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张慧1,郑志伟2,张辉3,王成君3,4
ZHANG Hui1, ZHENG Zhiwei2, ZHANG Hui3, WANG Chengjun3,4
摘要: 综述了半导体晶圆键合力控制技术的研究现状与发展趋势。首先介绍了晶圆键合的基本原理和分类,分析了键合力在晶圆键合过程中的关键作用。随后详细阐述了影响键合力的主要因素,包括表面形貌、清洁度、化学处理、温度与压力参数等。重点探讨了直接键合、阳极键合、黏合剂键合等典型键合技术的力学控制方法,并介绍了界面表征与键合力测量的关键技术。进一步分析了晶圆键合力控制面临的挑战,提出了未来发展方向,为半导体制造领域的键合工艺优化提供参考。