了11.25%,导通延时缩短了16.38%,关断延时缩短了3.80%,可为设计高性能HFET提供新思路。
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2024年第24卷第8期 pp. 080402
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基于Python语言的基站自动化校准系统
李勇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0164
摘要
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可视化
为适应多方通信的需求,复杂无线通信系统对射频单元功率控制有较高要求。要明确射频单元的收发功率,必然要对接收和发射模块分别进行校准。详细介绍了校准原理和校准步骤,并给出了一个校准结果样例。使用Python语言实现了收发模块校准自动化。这种校准方法具有较高的可靠性,可以推广到有功率控制要求的其他射频单元中。
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2024年第24卷第12期 pp. 120302
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抗辐照电源监控电路的极限评估试验研究
文科,文闻,钟昂,余航,罗俊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0157
摘要
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76
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(1244KB)(
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可视化
基于国内某款抗辐照电源监控电路开展了极限评估研究,分析该款产品的详细规范、核心参数、极限判据等内容。通过设计步进应力试验、寿命试验、辐照试验等,评估电路在电、热、机械等应力下的极限能力和失效模式,并对极限评估的方案有效性进行了验证。试验结果表明,设计的极限评估方案能够有效反映器件在各种极限条件下的性能,通过试验可以查出器件的设计薄弱环节和失效模式,为器件在设计、工艺以及材料方面的优化提供支撑。
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2024年第24卷第11期 pp. 110202
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三维集成铜-铜低温键合技术的研究进展
陈桂, 邵云皓, 屈新萍
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0110
摘要
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(3743KB)(
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可视化
随着集成电路制造技术对高性能、高集成度和低功耗的需求不断增加,三维集成电路(3D IC)技术成为提升芯片性能和集成度的有效途径。金属Cu具有低电阻率、优异的导热性和抗电迁移能力,能够提供高效的电气连接和热管理性能。低温Cu-Cu键合技术因其在高密度互连、良好的导电性和导热性方面的优势,成为先进封装的核心技术之一。探讨了Cu-Cu键合技术面临的主要挑战及其解决方案,总结了目前主要的几种低温键合技术,分析了它们在实际应用中的优势与不足。尽管Cu-Cu低温键合技术面临诸多技术瓶颈,但随着材料和工艺的不断进步,其在未来电子封装技术中仍具有广阔的应用前景。
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2025年第25卷第5期 pp. 050106
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高导热TIM的实现方法及其可靠性研究进展
胡妍妍 马立凡 王珺
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0085
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混合键合中铜焊盘的微纳结构设计与工艺优化研究进展
*
杨刚力, 常柳, 于道江, 李亚男, 朱宏佳, 丁子扬, 李力一
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0121
摘要
(
75
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(5708KB)(
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可视化
随着晶体管微缩逐渐放缓,先进封装和三维集成技术成为集成电路系统性能持续提升的重要路径。混合键合是一种具有高密度三维集成能力的键合工艺,在人工智能芯片制造等应用中扮演日益重要的角色。铜焊盘是混合键合负责信号传输与供电的接口,其物理化学特性决定了工艺的良率和可靠性。目前,国际领先半导体企业在混合键合铜焊盘工艺领域已取得显著进展,不仅建立了高密度金属化-等离子体活化-低温键合的系统化工艺流程,且通过技术迭代将铜焊盘的关键尺寸(直径与节距)微缩至亚微米级。相比之下,我国高校及科研机构在混合键合铜焊盘的研究中尚处于初期探索阶段,与国际先进水平相比,在实现超高密度混合键合的工艺能力与技术积累上仍存在显著差距。系统探讨了铜焊盘的几何形状、表面化学特性及晶粒组织对键合性能的影响,总结了该领域的优化策略及技术调整,为提高混合键合工艺能力的相关研究提供了参考。
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2025年第25卷第5期 pp. 050108
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基于故障监控的CPU测试平台设计
刘宏琨,王志立,王一伟,张凯虹,奚留华
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0029
摘要
(
74
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(1133KB)(
45
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可视化
通过ATE结合实装系统实现了CPU芯片测试。基于环回测试技术实现CPU芯片的PCIe和UART接口测试,通过外挂Flash芯片实现CPU芯片SPI接口的读写性能测试、擦除测试、数据保持测试,通过外挂DDR4芯片实现CPU芯片的内存延迟、时间参数测试。通过设计实装系统故障诊断定位装置并外挂EEPROM芯片实现CPU芯片测试温度实时监控,提高了测试效率。
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2025年第25卷第2期 pp. 020205
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用于Si-APD的高能注入工艺优化研究
刘祥晟,荆思诚,王晓媛,张明,陈慧蓉,潘建华,朱少立
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0161
摘要
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73
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可视化
雪崩区注入能量对硅基雪崩光电二极管性能影响极大,大束流高能注入的工艺需求极高的设备成本。通过理论仿真计算和实验流片,调整雪崩区的注入能量和改善雪崩区的扩散时间,将注入能量从600 keV降低到390 keV,并在低成本的中束流离子注入机上对比验证。优化前后的器件性能都满足规范要求,参数上无明显差异。工艺方法简单可控,能有效降低注入设备成本,提升硅基雪崩光电二极管产能。
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2024年第24卷第11期 pp. 110403
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基于安时积分法估算电池低温荷电状态的方法对比
李丽珍, 王星, 向小华, 叶源, 沈小波
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0020
摘要
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72
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可视化
低温环境下锂离子电池最大可用容量减少,直接影响低温荷电状态(SoC)的估算精度。测试了磷酸铁锂电池在不同温度下的最大可用容量,提出了线性低温容量损失模型和定值低温容量损失模型,分析对比了电池在这2种模型下损失的容量随温度变化的趋势,并基于安时积分法对比了这2种低温容量损失模型对SoC估算的影响。通过MATLAB/Simulink仿真及实车低温充电和放电试验对比了这2种SoC的估算方法。结果表明,线性低温容量损失模型的估算精度较高,整车低温充电试验和低温放电试验的SoC估算误差分别为1.81%和3.64%,且电池静置时SoC不随电池温度变化,更加符合终端客户预期。
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2025年第25卷第2期 pp. 020501
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一种耐热、低温固化且强连接的地聚物封装材料
孙庆磊,李嘉宁,崔粲,李施霖
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0139
摘要
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72
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可视化
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2024年第24卷第7期 pp. 070601
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军用DC/DC电源模块失效分析研究
李鹏,张竹风,王自成,刘红,赵国发
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0041
摘要
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72
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(2420KB)(
99
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可视化
针对某武器系统研制过程中出现的2只DC/DC电源模块输出异常问题,通过制定失效分析方案探究其失效机理。对失效模块进行外观检查,各管脚均存在不同程度的绝缘子破裂现象;进行电性能和
I
-
V
特性曲线测试,并与合格样品进行对比,发现2只失效模块的Pin3与Pin5之间分别存在二极管特性异常和连接性异常现象,初步确定失效部位;通过X射线检测设备对模块内部基板和引线架进行检查,发现1#模块的2处VDMOS管键合丝断裂,断面呈熔球状;进一步将模块物理开封进行内部检查,观察到1#模块的VDMOS管芯片中间部位存在高温引起的变色现象,2#模块的管脚焊接点存在明显裂缝。对失效原因进行排查和分析,结果表明,电源端过电应力导致1#模块的VDMOS烧毁,焊接不良造成2#模块的输出异常。
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2025年第25卷第4期 pp. 040206
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基于神经网络的PCB电源分配网络阻抗预测方法
段克盼,贾小云,韩东辰,蒋建伟,杨振英,郭宇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0012
摘要
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71
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可视化
针对传统电源分配网络(PDN)建模及计算方法存在的局限性和高计算资源消耗问题,提出了一种基于深度学习的PDN阻抗预测方法(URPNet)。该方法在融合PCB不规则形状、多叠层信息及多种电容端口位置信息的基础上,采用U型编解码结构和残差单元来处理特征,通过多层感知机(MLP)及全连接(FC)层对特征进行解码和重构,从而提升网络的特征处理能力。实验结果显示,URPNet模型的决定系数
R
2达到0.999,均方根误差为0.431,相较于现有深度学习方法,URPNet在通用性较强的同时预测结果更准确。此外其计算速度快,能够在不到1 s的时间内完成预测,可以有效应对PDN设计中的挑战。
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2025年第25卷第1期 pp. 010307
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大规模Flash型FPGA整体功能仿真验证方法研究
蔺旭辉,马金龙,曹杨,熊永生,曹靓,赵桂林
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0014
摘要
(
70
)
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(1309KB)(
66
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可视化
提出了一种大规模Flash型FPGA整体电路编程后功能仿真验证的方法。通过对核心Flash单元建立数字Verilog等效模型,采用整体数字仿真验证和模拟仿真验证的方法,结合编程功能案例,对器件内部所有的资源模块进行功能仿真验证,并且提出了加快整体电路数字仿真速度的方法。将提出的仿真验证方法成功应用于大规模Flash型FPGA芯片设计验证,得到了正确的验证结果,整体电路仿真验证速度得到了显著提升。
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2025年第25卷第1期 pp. 010308
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基于泰勒级数近似的浮点开方运算器的设计
谌民迪,万江华
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0049
摘要
(
70
)
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(1041KB)(
105
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可视化
基于泰勒级数展开式对浮点开方运算进行优化,设计了一个符合IEEE-754标准的精确浮点开方运算器。为了平衡开方运算器的整体性能,采用泰勒级数的二次展开式。为了解决算法中存在的不能进行精确舍入的问题,引入了一种校准方法,通过对初始近似值进行校准,获得了理想的误差范围。为了提高数据吞吐率和工作频率,对开方运算器shi用了5级流水线划分。仿真和综合结果表明,浮点开方运算器的误差小于0.5 ulp,关键路径延时为2.23 ns,面积为53478.240 μm
2
,功耗为12.52 mW。
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2024年第24卷第5期 pp. 050301
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基于激光辅助瞬态液相微连接技术的热敏元件气密性封装工艺
霍永隽,宋佳麒,胡世尊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0134
摘要
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70
)
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(392KB)(
175
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可视化
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2024年第24卷第6期 pp. 060601
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一种正负电源供电伺服系统中的半桥驱动电路设计
