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岳聚民1,2,王方成1,2,孙蓉1,2,张国平1,2,刘强1,2
YUE Jumin1,2, WANG Fangcheng1,2, SUN Rong1,2, ZHANG Guoping1,2, LIU Qiang1,2
摘要: 随着摩尔定律的发展逐渐趋缓,异质异构集成技术成为延续系统性能提升、实现功能多样性的关键途径。2.5D/3D集成和晶圆级封装等先进封装技术依赖于芯片的超薄化处理,其中临时键合与解键合工艺直接影响集成系统良率与可靠性。近年来,光控解键合技术因其非接触、低应力、能量局域可控等优势受到广泛关注。本文系统综述了激光解键合、光子解键合与光可逆解键合三种主流光控解键合技术的基本原理、材料体系与工艺特性,总结了其最新研究进展,并从能量控制方式、热影响、工艺兼容性等方面对各项技术进行了综合比对,最后探讨了其面临的技术挑战与未来发展趋势,期望为高性能异质集成系统的先进封装工艺选择提供参考。