中国半导体行业协会封装分会会刊

中国电子学会电子制造与封装技术分会会刊

导航

电子与封装 ›› 2020, Vol. 20 ›› Issue (3): 030402 . doi: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.0311

• 微电子制造与可靠性 • 上一篇    下一篇

P型外延电阻率表面态的研究

仲张峰,韩旭,潘文宾,葛华,尤晓杰,王银海,杨帆   

  1. 南京国盛电子有限公司,南京  211111
  • 发布日期:2020-03-26
  • 作者简介:仲张峰(1987—),男,江苏海 安人,南京大学物理学院硕士研究 生,中国电子科技集团公司第五十五 研究所工程师,主要研究方向为硅外 延工艺。

Study on the Surface State of P-type Epitaxial Resistivity

ZHONG Zhangfeng, HAN Xu, PAN Wenbin, GE Hua, YOU Xiaojie, WANG Yinhai, YANG Fan   

  1. Nanjing Guosheng Electronic Co., Ltd, Nanjing 211111, China
  • Published:2020-03-26

摘要: P型硅外延材料是制备微波功率器件的关键基础材料,其电阻率的一致性直接影响器件的性能和 可靠性。研究通过对Si、N、B 3种元素进行电负性对比,结合P型外延片电容-电压法(CV法)测试波动 和纵向载流子分布(SRP)比较分析,确定了造成P型外延电阻率波动的主要原因,并通过对表面态的控 制找到解决方案。

关键词: P型, 表面态, 纵向载流子分布(SRP), 电负性

Abstract: P-type silicon epitaxial material is the key material for microwave power devices. The consistency of its resistivity directly affects the performance and reliability of the devices. In this study, the main cause of the resistivity fluctuation of P-type epitaxy is determined by comparing the electronegativity of Si, N and B, and by the analysis of CV(Capacitance-Voltage method) test fluctuation and the spreading resistivity profile (SRP). And the solution to the fluctuation is found by controlling the surface state.

Key words: P-type, surface state, spreading resistivity profile(SRP), electronegativity

中图分类号: