集成电路掩模分辨率增强技术

doi:10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.1113

电子与封装 ›› 2020, Vol. 20 ›› Issue (11): 110402 . doi: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.1113

集成电路掩模分辨率增强技术

华卫群,周家万,尤春

无锡中微掩模电子有限公司，江苏无锡　214001

收稿日期:2020-06-09 发布日期:2020-08-26
作者简介:华卫群（1970—），男，江苏无锡人，本科，高级工程师，现从事集成电路掩模制造研究。

Mask Resolution Enhancement Technologyfor IC

HUA Weiqun, ZHOU Jiawan, YOU Chun

Wuxi ZhongweiMask Electronic Co., Ltd.,Wuxi 214001, China

Received:2020-06-09 Published:2020-08-26

摘要/Abstract

摘要： 随着大规模集成电路技术的飞速发展，掩模分辨率增强技术变得越来越重要。介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术，重点介绍了3种技术的作用和具体做法。

关键词: 掩模, 分辨率增强技术, 相移掩模, 光学邻近效应修正, 光源掩模协同优化

Abstract: With the rapid development of LSI technology, resolution enhancement technology becomes more and more important. In this paper, the phase-shifting mask technology, optical proximity correction technology and source mask optimization technology in mask resolution enhancement technology are introduced.

Key words: mask, resolution enhancementtechnology , PSM, OPC, SMO

中图分类号:

TN305.7

华卫群;周家万;尤春. 集成电路掩模分辨率增强技术[J]. 电子与封装, 2020, 20(11): 110402 .

HUA Weiqun, ZHOU Jiawan, YOU Chun. Mask Resolution Enhancement Technologyfor IC[J]. Electronics & Packaging, 2020, 20(11): 110402 .

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中国半导体行业协会封装分会会刊

中国电子学会电子制造与封装技术分会会刊

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Mask Resolution Enhancement Technologyfor IC

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