*
孙鹏飞,李昕煜,张志阳
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0006
摘要
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69
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(1184KB)(
67
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可视化
针对正负电源供电的直流电机伺服系统,通常采用半桥驱动电路对电机进行调速与控制。相比于全桥驱动电路,半桥驱动电路结构简单,且节省功率器件,能够提高驱动效率,具有一定的应用优势。详细介绍了一种用于正负电源供电直流电机伺服系统中的半桥驱动电路的设计方法。介绍了电路的设计思路,对电路中的方波积分、脉宽调制、死区时间设置、电压自举及半桥驱动等模块的工作原理及设计方法进行了详细阐述,并通过仿真输出波形和样机实际输出波形验证了该设计方法的合理性。
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2025年第25卷第1期 pp. 010304
Select
基于SiP应用的多层有机复合基板的三维堆叠
姚剑平,李庆东,管慧娟,杨先国,苟明艺
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0044
摘要
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69
)
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(1053KB)(
95
)
可视化
为使射频微波产品进一步实现小型化、通用化和系列化的设计、生产和应用,提出了一种基于多层有机复合基板的三维堆叠集成封装设计方法和工艺实现方法,并将其应用到了一款变频系统级封装(SiP)组件中。相较于二维高密度集成,基于多层有机复合基板的三维堆叠集成封装加强了垂直方向的空间利用率,能够进一步实现射频产品的小型化。多层有机复合基板三维堆叠模型的仿真和实测结果表明,此结构模型可以满足宽频带射频信号传输要求。采用多层有机复合基板三维堆叠方式设计的变频SiP组件的性能满足指标要求,设计方法和工艺实现方法具有可实现性。
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2025年第25卷第4期 pp. 040208
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先进封装中铜柱微凸点互连技术研究进展
*
张冉远, 翁铭, 黄文俊, 张昱, 杨冠南, 黄光汉, 崔成强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0141
摘要
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68
)
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(2982KB)(
103
)
可视化
超高密度互连、三维异构集成是当前微电子技术发展的趋势,铜柱微凸点作为先进封装互连的核心技术,提供了高性能、多样化的应用方案。讨论了焊料铜柱微凸点互连的原理、特性及挑战,详细阐述了瞬态液相互连技术及固态扩散互连技术的研究进展,概述了纳米材料修饰铜柱微凸点互连的不同方案,分析了各类材料的互连特性及性能。最后总结展望了铜柱微凸点互连技术未来的发展方向。
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2025年第25卷第5期 pp. 050109
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一种JPEG-XS编码器的硬件架构优化设计
李雅欣,吴林煌,刘伟,郑畅
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0023
摘要
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68
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(2472KB)(
45
)
可视化
为将JPEG-XS这一主流的浅压缩算法与现场可编程门阵列(FPGA)相结合,设计了一种适用于高分辨率、高帧率应用场景的视频编码器,提出了一种完整的JPEG-XS编码器硬件方案。对整个编码器进行流水线编码设计,实现模块间时间上的复用,对于模块内部,提出了4行并行计算的5/3小波变换架构,对于耗时最长的熵编码模块提出了并行编码各子包的硬件方案。实验结果表明,在Xilinx UltraScale+ ZCU102的FPGA平台,该硬件架构仅占用38.9×10
3
个查找表资源和23.8×10
3
个寄存器资源,最大主频可达182.24 MHz,可支持4K@60帧/s的实时编码。
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2025年第25卷第2期 pp. 020304
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一种具有可调折返过流保护的LDO电路设计
*
王晶,张瑛,李玉标,罗寅,方玉明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0028
摘要
(
68
)
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(1468KB)(
49
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可视化
基于CSMC 0.18 μm BCD工艺,设计了一种具有可调折返限流功能且无须内部补偿的低压差线性稳压器(LDO)。为防止闩锁,设计了一个可通过外部单电阻调整折返点的限流结构。此外,为了降低LDO环路补偿的设计难度,设计了一种无须内部补偿的LDO环路。该设计的限流点为13.78 mA,短路电流为0.56 mA,在输入电压为3.4~42 V、输出电压为3 V时,线性调整率不超过0.5 mV/V,且在轻载和重载情况下,相位裕度分别为89.7°和74.7°,1 kHz时电源抑制比为-65 dB。
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2025年第25卷第2期 pp. 020305
Select
VIISta HCS离子注入机在离子束优化与检测期间的金属污染探究及改善
李天清
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0026
摘要
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67
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(1058KB)(
33
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可视化
针对半导体行业所面临的金属污染问题,VIISta HCS离子注入机虽已具备若干成熟的改进措施,然而在先进制程对离子注入工艺金属纯净度要求日益严格的当下,迫切需要明确该机型金属污染的其他潜在原因。该机型在进行离子束优化与检测的过程中,设备会进行气流、电压、电流以及其他硬件参数的调整。这些调整可能对机台的金属析出产生影响,从而导致污染。经验证,设备在对离子束参数进行检查后,注入的硅片中金属铝的含量有所上升。针对铝含量增加的问题进行了理论分析和实验验证。结果表明,通过多次手动移动图形法拉第杯,可以有效促进铝元素的提前析出。通过使用特定程序的挡片来执行离子束通道清洁作业,成功实现了铝洁净度34%的提升,显著缓解了在离子束参数检查过程中铝含量变差的问题,提高了工艺稳定性。
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2025年第25卷第2期 pp. 020402
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基于CKS32系列MCU和LoRa的电机温度采集装置
*
胡晓涛
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0060
摘要
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66
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(1333KB)(
98
)
可视化
针对目前电机温度监测存在的不足,提出了1种基于CKS32系列MCU和LoRa的电机温度无线采集装置。装置采用的LoRa数据无线传输方式能有效解决有线传输存在的布线困难,以及ZigBee、WiFi等无线传输方式存在的通信距离短、功耗高和通信成本高等问题。为了得到精确的温度值,软件采用最小二乘分段线性拟合方法进行计算,仿真结果表明该方法的最大误差温度仅为0.18 ℃。装置的实际测试结果显示软件测温方法占用内存小、计算速度快、测温精准。同时,装置的最远通信距离能达到2.5 km,电池工作寿命能达到784 d,具有通信距离远、功耗低等优点,有较好的应用价值。
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2024年第24卷第5期 pp. 050501
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发动机压力传感器补偿电路优化设计
李宇飞,石群燕,邹兴洋
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0028
摘要
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61
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(1037KB)(
79
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可视化
以某型发动机为平台,结合起动供油规律和试验数据,得出了压力传感器的精度要求。针对原压力传感器精度不满足要求的问题,在改动量最小的前提下,设计了一种以信号调理芯片MAX1452为核心的补偿电路。经试验验证,改进后的传感器精度优于±0.3%。发动机采用改进后的传感器,在地面起动时,未出现因压力测量误差导致的起动失败;在高原起动时,不经过传感器校准,起动成功率也得到大幅度提升。该方案提高了发动机起动成功率,有效减少了因大气温度或海拔高度变化对传感器校准工作的影响。
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2024年第24卷第3期 pp. 030301
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不同台阶对可润湿性侧翼QFN爬锡高度的影响
赵伶俐, 杨宏珂, 赵佳磊, 付宇, 周少明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0096
Select
高导热高温共烧陶瓷封装外壳研究进展
尚承伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0094
Select
MEMS封装LGA2x2产品切割后点胶工艺方法研究
薛岫琦, 郑志荣
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0061
摘要
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60
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(1805KB)(
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可视化
介绍了MEMS成型后点胶的通用工艺,提出了MEMS封装产品成型切割后点胶中遇到的问题。针对此次工艺进行了试验,采用数理统计方法进行了分析。对MEMS封装产品成型切割后点胶工艺方法进行研究,找出点胶实施过程的问题,实施优化切割后的点胶方法。最终采用数理统计方法验证了该点胶方法在工艺实施过程的可行性,胶水直径与胶水位置的CPK均大于1.33,数据集中过程能力优秀。与原方法对比,该方法的精度有明显提高,且满足了工艺中切割后对于点胶的要求。
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2025年第25卷第5期 pp. 050202
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塑封器件内部结构对注塑空洞影响研究
马明阳, 万达远, 李耀华, 叶自强, 赵澎, 曹森, 欧彪
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0088
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集成电路SiP封装器件热应力仿真方法研究
吴松, 王超, 秦智晗, 陈桃桃,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0116
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S波段内匹配Doherty GaN功率放大器设计
景少红,时晓航,吴唅唅,豆刚,张勇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0018
摘要
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58
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可视化
无线通信系统中,功率放大器既是发射端尺寸最大的器件,也是功耗最高的器件。为应对通信系统对功放提出的小体积、高效率的要求,介绍了一款基于GaN工艺的内匹配Doherty功率放大器。该放大器工作频率为3.4~3.6 GHz,饱和输出功率大于47 dBm,附加效率大于55%,输出功率回退4.5 dB时,附加效率大于52%。功率放大器采用内匹配技术设计,可以有效减小体积,整个放大器外封装尺寸为30.8 mm×27.4 mm。
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2025年第25卷第2期 pp. 020302
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一种高速半带插值滤波器的设计方法
*
季心洁,王志亮
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0102
摘要
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55
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为了满足高速通信系统和数字信号处理中对数据插值的需求,提出了一种基于半带滤波器的高速插值滤波器的设计方法。该方法利用半带滤波器的系数稀疏性与对称性,采用多路并行结构显著减少了乘法运算的数量和计算复杂度。详细介绍了半带滤波器的频域特性及其在插值中的应用,探讨了滤波器的设计步骤、硬件实现以及资源优化方法。仿真结果表明,该滤波器设计方法能够在保证滤波性能的前提下,大幅提升插值速度,适合高速和实时信号处理的应用场景。
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2025年第25卷第4期 pp. 040304
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VCD和WGL文件转换为ATE测试向量的方法
欧阳涛, 谭勋琼, 李振涛,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0073
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典型电源监控电路测试系统研制
文科,钟昂,戴畅,余航,罗俊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0137
摘要
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55
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(1460KB)(
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可视化
基于典型电源监控电路TPS3307-18M的电特性开展测试系统研究,分析了该款产品电参数特性。从测试系统整体功能实现、外围仪器设备使用、测试准确性、可靠性评估等方面进行了评估,通过设计电源模块、控制模块以及自控恒流源模块等完成测试系统硬件设计,采用Visual Basic编程实现上位机界面和控制操作,最终实现电源监控电路的测试系统研制,同时也为类似产品测试系统研制与设计提供思路和参考。
