电子与封装 ›› 2016, Vol. 16 ›› Issue (5): 43 -47. doi: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2016.0064
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党元兰1,赵飞1,韩磊2,徐亚新1,梁广华1,刘晓兰1,3,陈雨1,3,庄治学1,3
DANG Yuanlan1,ZHAO Fei1,HAN Lei2,XU Yaxin1,LIANG Guanghua1,LIU Xiaolan1,3,CHEN Yu1,3,ZHUANG Zhixue1,3
摘要: 在柔性LCP基板上制备RF MEMS开关,加工难度较大,影响开关质量的因素较多。主要研究影响LCP基RF MEMS开关加工质量的主要因素,寻找工艺过程控制解决方案。通过对关键工序的试验,对加工过程中的基板清洗、LCP基板覆铜面镀涂及整平、LCP基板无铜面溅射金属膜层、LCP基板平整度保持、二氧化硅膜层生长及图形化、牺牲层加工、薄膜微桥加工、牺牲层释放等工序进行了参数优化。研制的LCP基RF MEMS开关样件频率≤20 GHz、插入损耗≤0.5 dB,回波损耗≤-20 dB,隔离度≥20 dB,驱动电压30~50 V。该加工方法对柔性基板上可动结构的制造具有一定的借鉴价值。
中图分类号: