掩模图形切割方式对曝光时间的影响研究

中国半导体行业协会封装分会会刊

中国电子学会电子制造与封装技术分会会刊

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掩模图形切割方式对曝光时间的影响研究

张鹏，魏晓群，胡超

Influence of Mask Pattern Cutting Mode on Exposure Time

ZHANG Peng,WEI Xiaoqun,HU Chao

电子与封装 . 2017, (11): 39 -43 . DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2017.0136