基于SKILL语言的参数化抗辐射器件版图设计

doi:10.16257/j.cnki.1681-1070.2016.0107

电子与封装 ›› 2016, Vol. 16 ›› Issue (9): 31 -34. doi: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2016.0107

基于SKILL语言的参数化抗辐射器件版图设计

胡永强，周　源

中国电子科技集团公司第58研究所，江苏无锡 214035

收稿日期:2016-04-27 出版日期:2016-09-20 发布日期:2016-09-20
作者简介:胡永强（1983—），男，山东平邑人，四川大学微电子理学学士，主要从事全定制版图设计、数字电路后端设计，对参数化单元（PCELL）设计、抗辐照标准单元建库以及集成电路ESD保护设计有丰富经验。

Layout Design of SKILL-based Parameterized Radiation-hardened Device

HU Yongqiang,ZHOU Yuan

China Electronics Technology Group Corporation No.58 Research Institute，Wuxi 214035，China

Received:2016-04-27 Online:2016-09-20 Published:2016-09-20

摘要/Abstract

摘要： SKILL语言是IC设计业界采用的主要软件Cadence EDA提供的编程开发语言，用户可以基于SKILL语言对EDA设计环境进行定制设计或拓展。参数化单元（Parameter Cell，PCELL）可以根据设计规则（Design Rule）通过器件的W、L等参数实现对器件版图层次（Layer）的控制。另一方面抗辐射器件版图的特殊设计形式对版图设计工作提出了新的要求。阐述了通过SKILL语言实现的一款参数化抗辐射器件版图的设计理念和方法，并且在Cadence Design Framework（DFII）中编译调试和优化，实现了该版图的结构，较大幅度地提高了版图设计工作的效率。

关键词: SKILL, 参数化单元, 抗辐射, 器件版图

Abstract: SKILL is a programming language provided by Cadence EDA,based on which users customize the EDA design environment.Parameter CELL　（PCELL）controls layout layers using parameters like W and L, and the radiation-hardened device layout in turn poses new challenges to the designing work.The paper introduces a new layout designing method for skill-based parameterized radiation-hardened device and obtains the layout using Cadence Design Framework（DFII）.

Key words: SKILL, parameter cell, radiation hardening, device layout

中图分类号:

TN402

胡永强，周　源. 基于SKILL语言的参数化抗辐射器件版图设计[J]. 电子与封装, 2016, 16(9): 31 -34.

HU Yongqiang,ZHOU Yuan. Layout Design of SKILL-based Parameterized Radiation-hardened Device[J]. Electronics & Packaging, 2016, 16(9): 31 -34.

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中国半导体行业协会封装分会会刊

中国电子学会电子制造与封装技术分会会刊

基于SKILL语言的参数化抗辐射器件版图设计

Layout Design of SKILL-based Parameterized Radiation-hardened Device

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