摘要: 对溅射原理进行了详细的分析,对溅射设备的结构组成进行了概括性的说明。研究了溅射腔室的传统工艺处理流程,并提出了新的工艺处理流程。实验表明,新的工艺流程更加省时省力,效果上也更好,应用于实际中,带来了一定的经济效益。
中图分类号:
王海东. 溅射设备腔室处理工艺的优化研究[J]. 电子与封装, 2016, 16(4):
45 -47.
WANG Haidong. The Optimization Study on Process Flow of Sputter Equipment Chamber[J]. Electronics & Packaging, 2016, 16(4):
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