摘要： 随着半导体工业的不断发展，掩模上图形的尺寸也越来越小，邻近效应越来越严重，对邻近效应的修正也就越发重要、越发困难。主要介绍了邻近效应及其产生机理，并以Leica SB350电子束曝光机为手段，结合实验数据，使用PARAPROX软件建立PEC（proximity effect correction parameter files）文件，确定相应校正参数，对邻近效应进行修正，在实际应用中取得了较好的效果。
中图分类号:
尤 春，刘维维. 电子束曝光邻近效应修正研究[J]. 电子与封装, 2018, 18(10):
40 -43.
YOU Chun, LIU Weiwei. Proximity Effect Correction in E-Beam Lithography[J]. Electronics & Packaging, 2018, 18(10):
40 -43.
