中国半导体行业协会封装分会会刊

中国电子学会电子制造与封装技术分会会刊

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电子与封装 ›› 2017, Vol. 17 ›› Issue (11): 39 -43. doi: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2017.0136

• 微电子制造与可靠性 • 上一篇    下一篇

掩模图形切割方式对曝光时间的影响研究

张 鹏,魏晓群,胡 超   

  1. 无锡中微掩模电子有限公司,江苏无锡 214000
  • 收稿日期:2017-07-19 出版日期:2017-11-20 发布日期:2017-11-20
  • 作者简介:张 鹏(1982—),男,山东海阳人,毕业于东南大学计算机系,中微掩模公司CAD部经理,主要从事掩模数据处理工作。

Influence of Mask Pattern Cutting Mode on Exposure Time

ZHANG Peng,WEI Xiaoqun,HU Chao   

  1. Wuxi Zhongwei Mask Electronics Co Ltd,Wuxi 214000,China
  • Received:2017-07-19 Online:2017-11-20 Published:2017-11-20

摘要: 掩模生产过程中,数据处理为至关重要的一环,利用专用数据处理软件,将客户设计的图形数据进行图形分割后转换成满足不同曝光机台的数据格式。通过调整数据处理软件的相关参数来研究对激光束曝光机、电子束曝光机曝光数据图形切割方式(fracture)的影响。通过实验数据确认图形切割方式的改变对两种曝光机台曝光时间的影响,最后通过合理优化参数值,在保证图形稳定性的同时,缩短曝光机台曝光时间,达到提升生产效率的目的。

关键词: 图形分割, 参数, 曝光时间

Abstract: In the process of mask production,the data processing as a vital part,using the special data processing software to segment the graphic data of customer design into the data format of different exposure machines.In this paper,byadjusting the parameters of the data processing software to studythe influence of the laser beam exposure machine,electron beam exposure machine exposure data pattern cutting mode(fracture).The influence of the change of graphic cutting mode on the exposure time of two kinds of exposure machines is confirmed byexperimental data.Finally,through the reasonable optimization of the parameter value,in order to ensure the stability of the graphics,shorten the exposure time of the exposure machine,and ultimately achieve the purpose of improving production efficiency.

Key words: graph partition, parameter, exposure time

中图分类号: