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张家驹1,闫闯1,刘俐2,刘国友3,周洋4,刘胜1,陈志文1
ZHANG Jiaju1, YAN Chuang1, LIU Li2, LIU Guoyou3, ZHOU Yang3, LIU Sheng1, CHEN Zhiwen1
摘要: 目前,在高压和低压功率电子应用中,硅基MOSFET和IGBT正分别占据主流。由于Si材料特性的限制性,新型功率器件不断涌现,如碳化硅、氮化镓等第三代宽禁带半导体材料及金刚石、氧化镓等超宽禁带半导体材料的新型器件。本文回顾了MOSFET、IGBT以及GaN HEMT三类功率电子器件的结构发展历程,综述了这三类器件朝向宽禁带半导体器件发展的结构进展,分析了各结构的设计特点及在击穿电压、热管理、开关特性等方面的提高,并讨论了方案利弊;最后,分别论述了其发展过程中遇到的问题,并对未来发展方向进行了展望。