|
基于晶圆级封装技术的声表面波滤波器
王祥邦,刘敬勇,李勇
描述了一种基于晶圆级封装的超小型声表面波滤波器,采用载板通孔的方式实现了从芯片到滤波器的输出,最终产品的尺寸和芯片尺寸一致,产品部分性能优于传统封装滤波器,为实现将声表面波滤波器和PA、开关等射频器件整合成为模块奠定了基础。
X
王祥邦,刘敬勇,李勇. 基于晶圆级封装技术的声表面波滤波器[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 1-3.
WANG Xiangbang,LIU Jingyong,LI Yong. Surface Acoustic Wave Filters Based on Wafer Level Chip Scale Package[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 1-3.
|
|
高机械冲击应力下集成电路金属封装一种失效模式分析
张君利,苏杨,李波,刘海亮
对某集成电路在高机械冲击过载(冲击加速度为8000g~10000g、冲击脉冲宽度为2.5 ms)时出现的金属封装引脚失效进行了分析。采用Proe软件建模和ANSYS结构力学软件对失效机理进行了仿真验证。根据失效机理,优化了环氧灌封工艺方法,使集成电路与其安装PCB及结构框架达到良好的一体化结构,解决了失效问题。
X
张君利,苏杨,李波,刘海亮. 高机械冲击应力下集成电路金属封装一种失效模式分析[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 4-6.
ZHANGJunli,SU Yang,LIBo,LIU Hailiang. An Failure Mode Analysis of IC Metal Package Under High Mechanical Shock Stress[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 4-6.
|
|
微波产品焊点典型失效模式可靠性研究
李泊
微波元器件引线和基板的互连方式较多,为了保证产品性能,最理想的方式是将其引线直接与基板搭焊,但这种方式仅靠焊料和引线的形变来释放应力,有一定的局限性,因此常常出现焊点开裂失效的问题。为了评估微波产品焊点释放应力的能力,介绍了在微波产品中典型的三种高热应力焊点失效模式,分析了焊点开裂的机理。使用ANSYS软件对其应力进行了仿真,结合焊点位移量及其所带来的焊点剪切应变来评估焊点热疲劳寿命,并验证了这些方法的可行性和实用性,最后提出了高应力焊点相应的工艺设计优化措施,对提高焊点可靠性具有重要的指导作用。
X
李泊. 微波产品焊点典型失效模式可靠性研究[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 7-12.
LI Bo. Reliability Study on Typical Failure Modes of Solder Joints about Microwave Products[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 7-12.
|
|
基于自动测试仪的阻抗测试方法
杨婷,崔海龙
在高速集成电路测试中,阻抗不连续会影响集成电路信号传输的特性。介绍了一种利用自动测试仪实现阻抗测试的方法,首先介绍传输线理论并说明阻抗产生的原理,结合电路仿真确定阻抗测试方案,利用自动测试仪产生阶跃信号,并检测反射信号的波形得到传输线的阻抗特性,从而为集成电路测试提供有效的分析依据。
X
杨婷,崔海龙. 基于自动测试仪的阻抗测试方法[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 13-15.
YANG Ting,CUI Hailong. Test Method of Impedance Based on Automatic Tester[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 13-15.
|
|
一款10位逐次逼近型模数转换器设计
车来晟,唐鹤,高昂,牛胜普
基于0.18μm CMOS工艺设计一款10位逐次逼近型模数转换器(SARADC),采用了阻容混合型的数模转换器(DAC)以实现面积与性能上的折衷,高位采用温度码设计以提高DAC的线性度。采用了失调电压较小的静态比较器结构,通过在DAC和比较器之间加入了高增益的前置放大器来消除比较器失调电压对ADC性能所带来的影响。仿真结果表明:在电源电压为2.8 V、采样速率为116 kS/s、输入信号频率约为57 kHz、满摆幅为0.8 V的情况下,ADC有效位数(ENOB)达9.99位,信噪失真比(SNDR)为61.9dB,无杂散动态范围(SFDR)为75.57dB,总功耗约为1mW,面积为0.069 mm2。
X
车来晟,唐鹤,高昂,牛胜普. 一款10位逐次逼近型模数转换器设计[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 16-19.
|
|
一种带自校准的12-bit SAR-ADC设计
许卫明,张金萍,刘俐,庄志伟
X
许卫明,张金萍,刘俐,庄志伟. 一种带自校准的12-bit SAR-ADC设计[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 20-23.
XU Weiming,ZHANG Jinping,LIU Li,ZHUANG Zhiwei. A Design of Self-Calibration 12-bit SAR-ADC[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 20-23.
|
|
一种空间固态配电保护电路的厚膜化设计与实现
倪春晓,苏筱,赵国清
X
倪春晓,苏筱,赵国清. 一种空间固态配电保护电路的厚膜化设计与实现[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 24-28.
NIChunxiao,SU Xiao,ZHAOGuoqing. Thick Film Design and Implementation of a Space Solid State Power Distribution Protection Circuit[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 24-28.
|
|
基于转速估计的永磁同步电机MTPA控制
支强,尧骏,张晓飞
X
支强,尧骏,张晓飞. 基于转速估计的永磁同步电机MTPA控制[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 29-32.
ZHI Qiang,YAO Jun,ZHANG Xiaofei. MTPA Control for Permanent Magnet Synchronous Motor Based on Rotation Speed Estimation[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 29-32.
|
|
基于环形振荡器的物理不可克隆函数的设计与验证
胡鹏,魏江杰,周昱,张荣,魏敬和
为了验证物理不可克隆函数(Physical Unclonable Function,PUF)的有效性,试验必须针对大量芯片的微延迟特性进行建模。尽管仿真的方式能够提供近似的结果,但通过片上试验能获得更加精确的结果。借助FPGA工具制造硬宏,在多块同型号FPGA上分析了基于环形振荡器(Ring Oscillator,RO)的物理不可克隆函数。其核心步骤是通过对相邻RO的振荡频率计数后相互比较,得到1024比特长度的响应输出。在多次试验测试后,得到了片内和片间汉明距,并作为PUF性能的指标参数——唯一性、可靠性。结果表明,常温下的平均唯一性为48.01%,平均可靠性为1.75%。
X
胡鹏,魏江杰,周昱,张荣,魏敬和. 基于环形振荡器的物理不可克隆函数的设计与验证[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 33-36.
HU Peng,WEI Jiangjie,ZHOU Yu,ZHANG Rong,WEI Jinghe. Design and Verification of RO-based PUF on FPGA[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 33-36.
|
|
GaAs通孔刻蚀微掩模形成机理研究
高渊
通孔刻蚀是GaAs制造工艺的重要环节,通过通孔刻蚀工艺实现GaAs背面和正面金属导通互连。在通孔刻蚀工艺中,微掩模的形成对器件性能及可靠性产生不利影响。微掩模将阻碍GaAs刻蚀,形成柱状堵孔以及侧壁聚合物等,造成后续背面金属接触不良、粘附不牢,进而影响通孔接触电阻、电感等关键参数,最终影响器件性能及可靠性。分析了GaAs微掩模形成的主要原因和形成机理,通过工艺优化解决了通孔刻蚀堵孔及侧壁聚合物等问题,从而提高了器件性能及可靠性。
X
高渊. GaAs通孔刻蚀微掩模形成机理研究[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 37-39.
GAOYuan. The Research of Micro Mask Formation Mechanism in GaAs Via Etching Process[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 37-39.
|
|
高频双极晶体管工艺特性研究
赵圣哲,张立荣,宋磊
高频双极晶体管由于具有高频、电流放大等特性,已广泛应用到放大器电路、电动机、高频雷达、航空航天工程等领域。对目前典型的高频双极晶体管制作工艺进行了分析与探讨,重点研究了制作工艺中的难点,包括集电极深N阱工艺、多晶硅刻蚀工艺、多晶硅发射极工艺。设计并试制了工程样品,对于关键工艺对器件结构及参数的影响进行了详细的研究,可为实际的生产制造提供理论指导。
X
赵圣哲,张立荣,宋磊. 高频双极晶体管工艺特性研究[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 40-44.
ZHAO Shengzhe,ZHANG Lirong,SONG Lei. Process Characteristics Research of High Frequency Bipolar Transistors[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 40-44.
|
|
基于GaN HEMT的S波段大功率内匹配功放管设计
陈晓青,戈硕,时晓航
采用GaN HEMT功率芯片研制了一款应用在S波段的宽频段、大功率、高效率的功率放大器。通过load-pull技术牵引得出GaN管芯在此频段的输入阻抗和输出阻抗。在设计过程中,采用多节阻抗匹配变换器实现了宽带的功率分配和合成。此款内匹配功率管最终实现了如下性能指标:工作脉宽100μs,在400 MHz的工作带宽下脉冲输出功率大于800 W,漏极效率大于60%。
X
陈晓青,戈硕,时晓航. 基于GaN HEMT的S波段大功率内匹配功放管设计[J]. 电子与封装, 2019, 19(7): 45-48.
CHEN Xiaoqing,GE Shuo,SHI Xiaohang. Design of S-Band High Power Internally Matched Power Amplifier Based on the GaN HEMT[J]. Electronics and Packaging, 2019, 19(7): 45-48.
|
|