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2024年第24卷第10期 pp. 100304
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一种应用于胎压监测系统的低功耗低频唤醒接收机
杨艳军,陈鸣,钟福如,黄成强
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0165
摘要
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54
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(1417KB)(
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可视化
基于X-Fab 0.18 μm CMOS工艺,设计实现了一种应用于胎压监测系统的低功耗低频唤醒接收机。采用参考源来为接收机的其他模块提供偏置,以减小温度和工艺参数的影响,同时采用电容耦合的方法来消除直流失调。该接收机采用幅移键控(ASK)解调方式,载波频率为125 kHz,数据传输速率为4 kbit/s。接收机的版图面积为0.11 mm
2
。后仿真结果表明,在tm工艺角和1.8 V电源电压的条件下,该接收机工作电流为2.52 μA;在各种工艺角下,电压灵敏度为0.4 mV(峰峰值),接收信号强度指示信号的对数线性误差小于+0.1/-0.2 dB。
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2024年第24卷第12期 pp. 120303
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金属钛对金刚石/铜复合材料制备工艺及性能影响研究进展
代晓南, 王晓燕, 周雪, 白玲, 栗正新
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0081
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中低温Sn-In-Bi-(Ag,Cu)焊料成分设计及可靠性研究
梁泽, 蒋少强, 王剑, 王世堉, 聂富刚, 张耀, 周健
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0093
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先进电子封装用焊锡球关键尺寸检测研究
李赵龙, 王同举, 刘亚浩, 张文倩, 雷永平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0055
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基于晶圆级封装的微波变频SiP设计
祝军, 王冰, 余启迪, 蒋乐
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0092
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基于硅通孔的双螺旋嵌套式高密度电感器三维结构及解析模型
尹湘坤, 马翔宇, 王凤娟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0097
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基于循环内聚力模型的TSV界面裂纹扩展模拟研究
黄玉亮, 秦飞, 吴道伟, 李逵, 张雨婷, 代岩伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0114
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基于DBNet+SVTR的微电子组装电路字符识别系统
李颖,万永,罗驰,袁家军,简燕
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0040
摘要
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48
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(1687KB)(
26
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可视化
微电子组装技术的发展推动组装电路的类型和产量不断增长,因此作业智能化水平亟需提升,且需对每只电路的生产状态进行实时追踪记录。基于DBNet和SVTR网络模型的电路管壳批号识别系统采用端到端的光学字符识别(OCR)识别模型,结合分布式技术进行相关硬件部署,可实现作业任务单智能生成、作业自动记录、作业过程智能化闭环管理等功能,提升了微电子电路生产过程的智能化水平。
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2025年第25卷第4期 pp. 040205
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一款汽车电子用MCU失效分析与对策
王彬,赵志林,郭晶
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0045
摘要
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48
)
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(1710KB)(
42
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可视化
某车载电动尾门系统运行过程中,控制器直流电机运动时线缆产生的电磁辐射干扰到MCU芯片时钟路径,进一步引发内核Hardfault总线错误,导致运行故障,尾门无法到达指定位置。以MCU内核Hardfault异常为顶层事件建立故障树进行失效分析,成功定位了干扰源为直流电机线缆,干扰传播路径为空间辐射,干扰对象为MCU时钟路径,并通过故障场景复现验证了分析结果的正确性。最后从软、硬件角度提出了整改方法,对于电机运动控制系统的MCU失效分析与预防具有一定的参考借鉴价值。
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2025年第25卷第4期 pp. 040502
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R-DSP中二级Cache控制器的优化设计
*
谭露露,谭勋琼,白创
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2024.0080
摘要
(
45
)
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(1609KB)(
68
)
可视化
针对二级Cache控制器(L2)对于提升R数字信号处理器(R-DSP)访存效率和整体性能的重要作用,结合L2中涉及的内存安全维护和多请求访存仲裁问题,在现有R-DSP中L2基础上实现优化。首先,采用多重分块的存储组织结构,提高访存效率;其次,并行处理一级Cache控制器请求与外存请求,减小请求处理周期;最后,增加带宽管理与存储保护功能,合理仲裁访存请求并维护存储安全。实验结果表明,相较于传统设计,新设计在保护二级存储安全的同时实现带宽管理式访存仲裁。与现有R-DSP中的L2相比,新设计的存储体单拍最大可响应访存请求数量提升了1倍,一级请求和外存请求的平均处理时钟周期数分别降低25%和19.6%。
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2024年第24卷第7期 pp. 070302
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一种高精度离散时间Sigma-Delta调制器的设计
郭林, 万江华, 邓欢
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0057
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基于AFM-IR的电子铜箔表面痕量有机物的原位检测与去除
*
李林玲,王勇,印大维,章晨,滕超,陈葳,江伟,李大双,郑小伟,周东山,薛奇
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0032
摘要
(
44
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(2493KB)(
55
)
可视化
高性能电子铜箔是新一代通信技术所用高频高速PCB板的核心原材料之一,铜电沉积后表面吸附有机添加剂的控制对电子铜箔的性能有重要影响。基于原子力显微-红外光谱(AFM-IR)技术极高的检测灵敏度和空间分辨率,原位检测到国产铜箔表面残留的痕量有机杂质为整平剂明胶,并通过铜箔表面化学成像分析,发现这些残留的整平剂以零星状吸附于铜瘤顶部和侧面的钝化层之上。在AFM-IR方法的监测下,对二氯甲烷溶剂洗涤去除铜箔表面残留痕量有机杂质的效率进行了定量分析。相关工作将会有助于铜箔表面处理工艺的优化,以实现国产电子铜箔的高性能化。
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2025年第25卷第4期 pp. 040202
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基于Arrhenius模型的混合集成DC/DC高压电源储存寿命评估
*
黄吉,魏久富,程铭
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0033
摘要
(
44
)
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(1289KB)(
61
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可视化
储存寿命研究是评估电子设备可靠性及其使用寿命的重要方法之一。以某混合集成DC/DC高压电源为研究对象,在不同温度下进行高温加速储存寿命试验,记录包括输出电压、电压调整度和输入电流等在内的有关参数随储存时间的变化情况,引入评价参量,分析得到敏感参数;针对高温加速试验特点,选用Arrhenius模型对该电源开展常温下储存寿命评估。给出了该电源的加速寿命试验及储存寿命评估,为同类产品的储存寿命评估提供了相关参考,具有较强的理论及工程运用价值。
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2025年第25卷第4期 pp. 040203
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4通道S波段硅基SiP模块的设计与实现
傅祥雨
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0035
摘要
(
43
)
PDF
(1780KB)(
56
)
可视化
为满足下一代卫星通信机载有源相控阵天线系统小型化要求,采用三维堆叠系统级封装(SiP)中的硅通孔(TSV)技术,设计并实现一种高集成度的4通道S波段射频SiP模块。该SiP模块采用0.2 mm厚度的声表滤波器芯片,尺寸仅为15.8 mm×16.8 mm×1.95 mm,相较于传统高温共烧陶瓷封装模块,体积缩小85%以上。使用辅助设计软件对SiP模块进行设计与仿真,实测结果显示,该SiP模块在1 980~2 300 MHz频率范围内,增益为1~5 dB,幅度一致性优于±1 dB,相位一致性优于±5°,带外抑制优于30 dB(1 980~2 010 MHz频段优于50 dB)。
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2025年第25卷第4期 pp. 040302
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一款高频QFN48陶瓷管壳的设计
陈莹, 成燕燕, 王波, 李祝安
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0064
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芯片管脚热插拔失效分析和改进
戚道才, 梁鹏飞, 王彬,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0089
Select
液体环氧塑封料的应用进展
肖思成, 李端怡, 任茜, 王振中, 刘金刚,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0118
Select
动态调压加热型氧浓度检测装置设计
龚文, 龚武, 郭晶
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0078
摘要
(
38
)
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(1707KB)(
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可视化
提出了一种新型加热电路,旨在优化氧浓度检测装置的设计性能。详细介绍了氧化锆传感器的测量原理,并以32位MCU为主控核心进行了检测装置的开发。创新设计了动态调压加热电路,并建立了主控软件控制流程。在实现加热稳定和准确性方面,利用模型预测和比例-积分-微分控制算法取得了显著的进展。根据设计方案制作了实物,并进行了标定和实验验证。经过标定后,该检测装置显示出较高的氧浓度检测精度。
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2025年第25卷第5期 pp. 050501
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氮化镓(多晶硅)异质结势垒肖特基二极管的载流子传输机制研究
薛文文, 丁继洪, 张彦文, 黄伟, 张卫
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0105
Select
200 mm BCD器件用Si外延片滑移线控制研究
谢进, 邓雪华, 郭佳龙, 王银海
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0099
Select
钨粉颗粒度对高温共烧陶瓷翘曲度的影响
余焕, 吕立锋
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0095
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基于0.18 μm BCD工艺的抗辐射ESD防护器件GGNMOS优化设计
陆素先, 程淩, 朱琪, 李现坤, 李娟, 严正君
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0072
Select
一种基于电流偏置的新型上电复位电路设计
许家欣,钱逸
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0031
摘要
(
36
)
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(949KB)(
26
)
可视化
随着数字电路模块的复杂程度越来越高,上电复位(POR)电路对于在启动时初始化数字逻辑到已知的状态至关重要。基于0.18 μm工艺设计了一种新型POR电路,该POR电路基于带启动电路的电流偏置结构,电源上电更稳定,而且增加了使能端,使电路可用于低功耗场景,此外,电流镜技术和分压电阻的运用,不仅使电源阈值调节简单,还增加了迟滞,降低了输出回路的电源噪声。
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2025年第25卷第4期 pp. 040301
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一种基于SW831的高速存储数据管理方法
黄辉,吴晓庆
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0039
摘要
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36
)
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(1253KB)(
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可视化
随着信息技术的发展,数据存储对带宽和容量的要求越来越高。针对此需求,设计了一种基于SW831处理器+FPGA+非易失性存储器快速通道(NVME)的存储系统。系统前端使用FPGA采集数据,为了保证数据不丢失,FPGA先将数据缓存到内存,由于缓存空间有限,需要及时地将缓存数据写入到存储盘中。基于此目的,提出了一种基于SW831处理器的数据管理方法,通过无容错的条带化磁盘阵列(RAID0)方式管理NVME存储阵列,应用链表直接管理NVME盘的存储块,通过SW831的控制,将FPGA缓存的数据直接搬移到NVME存储盘中,有效提高了数据存储效率,经实际测试,在系统总容量为12 TB的情况下,平均存储速率可达6.4 GB/s。另外,通过管理软件的配合,用户可以以文件的方式管理、访问数据,使用较为方便。
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2025年第25卷第4期 pp. 040501
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模拟开关通用测试系统研究
钟昂,戴畅
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0043
摘要
(
35
)
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(2593KB)(
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)
可视化
传统模拟开关测试系统存在开发周期长、部分参数测试精度不够的通用问题,逐渐无法满足当前高性能器件大批量生产测试的要求。利用共用母板的兼容性和大型测试机台的精准性、稳定性,设计了一套基于V93000自动测试设备的模拟开关通用测试系统,该系统可调性强、兼容性广、精度高,且易于操作,新产品测试开发时只需经过简单的硬件设计,并通过简单的可视化窗口软件调试即可,大大缩短了模拟开关类器件测试系统的开发周期,提高了效率,降低了测试成本,并保证了测试参数的准确性和稳定性。
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2025年第25卷第4期 pp. 040207
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1 200 V SiC器件单粒子烧毁效应研究
徐海铭, 王登灿, 吴素贞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0080
Select
耦合声子晶体对声波器件品质因子的提高
黄泽宙, 胡婉雪, 沈宇恒, 方照诒, 沈坤庆
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0101
Select
高活性杨梅状多孔微米银颗粒及低温烧结互连
董镈珑,李明雨
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0144
摘要
(
34
)
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(442KB)(
43
)
可视化
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2025年第25卷第5期 pp. 050601
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临时键合工艺中晶圆翘曲研究
李硕, 柳博, 叶振文, 方上声, 陈伟, 黄明起
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0124
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塑封集成电路焊锡污染影响与分析
邱志述, 胡敏
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0062
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高效率LSTM硬件加速器设计与实现
陈铠, 贺傍, 滕紫珩, 傅玉祥, 李世平
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0103
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金属种子层PVD溅射系统在板级先进封装中的应用
张晓军, 李婷, 胡小波, 杨洪生, 陈志强, 方安安
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0113
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面向手势识别的CMOS图像读出电路设计
李浩钰, 顾晓峰, 虞致国
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0076
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基于CAN总线的CKS32远距离在线升级设计与实现
谢金峰, 刘涵, , 赵本田,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0070
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应用于人脸检测的智能CMOS图像传感器设计
李文卓, 顾晓峰, 虞致国
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0077
Select
IPM封装模块焊接与金线键合工艺研究
王仙翅, 刘洪伟, 刘晓鹏, 蔡钊, 朱亮亮, 杜隆纯,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0079
Select
随机振动下QFP封装加固方式的可靠性研究
郭智鹏, 李佳聪, 张少华, 何文多
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0125
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一款用于高性能FPGA的多通道HBM2-PHY电路设计
徐玉婷, 孙玉龙, 曹正州, 张艳飞
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0117
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四甲基氢氧化铵溶液温度对硅槽刻蚀的研究
张可可, 赵金茹, 周立鹏
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0115
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Sn-Pb铜核微焊点液-固界面反应及力学性能研究
丁钰罡, 陈湜, 乔媛媛, 赵宁
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0119
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一种应用于电流舵DAC的熔丝校准方法
何光旭,袁何龙,王佳琪
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0038
摘要
(
27
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(1126KB)(
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可视化
为解决电流舵DAC中的电流源失配问题,提出了一种熔丝校准方法,通过静态校准技术来修正工艺偏差带来的电流源失配,其核心是熔丝预编程架构,允许对多个独立的熔丝校正单元执行多次预写迭代烧录,从而微调电流输出,直至通过实际测试验证满足既定性能标准,最终执行永久烧录。设计的电路基于0.18 μm CMOS工艺流片,测试结果表明,电路的DNL从校准前的-0.1~0.299 LSB降到校准后的-0.05~0.197 LSB。
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2025年第25卷第4期 pp. 040303
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窄间距多芯片自动共晶焊接工艺研究
贾海斌, 赵彬彬, 高婷
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0136
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基于SnO
2
/Co
3
O
4
的微波丙酮气体传感器
周腾龙, 吴滨, 秦晟栋, 吴蓓, 梁峻阁
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0100
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基于SiP微系统的DSP微组件测试方法研究
赵桦, 朱江, 宋国栋, 张凯虹, 奚留华
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0071
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基于AiP8F7232的无刷电动工具控制器设计
马文博, 蔡嘉威, 罗明
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0112
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面向碳纳米管集成电路的新型静电放电防护结构研究
金浩然, 刘俊良, 梁海莲, 顾晓峰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0109
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布局驱动的混合流装箱
董志丹, 许慧, 肖俊
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0065
摘要
(
25
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(1161KB)(
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可视化
对于整个电路,所有基本逻辑单元(BLE)连接都是通过它们之间的线网来进行。装箱会改变线网之间的连接方式,而不同的线网连接方式最终对应的运行时间是不一样的。提出的混合流装箱首先根据混合首选聚类算法对BLE进行全局最优配对,最大限度减少关键路径上的时延;其次根据配对BLE的最大和最小亲和力值计算极差,根据极差计算平衡电路时序和面积的阈值,当BLE之间的亲和力值小于阈值时通过“爬山”算法保证了装箱面积不会过大。整个算法时序计算是在布局后进行,能够得到更准确的时序信息,选出更优的关键路径进行装箱,提高了时序余量,减少了电路的最终运行时间。
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2025年第25卷第5期 pp. 050301
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JESD204B型多通道高速SiP处理芯片的设计与分析
盛沨, 田元波, 谢达
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0120
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某MEMS垂直探针在针测行程作用下的屈曲力学行为研究
秦林肖
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0052
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一种智能检测仪表的设计与实现
陈涛, 武明月, 位门, 周扬
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0126
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塑封集成电路焊锡污染影响与分析
邱志述, 胡敏
DOI: DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0062
摘要
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(933KB)(
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可视化
塑封集成电路(IC)受潮气侵蚀造成离子污染而引起的可靠性问题较为常见,由印刷电路板焊锡污染而引起的则不多。介绍印刷电路板焊锡污染导致IC可靠性失效的实际案例,指出焊锡污染发生的条件,通过对IC塑封体元素成分的分析,得出焊锡污染可能导致IC可靠性失效的原因。通过对失效品加热及再次老化,让IC性能恢复和再次失效。从原理上解释了焊锡污染IC封装塑封体是不可恢复的,在特定条件下还可能会再次失效。对SMT工程师给出建议,以避免类似焊锡污染IC导致可靠性失效。
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2025年第25卷第5期 pp. 050201
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SiC MOSFET的单粒子漏电退化研究
徐倩, 马瑶, 黄文德, 杨诺雅, 王键, 龚敏, 李芸, 黄铭敏, 杨治美,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0127
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一种支持循环缓冲的中断系统的设计与验证
沈一帆, 谭勋琼
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0060
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系统级封装模组高可靠封焊技术研究
成嘉恩, 姬峰, 张鹏哲, 兰元飞, 何钦江, 兰梦伟, 王明伟
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0134
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先进封装驱动下的片上互连技术发展态势研究
王翰华, 崔忠杰
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0135
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电子元器件真空灌封工艺技术研究
姜万红, 吴文单
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0148
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氮化镓基传感器研究进展
刘诗旻, 陈佳康, 王霄, 郭明, 王利强, 王鹏超, 宣艳, 缪璟润, 朱霞, 白利华, 尤杰, 陈治伟, 刘璋成, 李杨, 敖金平,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0143
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真空加热炉温度均匀性提升研究
徐星宇, 李早阳, 史睿菁, 王成君, 王君岚, 罗金平, 金雨琦, 朱帆, 张辉
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0152
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基于晶圆级键合技术的传感器封装研究进展
贝成昊, 喻甜, 梁峻阁
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0150
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大功率LED投光灯死灯、暗亮失效分析探究
冯学亮, 刘兴龙, 周小霍, 吴冰冰, 曾志卫
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0106
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玻璃通孔技术的射频集成应用研究进展
喻甜, 陈新, 林景裕, 钟毅, 梁峻阁, 顾晓峰, 于大全,
DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2025.0128
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