电子与封装 ›› 2019, Vol. 19 ›› Issue (8): 036 -38. doi: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2019.0810
花正勇,马艺珂,殷亚楠,周昕杰,陈 瑶,姚 进,周晓彬
HUA Zhengyong,MA Yike ,YIN Yanan,ZHOU Xinjie,CHEN Yao,YAO Jin,ZHOU Xiaobin
摘要: 文章利用计算机辅助设计Silvaco TCAD仿真工具,研究了0.13 μm全耗尽绝缘体上硅(FD-SOI)晶体管单粒子瞬态效应,分析了不同线性能量转移 (LET)、单粒子入射位置和工作偏置状态对单粒子瞬态的影响。结果表明,LET值的增加会影响沟道电流宽度,加大单粒子瞬态峰值及脉冲宽度。受入射位置的影响,由于栅极中央收集的电荷最多,FD-SOI器件的栅极中央附近区域单粒子瞬态效应最敏感。单粒子瞬态与器件工作偏置状态有很强的相关性,器件处于不同工作偏置状态下,关态偏置受单粒子效应影响最大,开态偏置具有最小的瞬态电流峰值和脉宽。
中图分类号: